JPH052042U - 差圧測定装置 - Google Patents
差圧測定装置Info
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- JPH052042U JPH052042U JP4723291U JP4723291U JPH052042U JP H052042 U JPH052042 U JP H052042U JP 4723291 U JP4723291 U JP 4723291U JP 4723291 U JP4723291 U JP 4723291U JP H052042 U JPH052042 U JP H052042U
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 センタダイアフラムと隔液ダイアフラムの強
度が強化された差圧測定装置を提供するにある。 【構成】 首部と受圧部とよりなり金属よりなるハウジ
ングと、前記首部に設けられた圧力―電気信号変換素子
と、前記受圧部に周縁部が溶接固定されるセンタダイア
フラムと、前記受圧部の両側面に設けられた隔液ダイア
フラムとを具備する差圧測定装置において、前記センタ
ダイアフラムおよび隔液ダイアフラムの表面に設けられ
該センタダイアフラムと前記隔液ダイアフラムとを前記
受圧部に溶接固定後に窒化処理により形成された窒化膜
を具備したことを特徴とする差圧測定装置である。
度が強化された差圧測定装置を提供するにある。 【構成】 首部と受圧部とよりなり金属よりなるハウジ
ングと、前記首部に設けられた圧力―電気信号変換素子
と、前記受圧部に周縁部が溶接固定されるセンタダイア
フラムと、前記受圧部の両側面に設けられた隔液ダイア
フラムとを具備する差圧測定装置において、前記センタ
ダイアフラムおよび隔液ダイアフラムの表面に設けられ
該センタダイアフラムと前記隔液ダイアフラムとを前記
受圧部に溶接固定後に窒化処理により形成された窒化膜
を具備したことを特徴とする差圧測定装置である。
Description
【0001】
本考案は、センタダイアフラムと隔液ダイアフラムの強度が強化された差圧測 定装置に関するものである。
【0002】
図3は、従来より一般に使用されている従来例の構成説明図で、例えば、実開 昭60―181642号に示されている。 図において、 1はハウジングで、円柱状の首部1Aと、首部1Aの端部外周縁部1Cにおい て、溶接接続されたブロック状の受圧部1Bとよりなる。 ハウジング1の両側に高圧側フランジ2、低圧側フランジ3が溶接等によって 固定されており、両フランジ2,3には測定せんとする圧力PH の高圧流体の導 入口4、圧力PL の低圧流体の導入口5が設けられている。
【0003】 ハウジング1内に圧力測定室6が形成されており、この圧力測定室6内にセン タダイアフラム7とシリコンダイアフラム8が設けられている。 センタダイアフラム7とシリコンダイアフラム8は、それぞれ別個に圧力測定 室6の壁に固定されており、センタダイアフラム7とシリコンダイアフラム8の 両者でもって圧力測定室6を2分している。 センタダイアフラム7と対向する圧力測定室6の壁には、バックプレ―ト6A ,6Bが形成されている。
【0004】 センタダイアフラム7は周縁部をハウジング1に溶接されている。 シリコンダイアフラム8は、全体が単結晶のシリコン基板から形成されている 。 シリコン基板の一方の面にボロン等の不純物を選択拡散して4っのストレン ゲ―ジ80を形成し、他方の面を機械加工、エッチングし、全体が凹形のダイア フラムを形成する。 4っのストレインゲ―ジ80は、シリコンダイアフラム8が差圧ΔPを受けて たわむ時、2つが引張り、2つが圧縮を受けるようになっており、これらがホイ ―トストン・ブリッジ回路に接続され、抵抗変化が差圧ΔPの変化として検出さ れる。
【0005】 81は、ストレインゲ―ジ80に一端が取付けられたリ―ドである。 82は、リ―ド81の他端が接続されたハ―メチック端子である。 支持体9はハ―メチック端子を備えており、支持体9の圧力測定室6側端面に 低融点ガラス接続等の方法でシリコンダイアフラム8が接着固定されている。 ハウジング1と高圧側フランジ2、および低圧側フランジ3との間に、圧力導 入室10,11が形成されている。
【0006】 この圧力導入室10,11内に隔液ダイアフラム12,13を設け、この隔液 ダイアフラム12,13と対向するハウジング1の壁10A,11Aに隔液ダイ アフラム12,13と類似の形状のバックプレ―トが形成されている。 隔液ダイアフラム12,13とバックプレ―ト10A,11Aとで形成される 空間と、圧力測定室6は、連通孔14,15を介して導通している。
