JPH05107133A - 差圧測定装置 - Google Patents
差圧測定装置Info
- Publication number
- JPH05107133A JPH05107133A JP26926891A JP26926891A JPH05107133A JP H05107133 A JPH05107133 A JP H05107133A JP 26926891 A JP26926891 A JP 26926891A JP 26926891 A JP26926891 A JP 26926891A JP H05107133 A JPH05107133 A JP H05107133A
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- JP
- Japan
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- diaphragm
- pressure
- pressure measuring
- differential pressure
- welded
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐腐蝕性の良好な差圧測定装置を実現する。
【構成】 ブロック状の受圧部に隔液ダイアフラムの周
縁部が隔液リングにより溶接固定される差圧測定装置に
おいて、前記受圧部と隔液ダイアフラムの周縁部と隔液
リングとの溶接部近傍に凹形状の溝部がなく、溶接部近
傍が平坦あるいは凸形状に構成された固定部を具備した
ことを特徴とする差圧測定装置である。
縁部が隔液リングにより溶接固定される差圧測定装置に
おいて、前記受圧部と隔液ダイアフラムの周縁部と隔液
リングとの溶接部近傍に凹形状の溝部がなく、溶接部近
傍が平坦あるいは凸形状に構成された固定部を具備した
ことを特徴とする差圧測定装置である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐腐蝕性の良好な差圧
測定装置に関するものである。
測定装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図４は、従来より一般に使用されている
従来例の構成説明図で、例えば、実開昭６０―１８１６
４２号に示されている。
従来例の構成説明図で、例えば、実開昭６０―１８１６
４２号に示されている。
【０００３】図において、１はハウジングで、円柱状の
首部１Ａと、首部１Ａの端部外周縁部１Ｃにおいて溶接
接続されたブロック状の受圧部１Ｂとよりなる。ハウジ
ング１の両側に高圧側フランジ２、低圧側フランジ３が
溶接等によって固定されており、両フランジ２，３には
測定せんとする圧力ＰH の高圧流体の導入口４、圧力Ｐ
L の低圧流体の導入口５が設けられている。
首部１Ａと、首部１Ａの端部外周縁部１Ｃにおいて溶接
接続されたブロック状の受圧部１Ｂとよりなる。ハウジ
ング１の両側に高圧側フランジ２、低圧側フランジ３が
溶接等によって固定されており、両フランジ２，３には
測定せんとする圧力ＰH の高圧流体の導入口４、圧力Ｐ
L の低圧流体の導入口５が設けられている。
【０００４】ハウジング１内に圧力測定室６が形成され
ており、この圧力測定室６内にセンタダイアフラム７と
シリコンダイアフラム８が設けられている。センタダイ
アフラム７とシリコンダイアフラム８はそれぞれ別個に
圧力測定室６の壁に固定されており、センタダイアフラ
ム７とシリコンダイアフラム８の両者でもって圧力測定
室６を２分している。センタダイアフラム７と対向する
圧力測定室６の壁には、バックプレ―ト６Ａ，６Ｂが形
成されている。
ており、この圧力測定室６内にセンタダイアフラム７と
シリコンダイアフラム８が設けられている。センタダイ
アフラム７とシリコンダイアフラム８はそれぞれ別個に
圧力測定室６の壁に固定されており、センタダイアフラ
ム７とシリコンダイアフラム８の両者でもって圧力測定
室６を２分している。センタダイアフラム７と対向する
圧力測定室６の壁には、バックプレ―ト６Ａ，６Ｂが形
成されている。
【０００５】センタダイアフラム７は周縁部をハウジン
グ１に溶接されている。シリコンダイアフラム８は全体
