JPH05206752A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JPH05206752A
JPH05206752A JP4014751A JP1475192A JPH05206752A JP H05206752 A JPH05206752 A JP H05206752A JP 4014751 A JP4014751 A JP 4014751A JP 1475192 A JP1475192 A JP 1475192A JP H05206752 A JPH05206752 A JP H05206752A
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JP
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voltage
current
circuit
channel transistor
power supply
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Withdrawn
Application number
JP4014751A
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English (en)
Inventor
Hitoshi Tanaka
田中  均
Yoshinobu Nakagome
儀延 中込
Jun Eto
潤 衛藤
Koji Kawamoto
耕志 河本
Toshiyuki Sakuta
俊之 作田
Hidetoshi Iwai
秀俊 岩井
Masakazu Aoki
正和 青木
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Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】消費電流が小さい基準電圧発生回路を提供す
る。 【構成】チップ上に少なくとも1個の基準電圧発生回路
と、その出力電圧に比例した電圧を発生しチップ内回路
に電流を供給する電流バッファ回路を有し、該基準電圧
発生回路のうち少なくとも1個は、定電流回路(Q1〜
Q4、RR)、該定電流回路とカレントミラー回路を構
成する複数のトランジスタ(Q5、Q6)、該複数のト
ランジスタの出力電流を電圧に変換する複数の抵抗(R
F1、RF2)、および該複数の抵抗の両端に発生する
複数の電圧(VLN、VLA)を入力とし、それらのう
ちから最も高いものを出力する機能を有する回路(OR
AMP)で構成する。 【効果】基準電圧発生回路で用いる差動アンプの数を低
減し、その安定度を増加させるとともに、消費電力を一
層小さくする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電池で動作する半導体
集積回路に好適な内部電圧用基準電圧発生回路およびそ
の電流バッファ回路に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体の微細加工技術の発展によ
りメガビット級の容量を持つメモリが主流となってい
る。このような大容量メモリにおいては、デバイスの耐
圧低下と消費電力の増大のため従来と同じ電源電圧で動
作させることは困難になる。このため、16Mビット以
上のDRAMでは電圧リミッタを搭載し、電源電圧は従
来のままで、チップ内部の電圧は電圧リミッタにより降
圧して動作させる方式が主流となっている。一方、微細
加工技術とともに実装技術も発展し、32ビットCPU
を搭載したノート型パーソナルコンピュータが普及して
きた。このような携帯用機器ではバッテリーの持続時間
が重要となる。このため、動作時の消費電力の大きいフ
ロッピーディスクドライブやハードディスクドライブ等
の機器を、電池でバックアップした半導体メモリで置き
換えようという試みがある。上記半導体メモリは、コス
トと実装密度の点からDRAMを用いる方が有利であ
る。しかし、DRAMを上記のような携帯用機器に使用
する場合には以下の問題がある。図4は従来のDRAM
の電圧変換回路(または電圧リミッタ)の基準電圧発生
回路である。この回路は、例えば"DUAL-REGULATOR DUAL
-DECODING-TRIMMER DRAMVOLTAGE LIMITER FOR BURN-IN
TEST,"1991 Symposium on VLSI Circuits Digest of Te
chnical Papers,vol.14-2,pp.127-128,June 1991.に示
されている。
【0003】図4に示すように基準電圧発生回路は、M
OSトランジスタのしきい電圧の差を接地線と電源線を
基準として出力する回路(QF1〜QF4、IC1〜I
C4)とそれらの電圧を所望の値まで増幅する回路(A
MP1、AMP2、QF5、QF6、R1〜R4)およ
び上記2種類の電圧の内高いほうを選択的に出力する回
路(AMP3、QF7)から構成される。ここで、QF
1、QF2、IC1、IC2で構成される回路は、標準
の電源電圧において内部電圧の基準となる電圧を発生さ
せる回路で電源電圧VCCに依存しない。一方、QF
3、QF4、IC3、IC4で構成される回路は、デバ
イスの初期不良を落すため標準の電源電圧以上で行なう
バーンインテストにおいて内部電圧の基準となる電圧を
発生させる回路で電源電圧VCCに比例して高くなる。
また、AMP3とQF7、QF5で構成される回路は、
上記基準電圧を電源電圧VCCによって自動的に切り替
える働きをする。同図より明らかなように、この回路で
は3個の差動アンプを使用する。これらの差動アンプは
QF5〜QF7と組み合わされて2段構成のアンプとな
る。このため、ループの位相は最悪の場合180度以上
回転し、電源投入時に発振や大きなリンギングを生ずる
可能性がある。そこで、差動アンプにはR1〜R4に流
れる電流と同程度かそれ以上の電流を流して、差動アン
プでの位相の回転を少なくしておく必要がある。これに
要する電流はチップ1個あたりおよそ100μAにな
る。ハードディスクドライブをDRAMで置き換える場
合、16MビットDRAMで10個から20個程度必要
となるからスタンバイ時でも数mAの電流が流れること
になる。これでは、数日程度しかデータを保持すること
ができずハードディスクドライブの代替としては不十分
である。
【0004】また、DRAMではリップルモードやスタ
ティックカラムモードのように行アドレスを固定したま
ま列アドレスのみでアクセスする高速アクセスモードが