【0007】 そして、隔液ダイアフラム12,13間にシリコンオイル等の封入液101, 102が満たされ、この封入液が連通孔16,17を介してシリコンダイアフラ ム8の上下面にまで至っている、 封入液101,102はセンタダイアフラム7とシリコンダイアフラム8とに よって2分されているが、その量が、ほぼ均等になるように配慮されている。 21は、受圧部1Bに設けられ封入液101,102をハウジング1内に封入 する封入手段である。 この場合は、封入孔211と封入ボ―ル212と封止捩子213とよりなる。
【0008】 以上の構成において、高圧側から圧力が作用した場合、隔液ダイアフラム12 に作用する圧力が、封入液101によって、シリコンダイアフラム8に伝達され る。 一方、低圧側から圧力が作用した場合、隔液ダイアフラム13に作用する圧力 が封入液102によってシリコンダイアフラム8に伝達される。
【0009】 この結果、高圧側と低圧側との圧力差に応じてシリコンダイアフラム8が歪み 、この歪み量がストレインゲ―ジ80に因って電気的に取出され、差圧の測定が 行なわれる。
【0010】
しかしながら、この様な装置においては、過大圧印加時に、センタダイアフラ ム7に非常に大きな応力が発生する。 このため、繰返し過大圧印加による疲労破壊が問題となる。 このセンタダイアフラム7の強化のために、溶接による組立ての前に、窒化処 理が行なわれる。 しかし、溶接部分に窒化膜があると、溶接時に気泡が発生する為、溶接部分に 窒化膜が付かないように、マスキングして窒化処理を行なわねばならない。 しかし、最も大きな応力が発生するのは、まさに、この溶接部との境目であり 、この部分をマスキングしたのでは、窒化処理の効果が、余り期待出来ない。 本考案は、この問題点を、解決するものである。
【0011】 本考案の目的は、センタダイアフラムと隔液ダイアフラムの強度が強化された 差圧測定装置を提供するにある。
【0012】
この目的を達成するために、本考案は、首部と受圧部とよりなり金属よりなる ハウジングと、前記首部に設けられた圧力―電気信号変換素子と、前記受圧部に 周縁部が溶接固定されるセンタダイアフラムと、前記受圧部の両側面に設けられ た隔液ダイアフラムとを具備する差圧測定装置において、 前記センタダイアフラムおよび隔液ダイアフラムの表面に設けられ該センタダ イアフラムと前記隔液ダイアフラムとを前記受圧部に溶接固定後に窒化処理によ り形成された窒化膜を具備したことを特徴とする差圧測定装置を構成したもので ある。
【0013】
以上の構成において、高圧側から圧力が作用した場合、隔液ダイアフラムに作 用する圧力が封入液によってシリコンダイアフラムに伝達される。 一方、低圧側から圧力が作用した場合、隔液ダイアフラムに作用する圧力が封 入液によってシリコンダイアフラムに伝達される。 この結果、高圧側と低圧側との圧力差に応じてシリコンダイアフラムが歪み、 この歪み量がストレインゲ―ジに因って電気的に取出され、差圧の測定が行なわ れる。
【0014】 而して、センタダイアフラムおよび隔液ダイアフラムの表面に設けられ、セン タダイアフラムと隔液ダイアフラムとを、受圧部に溶接固定後に窒化処理により 形成された窒化膜が設けられたので、センタダイアフラム7の最も大きな応力の 発生する溶接部分との境目にも窒化膜が付くため、窒化処理の効果が大きい。 また、同時に隔液ダイアフラムの裏面にも、窒化膜が付くために、隔液ダイア フラムの強化にもなる。 以下、実施例に基づき詳細に説明する。
【0015】
図1は本考案の一実施例の要部構成説明図である。 図において、図3と同一記号の構成は同一機能を表わす。 以下、図3と相違部分のみ説明する。 31は、センタダイアフラム7および隔液ダイアフラム12,13の表面に設 けられ、センタダイアフラム7と隔液ダイアフラム12,13とを、受圧部1B に溶接固定後に、窒化処理により形成された窒化膜である。
【0016】 以上の構成において、高圧側から圧力が作用した場合、隔液ダイアフラム12 に作用する圧力が、封入液101によって、シリコンダイアフラム8に伝達され る。 一方、低圧側から圧力が作用した場合、隔液ダイアフラム13に作用する圧力 が封入液102によってシリコンダイアフラム8に伝達される。 この結果、高圧側と低圧側との圧力差に応じてシリコンダイアフラム8が歪み 、この歪み量がストレインゲ―ジ80に因って電気的に取出され、差圧の測定が 行なわれる。
【0017】 而して、センタダイアフラム7および隔液ダイアフラム12,13の表面に設 けられ、センタダイアフラム7と隔液ダイアフラム12,13とを、受圧部1B に溶接固定後に、窒化処理により形成された窒化膜31が設けられたので、セン タダイアフラム7の最も大きな応力の発生する溶接部分との境目にも窒化膜31 が付くため、窒化処理の効果が大きい。 また、同時に、隔液ダイアフラム12,13の裏面にも、窒化膜31が付くた めに、隔液ダイアフラム12,13の強化にもなる。
【0018】 この結果、センタダイアフラム7および隔液ダイアフラム12,13の強度が 強化された差圧測定装置が得られる。