が単結晶のシリコン基板から形成されている。シリコン
基板の一方の面にボロン等の不純物を選択拡散して４っ
のストレンゲ―ジ８０を形成し、他方の面を機械加工、
エッチングし、全体が凹形のダイアフラムを形成する。
グ１に溶接されている。シリコンダイアフラム８は全体
が単結晶のシリコン基板から形成されている。シリコン
基板の一方の面にボロン等の不純物を選択拡散して４っ
のストレンゲ―ジ８０を形成し、他方の面を機械加工、
エッチングし、全体が凹形のダイアフラムを形成する。
【０００６】４っのストレインゲ―ジ８０は、シリコン
ダイアフラム８が差圧ΔＰを受けてたわむ時、２つが引
張り、２つが圧縮を受けるようになっており、これらが
ホイ―トストン・ブリッジ回路に接続され、抵抗変化が
差圧ΔＰの変化として検出される。シリコンダイアフラ
ム８は、首部１Ａを２個のセンサ室８１，８２に分け
る。
ダイアフラム８が差圧ΔＰを受けてたわむ時、２つが引
張り、２つが圧縮を受けるようになっており、これらが
ホイ―トストン・ブリッジ回路に接続され、抵抗変化が
差圧ΔＰの変化として検出される。シリコンダイアフラ
ム８は、首部１Ａを２個のセンサ室８１，８２に分け
る。
【０００７】支持体９の圧力測定室６側端面に、低融点
ガラス接続等の方法でシリコンダイアフラム８が接着固
定されている。ハウジング１と高圧側フランジ２、およ
び低圧側フランジ３との間に、圧力導入室１０，１１が
形成されている。
ガラス接続等の方法でシリコンダイアフラム８が接着固
定されている。ハウジング１と高圧側フランジ２、およ
び低圧側フランジ３との間に、圧力導入室１０，１１が
形成されている。
【０００８】この圧力導入室１０，１１内に隔液ダイア
フラム１２，１３を設け、この隔液ダイアフラム１２，
１３と対向するハウジング１の壁１０Ａ，１１Ａに隔液
ダイアフラム１２，１３と類似の形状のバックプレ―ト
が形成されている。隔液ダイアフラム１２，１３は、受
圧部１Ｂに、図５に示すごとく、隔液リング１２１，１
３１により周縁部が溶接されている。１２２，１３２は
溶接開先部である。１２３，１３３はＶ字形の溝部であ
る。
フラム１２，１３を設け、この隔液ダイアフラム１２，
１３と対向するハウジング１の壁１０Ａ，１１Ａに隔液
ダイアフラム１２，１３と類似の形状のバックプレ―ト
が形成されている。隔液ダイアフラム１２，１３は、受
圧部１Ｂに、図５に示すごとく、隔液リング１２１，１
３１により周縁部が溶接されている。１２２，１３２は
溶接開先部である。１２３，１３３はＶ字形の溝部であ
る。
【０００９】隔液ダイアフラム１２，１３とバックプレ
―ト１０Ａ，１１Ａとで形成される空間と、圧力測定室
６は、連通孔１４，１５を介して導通している。そし
て、隔液ダイアフラム１２，１３間にシリコンオイル等
の封入液１０１，１０２が満たされ、この封入液が連通
孔１６，１７を介してシリコンダイアフラム８の上下面
にまで至っている。封入液１０１，１０２は、センタダ
イアフラム７とシリコンダイアフラム８とによって２分
されているが、その量が、ほぼ均等になるように配慮さ
れている。１８は、受圧部１Ｂとフランジ２，３との間
に設けられたガスケットで、この場合は、Ｏリングが使
用されている。
―ト１０Ａ，１１Ａとで形成される空間と、圧力測定室
６は、連通孔１４，１５を介して導通している。そし
て、隔液ダイアフラム１２，１３間にシリコンオイル等
の封入液１０１，１０２が満たされ、この封入液が連通
孔１６，１７を介してシリコンダイアフラム８の上下面
にまで至っている。封入液１０１，１０２は、センタダ
イアフラム７とシリコンダイアフラム８とによって２分
されているが、その量が、ほぼ均等になるように配慮さ
れている。１８は、受圧部１Ｂとフランジ２，３との間
に設けられたガスケットで、この場合は、Ｏリングが使
用されている。
【００１０】以上の構成において、高圧側から圧力が作
用した場合、隔液ダイアフラム１２に作用する圧力が封
入液１０１によってシリコンダイアフラム８に伝達され
る。一方、低圧側から圧力が作用した場合、隔液ダイア
フラム１３に作用する圧力が封入液１０２によってシリ
コンダイアフラム８に伝達される。
用した場合、隔液ダイアフラム１２に作用する圧力が封
入液１０１によってシリコンダイアフラム８に伝達され