ある。このため、このモードを多用する機器では行アド
レスストローブ信号(RASB)をLOWにしたままに
しておいた方が制御回路が簡単になる。このように、R
ASBを長時間LOWにしたままで内部のクロック信号
が止った状態を、RASBがHIGHのときのスタンバ
イ状態と区別してRAS-LOWスタンバイ状態と言
う。従来、基準電圧発生回路の電流バッファ回路は、R
ASBがLOWの間はすべて動作し、同回路内の差動ア
ンプには、電流が流れ続けていた。この電流は、前述の
基準電圧発生回路の電流の数十倍に達する。このため、
前述のような制御をした場合、消費電流が非常に大きく
なるという問題があった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
技術で作られたDRAMは、基準電圧発生回路に大きな
電流が流れていたためスタンバイ時でも消費電流が大き
く、電池バックアップした場合、電池の持続時間が短く
なるという問題があった。
【0006】本発明の目的は、消費電流が小さい基準電
圧発生回路を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、特許請求の範囲に記載のように、以下の手段を講じ
た。即ち、 1.チップ上に少なくとも1個の基準電圧発生回路、そ
の出力電圧に比例した電圧を発生する電流バッファ回
路、その電圧を受けるメモリセルアレーあるいは論理回
路を有する半導体チップにおいて、該基準電圧発生回路
は、少なくとも、MOSトランジスタのしきい電圧差と
抵抗を基準として外部電源電圧に依存しない第1の定電
流を作る手段、該第1の定電流に比例した第2の定電流
を作る少なくとも1個のカレントミラー手段および、一
端がそれらのカレントミラー手段の出力端に、他端が高
電位側の電源または接地電位側の電源に接続された抵抗
よりなる電流電圧変換手段からなり、該抵抗の両端の電
位差を基準電圧とすることこととした。
【0008】2.上記第1の電流を作る手段は、第1、
第2のPチャネルトランジスタ、第1、第2のNチャネ
ルトランジスタ、および抵抗で構成され、該第1のPチ
ャネルトランジスタのソ−スは高電位側の電源に、該第
2のPチャネルトランジスタのソ−スは該抵抗の一端
に、該抵抗の他の一端は高電位側の電源に、該第1、第
2のPチャネルトランジスタのゲートは該第1のPチャ
ネルトランジスタのドレインに、該第1、第2のNチャ
ネルトランジスタのドレインはそれぞれ該第1、第2の
Pチャネルトランジスタのドレインに、ソ−スは接地電
位側の電源に、該第1、第2のNチャネルトランジスタ
のゲートは該第2のNチャネルトランジスタのドレイン
に接続され、該第1、第2のPチャネルトランジスタの
しきい電圧のうち該第2のしきい電圧の方が低いことと
した。
【0009】3.上記第1の電流を作る手段の抵抗にお
いて、複数の中間タップとスイッチ用トランジスタ、お
よびヒューズによる該スイッチ用トランジスタの切り換
え回路を設け、その抵抗値を外部よりプログラムできる
ようにしたこととした。
【0010】4.上記基準電圧発生回路において、該電
流電圧変換手段と電流バッファ回路の間に電圧利得1の
バッファ回路を有し、該バッファ回路は少なくとも第
1、第2のPチャネルトランジスタと第1、第2、第
3、第4のNチャネルトランジスタから構成され、該第
1、第2のPチャネルトランジスタのソ−スは高電位側
の電源に、ゲ−トは該第1のPチャネルトランジスタの
ドレインに接続され、該第1、第2のNチャネルトラン
ジスタのドレインはそれぞれ該第1、第2のPチャネル
トランジスタのドレインに、ソ−スは該第4のNチャネ
ルトランジスタのドレインに、該第3のNチャネルトラ
ンジスタのドレインは該第1のPチャネルトランジスタ
のドレイン、ソースは該第4のNチャネルトランジスタ
のドレインに、該第4のNチャネルトランジスタのソー
スは接地電位側の電源に、ゲートは電源電圧またはそれ
より低い電圧を発生する回路に接続され、該第1および
該第3のNチャネルトランジスタのゲ−トには、上記複
数の基準電圧が入力されることとした。
【0011】5.上記基準電圧発生回路において、該カ
レントミラー手段の出力端と接地電位側の電源との間に
電流バイパス用トランジスタを設け、電源投入直後に該
トランジスタをオンさせ、電源電圧が安定した後はオフ
させることとした。
【0012】6.上記基準電圧発生回路において、該カ
レントミラー手段の出力端と接地電位側の電源との間に
コンデンサを、また上記第1の電流を作る手段の抵抗お
よび電流電圧変換用抵抗の下にそれぞれシールド板を設
け、該第1の電流を作る手段の抵抗のシールドは高電位
側の電源に、該電流電圧変換用抵抗のシールドは接地電
位側の電源に接続することとした。
【0013】本手段は、基準電圧発生回路の安定度を増
加させるとともに差動アンプの数を低減し、消費電力を
一層小さくするものである。
【0014】7.チップ上に、データ線、ワード線、メ
モリセル、センスアンプおよび該データ線へデータを選
択的に入出力するためのスイッチからなるメモリセルア
レーと該ワード線に供給する電圧を発生するための昇圧
回路を有し、該電流バッファ回路とそのオン、オフを制
御する回路をデータ線と昇圧回路用にそれぞれ別々に設
け、データ線用電流バッファ回路の制御回路は、チップ
選択信号とYデコーダ駆動信号を受けワンショットパル
スを発生し、センスアンプがデータ線信号の増幅を完了
するまでの間とデータをメモリセルアレー外に読み出す
間およびデータをメモリセルに書き込む間、該電流バッ
ファ回路を活性化し、また該昇圧回路用電流バッファ回
路の制御回路は、チップ選択信号と該昇圧回路の出力電
圧がデータ線電圧とメモリセルのスイッチトランジスタ
のしきい電圧の和より下がったことを示す信号を受けワ
ンショットパルスを発生し、昇圧動作の間該電流バッフ
ァ回路を活性化することこととした。
【0015】本手段は、基準電圧発生回路の電流バッフ
ァ回路の消費電力を一層小さくするものである。
【0016】
【作用】基準電圧発生回路は、定電流回路と抵抗で構成
され、出力電圧はその抵抗の両端に電流値と抵抗値の積
として生ずる。このうち、電流はカレントミラー回路の
トランジスタのチャネル長とチャネル幅で、抵抗は抵抗
層の長さと幅で自由に制御することが出来る。このた
め、電圧増幅用のアンプが不要となりその分消費電力が
少なくなる。
【0017】また、基準電圧発生回路の定電流源を、M
OSトランジスタのしきい電圧差をその低しきい電圧側
のMOSトランジスタのソースに接続した抵抗で補償す