【0019】 この様な装置は、図2に示す如く、センタダイアフラム7と隔液ダイアフラム 12,13とを、受圧部1Bに溶接固定後に、封入孔211等を利用して、継手 41を用いて、窒化処理用ガスA(H2 、N2 、NH3 )をハウジング1内に流 しながら熱処理を行い、窒化処理する。
【0020】
以上説明したように、本考案は、首部と受圧部とよりなり金属よりなるハウジ ングと、前記首部に設けられた圧力―電気信号変換素子と、前記受圧部に周縁部 が溶接固定されるセンタダイアフラムと、前記受圧部の両側面に設けられた隔液 ダイアフラムとを具備する差圧測定装置において、 前記センタダイアフラムおよび隔液ダイアフラムの表面に設けられ該センタダ イアフラムと前記隔液ダイアフラムとを前記受圧部に溶接固定後に窒化処理によ り形成された窒化膜を具備したことを特徴とする差圧測定装置を構成した。
【0021】 而して、センタダイアフラム7および隔液ダイアフラム12,13の表面に設 けられ、センタダイアフラム7と隔液ダイアフラム12,13とを、受圧部1B に溶接固定後に、窒化処理により形成された窒化膜31が設けられたので、セン タダイアフラム7の最も大きな応力の発生する溶接部分との境目にも窒化膜31 が付くため、窒化処理の効果が大きい。 また、同時に隔液ダイアフラム12,13の裏面にも、窒化膜31が付くため に、隔液ダイアフラム12,13の強化にもなる。
【0022】 従って、本考案によれば、センタダイアフラムと隔液ダイアフラムの強度が強 化された差圧測定装置を実現することが出来る。
【図1】本考案の一実施例の要部構成説明図である。
【図2】図1の動作説明図である。
【図3】従来より一般に使用されている従来例の構成説
明図である。
明図である。
1…ハウジング 1A…首部 1B…受圧部 1C…溶接 2…高圧側フランジ 3…低圧側フランジ 4…導入口 5…導入口 6…圧力測定室 6A…バックプレ―ト 6B…バックプレ―ト 7…センタダイアフラム 8…シリコンダイアフラム 9…支持体 10…圧力導入室 10A…バックプレ―ト 11…圧力導入室 11A…バックプレ―ト 12…隔液ダイアフラム 13…隔液ダイアフラム 14…連通孔 15…連通孔 16…連通孔 17…連通孔 21…封入手段 211…封入孔 212…封入ボ―ル 213…封止捩子 31…窒化膜 41…継手 80…ストレインゲ―ジ 81…リ―ド 82…ハ―メチック端子 101…封入液 102…封入液
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 【請求項1】首部と受圧部とよりなり金属よりなるハウ
ジングと、前記首部に設けられた圧力―電気信号変換素
子と、前記受圧部に周縁部が溶接固定されるセンタダイ
アフラムと、前記受圧部の両側面に設けられた隔液ダイ
アフラムとを具備する差圧測定装置において、前記セン
タダイアフラムおよび隔液ダイアフラムの表面に設けら
れ該センタダイアフラムと前記隔液ダイアフラムとを前
記受圧部に溶接固定後に窒化処理により形成された窒化
膜を具備したことを特徴とする差圧測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4723291U JPH052042U (ja) | 1991-06-21 | 1991-06-21 | 差圧測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4723291U JPH052042U (ja) | 1991-06-21 | 1991-06-21 | 差圧測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH052042U true JPH052042U (ja) | 1993-01-14 |
Family
ID=12769470
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4723291U Withdrawn JPH052042U (ja) | 1991-06-21 | 1991-06-21 | 差圧測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH052042U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5318757U (ja) * | 1976-07-26 | 1978-02-17 |
-
1991
- 1991-06-21 JP JP4723291U patent/JPH052042U/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5318757U (ja) * | 1976-07-26 | 1978-02-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19950907 |