る。一方、低圧側から圧力が作用した場合、隔液ダイア
フラム１３に作用する圧力が封入液１０２によってシリ
コンダイアフラム８に伝達される。
【００１１】この結果、高圧側と低圧側との圧力差に応
じてシリコンダイアフラム８が歪み、この歪み量がスト
レインゲ―ジ８０によって電気的に取出され、差圧の測
定が行なわれる。
じてシリコンダイアフラム８が歪み、この歪み量がスト
レインゲ―ジ８０によって電気的に取出され、差圧の測
定が行なわれる。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この様
な装置においては、Ｖ字形の溝部１２３，１３３に屋外
で使用中に、砂や塵等が堆積し、更に工場等の雰囲気に
より、塩素イオンを含む水分等が付着した場合は、この
部分で、長期間にわたり塩素イオンの付着状態が続き、
特に、孔食による孔が内部へ貫通し、封入液１０１，１
０２が漏れる事がある。
な装置においては、Ｖ字形の溝部１２３，１３３に屋外
で使用中に、砂や塵等が堆積し、更に工場等の雰囲気に
より、塩素イオンを含む水分等が付着した場合は、この
部分で、長期間にわたり塩素イオンの付着状態が続き、
特に、孔食による孔が内部へ貫通し、封入液１０１，１
０２が漏れる事がある。
【００１３】本発明は、この問題点を、解決するもので
ある。本発明の目的は、耐腐蝕性の良好な差圧測定装置
を提供するにある。
ある。本発明の目的は、耐腐蝕性の良好な差圧測定装置
を提供するにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明は、ブロック状の受圧部に隔液ダイアフラム
の周縁部が隔液リングにより溶接固定される差圧測定装
置において、前記受圧部と隔液ダイアフラムの周縁部と
隔液リングとの溶接部近傍に凹形状の溝部がなく、溶接
部近傍が平坦あるいは凸形状に構成された固定部を具備
したことを特徴とする差圧測定装置を構成したものであ
る。
に、本発明は、ブロック状の受圧部に隔液ダイアフラム
の周縁部が隔液リングにより溶接固定される差圧測定装
置において、前記受圧部と隔液ダイアフラムの周縁部と
隔液リングとの溶接部近傍に凹形状の溝部がなく、溶接
部近傍が平坦あるいは凸形状に構成された固定部を具備
したことを特徴とする差圧測定装置を構成したものであ
る。
【００１５】
【作用】以上の構成において、高圧側から圧力が作用し
た場合、隔液ダイアフラムに作用する圧力が封入液によ
ってシリコンダイアフラムに伝達される。一方、低圧側
から圧力が作用した場合、隔液ダイアフラムに作用する
圧力が封入液によってシリコンダイアフラムに伝達され
る。従って、高圧側と低圧側との圧力差に応じてシリコ
ンダイアフラムが歪み、この歪み量がストレインゲ―ジ
によって電気的に取出され、差圧の測定が行なわれる。
た場合、隔液ダイアフラムに作用する圧力が封入液によ
ってシリコンダイアフラムに伝達される。一方、低圧側
から圧力が作用した場合、隔液ダイアフラムに作用する
圧力が封入液によってシリコンダイアフラムに伝達され
る。従って、高圧側と低圧側との圧力差に応じてシリコ
ンダイアフラムが歪み、この歪み量がストレインゲ―ジ
によって電気的に取出され、差圧の測定が行なわれる。
【００１６】而して、溶接開先部にＶ溝が無いので、屋
外で使用中にＶ字形の溝部に、砂や塵等が堆積し、更に
工場等の雰囲気により、塩素イオンを含む水分等が付着
する恐れがなく、孔食等による腐蝕の恐れを防止出来、
耐食性の向上が図れる。以下、実施例に基づき詳細に説
明する。
外で使用中にＶ字形の溝部に、砂や塵等が堆積し、更に
工場等の雰囲気により、塩素イオンを含む水分等が付着
する恐れがなく、孔食等による腐蝕の恐れを防止出来、
耐食性の向上が図れる。以下、実施例に基づき詳細に説
明する。
【００１７】
【実施例】図１は本発明の一実施例の要部構成説明図で
ある。図において、図４と同一記号の構成は同一機能を
表わす。以下、図４と相違部分のみ説明する。２１は、
受圧部１Ｂと隔液ダイアフラム１２の周縁部と隔液リン
グ１２１との溶接部近傍に凹形状の溝部がなく、溶接部
近傍が平坦に構成された固定部である。
ある。図において、図４と同一記号の構成は同一機能を
表わす。以下、図４と相違部分のみ説明する。２１は、
受圧部１Ｂと隔液ダイアフラム１２の周縁部と隔液リン