る回路とすることにより、その電流値はしきい電圧差と
抵抗のみで決まるようになるため、温度依存性の無い安
定な基準電圧を発生することが可能となる。
【0018】さらに、上記抵抗の下にシールド層を設
け、上記低しきい電圧側のMOSトランジスタのソース
に接続した抵抗に対しては高電位側の電源に、他の抵抗
に対しては低電位側の電源に接続することにより、基板
からのノイズに対してはシールド効果が、また高電位側
の電源からのノイズに対しては位相遅れの補償効果が生
ずるため出力電圧変動と定電流源トランジスタのソース
電位のアンバランスに伴う電流変動が少なくなる。これ
により、ノイズに対して安定な基準電圧を発生すること
が可能となる。
【0019】また、電圧選択回路は、通常の2入力型差
動アンプの入力トランジスタと並列に入力トランジスタ
を追加接続することにより、1個の差動アンプだけで構
成できるため、従来より少なくとも差動アンプ1個が低
減できその分消費電力が少なくなる。
【0020】また、メモリにおいて基準電圧発生回路の
電流バッファ回路とそのオン、オフを制御する回路をデ
ータ線と昇圧回路用にそれぞれ別々に設け、データ線用
電流バッファ回路の制御回路は、チップ選択信号とYデ
コーダ選択信号を受けワンショットパルスを発生し、セ
ンスアンプがデータ線信号の増幅を完了するまでの間、
データをメモリセルアレー外に読み出す間およびデータ
をメモリセルに書き込む間それを活性化し、また該昇圧
回路用電流バッファ回路の制御回路は、チップ選択信号
と該昇圧回路の出力電圧がデータ線電圧とメモリセルの
スイッチトランジスタのしきい電圧の和より下がったこ
とを示す信号を受けワンショットパルスを発生し、昇圧
動作の間それを活性化することによって、電流バッファ
回路は、たとえチップセレクト信号がイネーブル状態で
あっても負荷が動作している間のみ動作させることが可
能となるため、基準電圧発生回路とあわせてさらに低消
費電力化が可能となる。
【0021】
【実施例】図1および図2に、本発明の1実施例を示
す。本実施例の特徴は、MOSトランジスタのしきい電
圧差を基準とした定電流源(Q1〜Q6、RR)を設け
その出力電流を抵抗により電圧に変換していることであ
る。また、上記定電流源によりVSSを基準とした電圧
VLNとVCCを基準とした電圧VLAを発生し、それ
らの電圧を論理的OR機能を有するアンプ(ORAM
P)に入力し、より高いほうの電圧を選択的に出力する
ようにしたことである。以下、本実施例の動作を説明す
る。
【0022】まず、図1においてQ1〜Q4、RRは一
般的なMOSトランジスタのしきい電圧差を利用した定
電流源である。ここで、Q1、Q2はゲートサイズが等
しいPチャネルMOSトランジスタでQ2のほうがΔV
Tだけしきい電圧が低く設定されている。また、Q3、
Q4は、ゲートサイズもしきい電圧も等しいNチャネル
MOSトランジスタでカレントミラー回路を構成する。
このため、Q2を流れる電流はQ1と等しくなろうとし
て、Q2のゲート-ソース間電圧をQ1のそれよりΔV
Tだけ低くする。その結果そのしきい電圧差ΔVTが抵
抗RRの両端に生ずる。すなわち、Q1、Q2には一定
電流ΔVT/RRが流れることになる。一方、Q5、Q
6はそれぞれQ1、Q4とでカレントミラー回路を構成
する。このため、Q1とQ5、Q4とQ6でそれぞれし
きい電圧とチャネル長が等しいとすれば、Q5、Q6に
は、それぞれQ1、Q4に流れる電流に比例した電流が
流れることになる。ここで、Q1、Q4に流れる電流は
ΔVT/RRである。従って、Q1とQ5、Q4とQ6
のチャネル幅比をそれぞれW(Q1):W(Q5)、W
(Q4):W(Q6)とすれば、抵抗RF1、RF2の
両端の電圧VLN、VLAは、それぞれ ΔVT×(RF1/RR)×{W(Q5)/W(Q1)}…(式1) ΔVT×(RF2/RR)×{W(Q6)/W(Q4)}…(式2) と表される。すなわち、電圧VLN、VLAは、しきい
電圧差と抵抗比およびチャネル幅比の3つの要素で決定
される。一般に、しきい電圧差は温度依存性がほとんど
なく、また抵抗比およびチャネル幅比はプロセス条件の
変動による加工ばらつきはない。従って、本実施例によ
れば温度依存性もプロセスばらつきもない安定な基準電
圧を得ることが出来る。また、安定化のために余分な電
流を流す必要のある差動アンプを用いないので消費電力
を極めて小さくできる。さらに、図1に示すVLN’、
VLA’の様に抵抗RF1、RF2の任意の点より複数
の電圧を同時に取り出す事ができるので、新たに基準電
圧発生回路を設ける必要がなく、その分低消費電力化で
きる。なお、上記定電流源において、Q1、Q2のしき
い電圧を等しくし、Q2のソースを電源に直結し、その
かわりに、Q3のしきい電圧をQ4より低くし、Q3の
ソースに抵抗を挿入しても同様な定電流特性が得られる
ので、それを用いてもよい。
【0023】図2は、図1に示したORAMPの具体的
な実施例である。本実施例の特徴は、一般的なカレント
ミラーアンプQA1〜QA5に入力トランジスタQA6
を付加し、QA4のゲートを第1の正入力(IN1)、
QA6のゲートを第2の正入力(IN2)、QA4のゲ
ートを負入力(IN3)とし、これに負帰還を施すこと
により、アナログ的ORすなわち2つの入力信号の内い
ずれか高い方のみを増幅して出力する機能を持たせたこ
とである。以下この動作を説明する。
【0024】たとえば、OUTとIN3端子を接続し、
IN1、IN2端子にそれぞれV1、V2の電圧を印加
した場合を考える。このとき、V1>V2ならばそれら
の共通ソースの電位VSは高い方の電圧で決まりVS=
V1−VT−αとなる。このとき、QA6のゲート−ソ
ース間電圧VGSは、V2−VSであるからVS=V1
−VT−αを代入してVGS=V2−V1+VT+αと
なる。ここでα≪VTとするとV1>V2であったから
VGS<VTとなりQA6はオフ状態となる。一方、Q
A4のゲート−ソース間電圧はVOUT−(V1−VT
−α)で、カレントミラー負荷QA1、QA2によりQ
A3と等しい電流が流れるからゲート−ソース間電圧も
QA3と等しくなければならない。従って、VOUT−
(V1−VT−α)=V1−(V1−VT−α)よりV
OUT=V1となる。同様にしてV1<V2の場合はV
2が出力される。すなわち、2つの入力電圧のうち高い
方の電圧が出力される。
【0025】図3に64MビットDRAMにおける基準
電圧の電源電圧依存性の例を示す。この例では、電源電
圧の標準を3.3V、内部電圧の標準を2.2Vとし
た。また、バーンインモードでは内部電圧VCC−1.
8となるように設定した。
【0026】以上のように本実施例によれば、カレント
ミラー型アンプ1個だけでアナログ的OR機能を持たせ
ることができるので消費電力が小さく、またレイアウト
面積の小さな基準電圧発生回路を実現できる。
【0027】図1に示す定電流源は、電流0とΔVT/
RRに安定点を持つ。このため、電源投入直後のように
初期電流が0の場合、電流0がそのまま安定状態となっ
てしまう可能性がある。図5、図6はその問題を解決す
るための回路と電源投入時の各ノードの波形である。本
実施例の特徴は、電源投入時に定電流源に強制的に電流
を流す回路を設けたことである。また、同時に、それに
よる出力電圧のオーバーシュートを防止する回路を設け
たことである。その回路は、QI1、QI2、QI3、
QI4、QI5、I1、I2で構成される。以下その動
作を説明する。
【0028】図5において電源投入時、ノードIP1
は、QI2のゲート容量によって電源VCCLとともに
上昇する。このとき、インバータI1の出力IP2はV
SSのレベル、その反転信号FUSLはVCCレベルで
ある。このためQI1はオン状態となりQI3のゲート
電圧VGNを上昇させる。このため、Q3、Q4がオン
し定電流回路Q1〜Q4に電流が流れ始める。それと同
時に、QI3もオンしノードIP1の電位は、やがて上
昇から下降に転ずる。そして、その電位がI1の論理し
きい値よりも低くなったときIP2はVCCレベルとな
りQI1はオフとなる。このとき、FUSLはVCCレ
ベルからVSSレベルに変化する。このため、これま
で、QI4、QI5により上昇を抑えられていたVL
N、VLAは一度に上昇を始める。また、それと同時に
VLも上昇する。一方、定電流源Q1〜Q4の電流は帰
還作用により増加を続け、ΔVT/RRとなったところ
で停止する。以上のように、本実施例によれば定電流源
に起動電流を与え、さらに電源電圧が変化している間は
出力電圧が出ないようにすることができるので、電源投
入時に出力電圧の立ち上がりを速くすると同時にオーバ
ーシュートをなくすことができる。
【0029】また、図5において抵抗RR、RF1、R
F2には基板に対するシールドが施されている。これ
は、それらの抵抗は数100KΩから数MΩという高い
値を用いるため、基板からのノイズを受けやすくなるた
めである。、また、それらのシールド層は、それぞれV
CC、VSSに接続されているがこれは、電源雑音によ
り出力電圧が変動するのを防ぐためである。ここで、V
CC、VSSに分けられているのは以下の理由による。
【0030】まず、RRの場合、もしシールド層がな
く、その寄生容量が基板やVSSに対して存在するだけ
なら、VCCに雑音が重畳したばあい、ノードAには電
源より遅れた位相の雑音が現われる。このため、Q1と
Q2のゲート-ソース間電圧が安定点よりずれてその電
流値が変動する。そして、その変動は電圧に変換されて
VLN、VLAを通してVLに現われる。そこで、RR
の下にシールド層を設けそれをVCCにすると寄生容量
の一端はVCCに接続されることになり、VCCの雑音
はそれを通して遅延なくノードAに伝達される。このた
め、Q1とQ2のゲート-ソース間電圧は、一定に保た
れ電流は変化しない。
【0031】一方、RF1とRF2の場合は、RRと状
況が異なる。メモリ等の内部電圧は、VSSを基準とし
ているためVSSに対して一定であることが望ましい。
そこで、RF1、RF2の下にシールド層を設けそれを
VSSにすると寄生容量の一端はVSSに接続されるこ
とになり、VLN、VLAに現われたVCCの雑音はそ
れを通してVSSにバイパスされVLN、VLAは一定
に保たれる。抵抗のシールドの例を図14に示す。本実
施例では、抵抗はゲートに用いられる最下層のポリシリ
コン層で形成されている。このため、シールド層として
はウエル層を用いる。本例では、p形基板を想定してい
るのでウエル層の形はnとなる。そこで、ウエル層への
給電は同図に示すように、n形拡散層を通して行なう。
n形基板の場合は、もちろんp形拡散層を通して行なう
ことになる。
【0032】なお、図5でCD1〜CD4で示すコンデ
ンサ接続されているがこれはVCCの雑音をVSSにバ
イパスするためのものである。
【0033】以上のように、抵抗の下にシールド層を設
け定電流源側のものをVCCに、電流電圧変換回路側の
ものをVSSに接続することにより電源雑音に対しても
安定な基準電圧を発生することができる。
【0034】また、図5においてRRは、RXおよびR
X1〜RX15に分割され、スイッチトランジスタQX
0〜QX15のいずれかをオンさせることによってその
値をトリミングできるようになっている。これは、Q
1、Q2のしきい電圧差のプロセスばらつきを補償する
ためである。式1より、たとえばしきい電圧差ΔVTが
小さくなった場合は、RRの値を小さくすればVLNを
一定に保つことがわかる。スイッチトランジスタの切り
替え信号F0〜F15は、図7に示す回路によって発生
される。
【0035】図7においてFLは、ヒューズによるプロ
グラム回路でヒューズが切断されているときはVCCレ
ベルを、また切断されていないときはVSSレベルを出
力する。本例では、この回路は4回路あり切断の仕方に
よって16通りの信号を発生する。この4ビットの信号
は、次段のインバータおよび4入力NANDによるデコ
ード回路で前述のF0〜F15までの16個の信号に分
解される。なお、ここで、QT1は上記プログラム回路
を電源投入時に初期化するするためのトランジスタで、
FLのヒューズが切れている場合は、そのノードNFを
VSSレベルに、切れていない場合はVCCにする。こ
の、初期化を行なうための信号には前述のFUSL信号
を用いる。
【0036】以上のように、定電流源の抵抗の値をトリ
ミングできるようにすることによって、基準電圧は、Q
1、Q2のしきい電圧差にプロセスばらつきがあっても
適正な範囲に設定することが可能となる。
【0037】図8は、周辺回路(ワード線電圧発生回
路)用電流バッファの実施例である。本実施例の特徴
は、常時動作するバッファSTLMとワード線電圧発生
回路の出力VCHが基準のレベルより下がったときにの
み動作するバッファVCLMを並列に接続したことであ
る。以下回路構成と動作を説明する。
【0038】まず、バッファVCLMは、QL1〜QL
5で構成される差動アンプとQL7、QL8で構成され
る出力バッファ、QL6の出力バッファ制御トランジス
タおよびRc、Ccの位相補償回路で構成される。そし
て、信号HLEによりその動作が制御される。すなわ
ち、HLEがVCCのときQL5がオン、QL6がオフ
となり動作、VSSのときQL5がオフ、QL6がオン
となり非動作となる。STLMも同様に差動アンプQL
9〜QL12と出力バッファQL14で構成されるが、
制御信号が異なる。その制御信号VLGTは、通常VC
Cで、内部回路の電圧依存性のテスト時のように外部よ
り直接電圧を印加するときのみVSSとする。一方、負
荷であるワード線電圧発生回路はリングオシレータ、チ
ャージポンプ回路、整流回路、レベルシフタ、レベル検
知回路で構成される。ここで、レベルシフタはVCHか
らメモリセルのスイッチトランジスタのしきい電圧VT
C分だけ低い電圧を出力する。一方、レベル検知回路
は、レベルシフタの出力電圧と基準電圧VCLを比較し
てレベルシフタの出力電圧が低くなるとhighレベル
(VCC)を出力する。すなわち、VCHがVCL+V
TCより低くなるとhighレベル(VCC)を出力す
る。この信号は、チップセレクト信号の内部信号R1P
と合成されてリングオシレータの制御信号となる。リン
グオシレータは、自励式の発振機でチャージポンプ回路
の駆動信号を発生する。チャージポンプ回路は、コンデ
ンサを用いた昇圧回路で通常VCCと2VCCのレベル
のパルスを発生する。また、整流回路と容量CDはその
出力を整流平滑し2VCCの電圧を発生する。この一連
の回路は、一種の負帰還ループを形成しVCHはほぼV
CL+VTCに保たれる。制御信号HLEは図11に示
すように、リングオシレータの出力信号PHIの立ち上
がりと立ち下がりの両方でVCCとなるようにしてい
る。これは、チャージポンプ回路のコンデンサの昇圧時
とプリチャージ時の両方で大きな電流を必要とするため
である。図12にHLE発生回路を示す。この回路は、
インバータID12〜ID15、トランジスタQD1
0、QD11、MOSキャパシタCM5〜CM7で構成
される遅延回路と排他的論理和回路EORで構成され
る。つまり、信号PHIを遅らせた信号とそのままの信
号を比較すると、立ち上がりと立ち下がりで論理的な不
一致が生ずる。そこでEORでそれらの信号の排他的論
理和をとると、PHIの立ち上がりと立ち下がりで遅延
回路の遅延時間分の幅を持ったパルスを発生することが
できる。これが、HLE発生回路の動作原理である。
【0039】図9は、データ線(およびセンスアンプ)
用電流バッファの実施例である。本実施例の特徴は、セ
ンスアンプによるメモリセル信号増幅時とデータのIO
線への読みだし時、および書き込み時にのみ動作するバ
ッファVDLMを接続したことである。以下回路構成と
動作を説明する。
【0040】まず、バッファVDLMは、QM1〜QM
5で構成される差動アンプとQM7、QM8で構成され
る出力バッファ、QM6の出力バッファ制御トランジス
タおよびRc、Ccの位相補償回路で構成される。そし
て、信号RLEによりその動作が制御される。すなわ
ち、RLEがVCCのときQM5がオン、QM6がオフ
となり動作、VSSのときQM5がオフ、QM6がオン
となり非動作となる。
【0041】次に、メモりセルの信号の読みだしと書き
込みについて説明する。まず、メモりセルの信号は、ワ
ード線WをhighにすることでCSよりデータ線Dに
現れる。このとき、データ線電圧はVDL/2になって
おりCSの電荷の有無によりそのレベルが上がるか下が
るかがきまる。本例ではCSに電荷があり、そのレベル
が上がるとする。次に、SANをhigh、SAPをl
owにすることによりQS8、QS7をオンさせ、セン
スアンプ(QS3〜QS6)を動作させる。そうする
と、データ線の信号は増幅されてD、DBにはVDLお
よびVSSの電圧が現れる。次に、YデコーダYDを選
択してYSをhighにする。そうすると、QS1、Q
S2がオンしIO、IOBとD、DBが接続される。こ
のとき、IO線プルアップ信号REBはlow、QS1
1、QS12はオン状態で、IO、IOBはVDLとな
っている。このため、VSSとなっているDBの方に向
かってQS12、QS2、QS6、QS8の順に電流が
流れIOBの電圧はVDLよりさがる。そして、そのI
O、IOBの電圧差をメインアンプMAで増幅しチップ
外へDoとして出力する。次に、書き込みの場合は、ま
ず、ワード線Wをhighにして書き込むメモリセルを
選択しておく。そして、チップ外よりデータDiを入力
しそれをライトバッファWRDでIO、IOBに転送す
る。次に、YSをhighにしてQS1、QS2をオン
させ、D、DBと接続する。そうすると、ライトデータ
はQCSを通してCSに書き込まれる。そして、YS
線、ワード線をlowにして書き込みを終了する。な
お、このとき、WRDの負担を軽くするためRESをh
ighにしQS11、QS12をオフにしておく。以上
が、メモリアレーの基本的な動作である。
【0042】次に、VDLに流れる電流について説明す
る。電流はまずセンスアンプを起動したときに流れる。
これは、データ線容量をVDL/2からVDLにまで充
電するためである。次に流れるのはデータを読み出すた
めYSをhighにしたときである。これは、Yゲート
QS1、QS2がオンすることによってVDLからQS
12、QS2、QS6、QS8を通しての電流パスがで
きるためである。また、書き込み時にも電流が流れるこ
とがある。それは、一旦読み出したデータと逆のデータ
を書き込むときである。これは、データを反転する途中
でD、DBの電圧がVDLとVSSの中間の電圧となり
センスアンプのトランジスタがすべてオン状態になるた
めである。
【0043】以上のように、VDLには常に電流が流れ
るわけではなく上記3つの場合だけである。このため、
VDLMバッファは、センスアンプによるメモリセル信
号増幅時とデータのIO線への読みだし時、および書き
込み時にのみ動作するようにすれば、性能はそのままで
無駄な電力消費をなくすることができる。RLEは、そ
のための制御信号である。RLE発生回路を図12に、
またその入力と出力波形を図11に示す。RLE発生回
路は、同図に示すようにR1Pの立ち上がりで幅tw1
(50ns〜100ns)のパルスを、またMAEQB
とW3Bの立ち下がり、またはWYP信号の立ち上がり
で幅tw2(10nsから20ns)のパルスを発生す
る。ここで、上記信号を用いたのは、R1Pはセンスア
ンプの起動前、MAEQBは読みだし動作を開始する
前、W3B、WYPは書き込み動作を開始する前からア
クティブ状態となり、いずれもYゲートQS1、QS2
が開いている間はアクティブ状態になっているためであ
る。なお、R1PはRASBの内部信号、MAEQBは
メインアンプの起動信号、W3BはWEBの内部信号、
WYPは書き込み時のYS起動信号である。また、図1
2において、インバータID7〜ID11、ND4〜N
D7、CM1〜CM4、QD7〜QD9はパルス伸長回
路である。これは、WYP、W3B受けそのパルス幅を
書き込みに充分な幅に広げ、また、MAEQBをそのま
ま通過させる働きをする。また、ID1〜ID3、QD
1〜QD5、DLLは、ワンショットパルス発生回路
で、R1Pの立ち上がりを検出してそこからセンスアン
プの動作に充分な一定の幅のパルスを発生させる。上記
2つのパルスは、ND2で負論理のORをとられ、ND
3、ID6を介してRLEとして出力される。
【0044】以上のように、ワード線電圧発生回路用電
流バッファは、ワード線電圧発生回路のチャージポンプ
信号PHIの立ち上がり部と立ち下がり部のみに、ま
た、データ線用電流バッファは、RASBの内部信号R
1Pの立ち上がりからセンスアンプの増幅完了までと、
読みだし、書き込み動作を終了するまで、すなわちYゲ
ートが開いている間のみに動作を限定させることによっ
てRAS LOWスタンバイ状態での消費電流をゼロに
することができる。
【0045】図13は、これまでに述べた基準電圧発生
回路と各電流バッファを64MビットDRAMに適用し
た場合のチップ上の配置例を示したものである。本実施
例の特徴は、(1)メモりセルアレーを4つに分割して
それぞれの近傍に電流バッファを配置し、さらにそれら
の電流バッファごとに電源用ボンディングパッドを設
け、(2)ワード線電圧発生回路用電流バッファはチッ
プ中央に、また(3)基準電圧発生回路はチップの一番
端に配置したことである。
【0046】まず、(1)の利点は、ボンディングパッ
ドから電流バッファ、メモりセルアレーにいたる電源配
線が短くなり抵抗が減少するため、データ線信号を高速
に増幅できることである。また、電流バッファごとに電
源用ボンディングパッドを設けることによって、ボンデ
ィングワイヤのインダクタンスによる電圧降下が減少す
るため、これも信号増幅の高速化に寄与する。(2)の
利点は、電流バッファからチップ端のメモリアレーまで
の距離が最短になって、VCH線の電圧降下を最小にで
きることである。なお、ワード線に流れる電流はデータ
線の1/10と小さいのでデータ線の場合のように分割
配置までする必要はない。(3)の利点は、チップの端
は周辺回路の信号線がないためそれらとの容量結合によ
る基準電圧の変動がないことである。このため、内部回
路が動作中でも安定な基準電圧を供給できる。ここで、
基準電圧はチップの反対側に配置された電流バッファま
で伝送しなければならないが、このとき周辺回路の信号
線と接近してそのノイズを受ける可能性がある。そこ
で、本実施例では、基準電圧線の両横にその線と同じ層
で、また下にそれより下の導電層でシールドを施してい
る。
【0047】以上のように、本実施例によれば、基準電
圧の安定化とメモリ動作の高速化を同時に実現すること
ができる。
【0048】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば基準電圧
発生回路は、基準となる定電流源とカレントミラー回路
および抵抗で構成されるので、電圧増幅用のアンプが不
要となりその分消費電力が少なくなる。
【0049】また、電圧選択回路は、通常の2入力型差
動アンプの入力トランジスタと並列に入力トランジスタ
を追加接続することにより、1個の差動アンプだけで構
成できるため、従来より少なくとも差動アンプ1個が低
減できその分消費電力が少なくなる。
【0050】また、基準電圧発生回路の定電流源を、M
OSトランジスタのしきい電圧差をその低しきい電圧側
のMOSトランジスタのソースに接続した抵抗で補償す
る回路とすることにより、その電流値はしきい電圧差と
抵抗のみで決まるようになるため、温度依存性の無い安
定な基準電圧を発生することが可能となる。
【0051】さらに、上記抵抗の下にシールド層を設
け、上記低しきい電圧側のMOSトランジスタのソース
に接続した抵抗に対しては高電位側の電源に、他の抵抗
に対しては低電位側の電源に接続することにより、基板
からのノイズに対してはシールド効果が、また高電位側
の電源からのノイズに対しては位相遅れの補償効果が生
ずるため出力電圧変動と定電流源トランジスタのソース
電位のアンバランスに伴う電流変動が少なくなる。これ
により、ノイズに対して安定な基準電圧を発生すること
が可能となる。
【0052】また、メモリにおいて基準電圧発生回路の
電流バッファ回路とそのオン、オフを制御する回路をデ
ータ線と昇圧回路用にそれぞれ別々に設け、データ線用
電流バッファ回路の制御回路は、チップ選択信号とYデ
コーダ選択信号を受けワンショットパルスを発生し、セ
ンスアンプがデータ線信号の増幅を完了するまでの間、
データをメモリセルアレー外に読み出す間およびデータ
をメモリセルに書き込む間それを活性化し、また該昇圧
回路用電流バッファ回路の制御回路は、チップ選択信号
と該昇圧回路の出力電圧がデータ線電圧とメモリセルの
スイッチトランジスタのしきい電圧の和より下がったこ
とを示す信号を受けワンショットパルスを発生し、昇圧
動作の間それを活性化することによって、電流バッファ
回路は、たとえチップセレクト信号がイネーブル状態で
あっても負荷が動作している間のみ動作させることが可
能となるため、基準電圧発生回路とあわせてさらに低消
費電力化が可能となる。
【0053】従って、以上の発明を組み合せれば電源電
圧や基板電圧ノイズに対して安定でかつ低消費電力の半
導体集積回路を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の基本構成
【図2】ORアンプの構成
【図3】図1の回路の電源電圧依存性
【図4】従来技術
【図5】基準電圧発生回路の全回路
【図6】基準電圧発生回路の電源投入時の特性
【図7】基準電圧トリミング回路
【図8】周辺回路用電流バッファの構成
【図9】データ線用電流バッファとメモリアレーの構成
【図10】メモリアレー関連信号のタイムチャート
【図11】電流バッファ制御信号と内部クロックのタイ
ムチャート
【図12】電流バッファ制御回路の構成
【図13】電流バッファと基準電圧発生回路のチップ内
配置
【図14】抵抗シールドの例
【符号の説明】
VCC…高電位側外部電源電圧の総称 VCCP…周辺回路用高電位側外部電源電圧 VCCL…基準電圧発生回路用高電位側外部電源電圧 VCDL、VCDL0〜VCDL3…データ線用高電位
側外部電源電圧 VSS…低電位側外部電源電圧の総称 VSSP…周辺回路用低電位側外部電源電圧 VSSD0〜VSSD3…データ線用低電位側外部電源
電圧 VSSL…基準電圧発生回路用低電位側外部電源電圧 VLN、VLN’…標準内部動作電圧 VLA、VLA’…内部エージング電圧 VL…基準電圧 VCH…ワード線電圧 VDL…データ線電圧 VCL…ワード線電圧発生回路電源電圧 IN1、IN2、IN3…ORAMP入力信号 OUT…ORAMP出力 F0〜F15…トリミング信号 FUSL…パワーオンリセット信号 RASB…行アドレス取り込み信号(チップセレクト信
号) WEB…ライトイネーブル信号 Ai…アドレス信号 AYi、FY…内部Yアドレス信号 WYP…ライト時YS制御信号 W3B…内部ライトイネーブル信号 RLE…データ線用電流バッファ制御信号 HLE…ワード線電圧発生回路用電流バッファ制御信号 R1P…行アドレス取り込み信号の内部信号 MAEQB…メインアンプ出力イコライズ信号 PHI…リングオシレータ出力 IO、IOB…データ入出力線 YS…Yスイッチ選択信号(Yデコーダ出力) REB…IO線プルアップ信号 EQB…IO線イコライズ信号 Di、Do…外部入力データ、外部出力データ W…ワード線 DEQ…データ線イコライズ信号 SAN、SAP…センスアンプ起動信号 Q1、Q5、QF2、QF4、QD1、QD2、QD
7、QD9…標準しきい電圧PチャネルMOSトランジ
スタ Q2、QI2、QA1、QA2、QRF、QF5、QF
7、QI1、QL1、QL2、QL6、QL7、QL
9、QL8、QL13、QL14、QM1、QM2、Q
M6、QM7、QM8、QS3、QS4、QS7、QS
9、QS10、QS11、QS12…低しきい電圧Pチ
ャネルMOSトランジスタ QF1、QF3…高しきい電圧PチャネルMOSトラン
ジスタ Q3、Q4、Q6、QA3〜QA6、QF6、QI3、
QI3〜QI6、QL3、QL4、QL5、QL10、
QL11、QL12、QM3、QM4、QM5、QS
5、QS6、QS8…低しきい電圧NチャネルMOSト
ランジスタ QD3〜QD6、QD8…標準しきい電圧NチャネルM
OSトランジスタ QX0〜QX15…トリミング用スイッチトランジスタ QCS…メモりセルスイッチトランジスタ CM1〜CM7…MOSキャパシタ RX、RX1〜RX15…トリミング用抵抗 FUS0〜FUS3…トリミング用ヒューズ RR、RF1、RF2、R1〜R4…抵抗 CD1〜CD4、CD…平滑コンデンサ CS…メモリセル DLL…信号遅延線 ORAMP…アナログ的OR機能を持った差動アンプ AMP1〜AMP3…差動アンプ IC1〜IC4…定電流源 I1、I2、IT1〜IT4、ID1〜ID18…イン
バータ回路 NA0〜NA15、ND1〜ND8…2入力NAND回
路 EOR…イクスクルーシブOR回路 TG1〜TG7…タイミング発生回路 ATD…アドレス遷移検出回路 VWG…ワード線電圧発生回路 HLEG…HLE信号発生回路 VCLM、STLM…ワード線電圧発生回路用電流バッ
ファ回路 VDLM…データ線用電流バッファ YD、YDEC…Yデコーダ XD、XDEC…Xデコーダ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中込 儀延 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 衛藤 潤 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 河本 耕志 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 作田 俊之 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 岩井 秀俊 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 青木 正和 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】チップ上に少なくとも1個の基準電圧発生
    回路、その出力電圧に比例した電圧を発生する電流バッ
    ファ回路、その電圧を受けるメモリセルアレーあるいは
    論理回路を有する半導体チップにおいて、該基準電圧発
    生回路は、少なくとも、MOSトランジスタのしきい電
    圧差と抵抗を基準として外部電源電圧に依存しない第1
    の定電流を作る手段、該第1の定電流に比例した第2の
    定電流を作る少なくとも1個のカレントミラー手段およ
    び一端がそれらのカレントミラー手段の出力端に、他端
    が高電位側の電源または接地電位側の電源に接続された
    抵抗よりなる電流電圧変換手段からなり、該抵抗の両端
    または、該抵抗の任意の点と該電源との電位差を基準電
    圧とすることを特徴とする半導体集積回路。
  2. 【請求項2】上記第1の電流を作る手段は、第1、第2
    のPチャネルトランジスタ、第1、第2のNチャネルト
    ランジスタ、および抵抗で構成され、該第1のPチャネ
    ルトランジスタのソ−スは高電位側の電源に、該第2の
    Pチャネルトランジスタのソ−スは該抵抗の一端に、該
    抵抗の他の一端は高電位側の電源に、該第1、第2のP
    チャネルトランジスタのゲートは該第1のPチャネルト
    ランジスタのドレインに、該第1、第2のNチャネルト
    ランジスタのドレインはそれぞれ該第1、第2のPチャ
    ネルトランジスタのドレインに、ソ−スは接地電位側の
    電源に、該第1、第2のNチャネルトランジスタのゲー
    トは該第2のNチャネルトランジスタのドレインに接続
    され、該第1、第2のPチャネルトランジスタのしきい
    電圧のうち該第2のしきい電圧の方が低いことを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載の半導体集積回路。
  3. 【請求項3】上記第1の電流を作る手段の抵抗におい
    て、複数の中間タップとスイッチ用トランジスタ、およ
    びヒューズによる該スイッチ用トランジスタの切り換え
    回路を設け、その抵抗値を外部よりプログラムできるよ
    うにしたことを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の
    半導体集積回路。
  4. 【請求項4】上記基準電圧発生回路において、該電流電
    圧変換手段と電流バッファ回路の間に電圧利得1のバッ
    ファ回路を有し、該バッファ回路は少なくとも第1、第
    2のPチャネルトランジスタと第1、第2、第3、第4
    のNチャネルトランジスタから構成され、該第1、第2
    のPチャネルトランジスタのソ−スは高電位側の電源
    に、ゲ−トは該第1のPチャネルトランジスタのドレイ
    ンに接続され、該第1、第2のNチャネルトランジスタ
    のドレインはそれぞれ該第1、第2のPチャネルトラン
    ジスタのドレインに、ソ−スは該第4のNチャネルトラ
    ンジスタのドレインに、該第3のNチャネルトランジス
    タのドレインは該第1のPチャネルトランジスタのドレ
    イン、ソースは該第4のNチャネルトランジスタのドレ
    インに、該第4のNチャネルトランジスタのソースは接
    地電位側の電源に、ゲートは電源電圧またはそれより低
    い電圧を発生する回路に接続され、該第1および該第3
    のNチャネルトランジスタのゲ−トには、上記複数の基
    準電圧が入力されることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の半導体集積回路。
  5. 【請求項5】上記基準電圧発生回路において、該カレン
    トミラー手段の出力端と接地電位側の電源との間に電流
    バイパス用トランジスタを設け、電源投入直後に該トラ
    ンジスタをオンさせ、電源電圧が安定した後はオフさせ
    るようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の半導体集積回路。
  6. 【請求項6】上記基準電圧発生回路において、該カレン
    トミラー手段の出力端と接地電位側の電源との間にコン
    デンサを、また上記第1の電流を作る手段の抵抗および
    電流電圧変換用抵抗の下にそれぞれシールド板を設け、
    該第1の電流を作る手段の抵抗のシールドは高電位側の
    電源に、該電流電圧変換用抵抗のシールドは接地電位側
    の電源に接続したことを特徴とする特許請求の範囲第2
    項記載の半導体集積回路。
  7. 【請求項7】チップ上に、データ線、ワード線、メモリ
    セル、センスアンプおよび該データ線へデータを選択的
    に入出力するためのスイッチからなるメモリセルアレー
    と該ワード線に供給する電圧を発生するための昇圧回路
    を有し、該電流バッファ回路とそのオン、オフを制御す
    る回路をデータ線と昇圧回路用にそれぞれ別々に設け、
    データ線用電流バッファ回路の制御回路は、チップ選択
    信号とYデコーダ駆動信号を受けワンショットパルスを
    発生し、センスアンプがデータ線信号の増幅を完了する
    までの間、データをメモリセルアレー外に読み出す間お
    よびデータをメモリセルに書き込む間該電流バッファ回
    路を活性化し、該昇圧回路用電流バッファ回路の制御回
    路は、チップ選択信号と該昇圧回路の出力電圧がデータ
    線電圧とメモリセルのスイッチトランジスタのしきい電
    圧の和より下がったことを示す信号を受けワンショット
    パルスを発生し、昇圧動作の間該電流バッファ回路を活
    性化することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    半導体集積回路。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6031780A (en) * 1998-03-24 2000-02-29 Ricoh Company, Ltd. Semiconductor memory device
US6477102B1 (en) 1999-06-24 2002-11-05 Nec Corporation Redundant programmable circuit and semiconductor memory device having the same
US11222438B2 (en) 2016-05-27 2022-01-11 Kabushiki Kaisha Toshiba Information processing apparatus, vehicle, and information processing method for presence probability of object

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