グ１２１との溶接部近傍に凹形状の溝部がなく、溶接部
近傍が平坦に構成された固定部である。
【００１８】以上の構成において、高圧側から圧力が作
用した場合、隔液ダイアフラム１２に作用する圧力が封
入液１０１によってシリコンダイアフラム８に伝達され
る。一方、低圧側から圧力が作用した場合、隔液ダイア
フラム１３に作用する圧力が封入液１０２によってシリ
コンダイアフラム８に伝達される。従って、高圧側と低
圧側との圧力差に応じてシリコンダイアフラム８が歪
み、この歪み量がストレインゲ―ジ８０によって電気的
に取出され、差圧の測定が行なわれる。
用した場合、隔液ダイアフラム１２に作用する圧力が封
入液１０１によってシリコンダイアフラム８に伝達され
る。一方、低圧側から圧力が作用した場合、隔液ダイア
フラム１３に作用する圧力が封入液１０２によってシリ
コンダイアフラム８に伝達される。従って、高圧側と低
圧側との圧力差に応じてシリコンダイアフラム８が歪
み、この歪み量がストレインゲ―ジ８０によって電気的
に取出され、差圧の測定が行なわれる。
【００１９】而して、溶接開先部にＶ溝が無いので、屋
外で使用中にＶ字形の溝部に、砂や塵等が堆積し、更に
工場等の雰囲気により、塩素イオンを含む水分等が付着
する恐れがない。この結果、孔食等による腐蝕の恐れを
防止出来、耐食性の向上が図れる。
外で使用中にＶ字形の溝部に、砂や塵等が堆積し、更に
工場等の雰囲気により、塩素イオンを含む水分等が付着
する恐れがない。この結果、孔食等による腐蝕の恐れを
防止出来、耐食性の向上が図れる。
【００２０】図２は本発明の他の実施例の要部構成説明
図である。本実施例においては、固定部２２をフランジ
２の内側に配置するようにしたものである。
図である。本実施例においては、固定部２２をフランジ
２の内側に配置するようにしたものである。
【００２１】図３は本発明の他の実施例の要部構成説明
図である。本実施例においては、受圧部１Ｂと隔液ダイ
アフラム１２の周縁部と隔液リング１２１との溶接部近
傍に凹形状の溝部がなく、溶接部近傍が凸形状に構成さ
れた固定部２３を構成したものである。
図である。本実施例においては、受圧部１Ｂと隔液ダイ
アフラム１２の周縁部と隔液リング１２１との溶接部近
傍に凹形状の溝部がなく、溶接部近傍が凸形状に構成さ
れた固定部２３を構成したものである。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、ブロッ
ク状の受圧部に隔液ダイアフラムの周縁部が隔液リング
により溶接固定される差圧測定装置において、前記受圧
部と隔液ダイアフラムの周縁部と隔液リングとの溶接部
近傍に凹形状の溝部がなく、溶接部近傍が平坦あるいは
凸形状に構成された固定部を具備したことを特徴とする
差圧測定装置を構成した。
ク状の受圧部に隔液ダイアフラムの周縁部が隔液リング
により溶接固定される差圧測定装置において、前記受圧
部と隔液ダイアフラムの周縁部と隔液リングとの溶接部
近傍に凹形状の溝部がなく、溶接部近傍が平坦あるいは
凸形状に構成された固定部を具備したことを特徴とする
差圧測定装置を構成した。
【００２３】この結果、溶接開先部にＶ溝が無いので、
屋外で使用中にＶ字形の溝部に、砂や塵等が堆積し、更
に工場等の雰囲気により、塩素イオンを含む水分等が付
着する恐れがない。孔食等による腐蝕の恐れを防止出
来、耐食性の向上が図れる。
屋外で使用中にＶ字形の溝部に、砂や塵等が堆積し、更
に工場等の雰囲気により、塩素イオンを含む水分等が付
着する恐れがない。孔食等による腐蝕の恐れを防止出
来、耐食性の向上が図れる。
【００２４】従って、本発明によれば、耐腐蝕性の良好
な差圧測定装置を実現することが出来る。
な差圧測定装置を実現することが出来る。
【図１】本発明の一実施例の要部構成説明図である。
【図２】本発明の他の実施例の要部構成説明図である。
【図３】本発明の他の実施例の要部構成説明図である。
【図４】従来より一般に使用されている従来例の構成説
明図である。
明図である。
【図５】図４の詳細説明図である。
１…ハウジング １Ａ…首部 １Ｂ…受圧部 １Ｃ…溶接部 ２…高圧側フランジ ３…低圧側フランジ ４，５…導入口 ６…圧力測定室 ６Ａ…バックプレ―ト ６Ｂ…バックプレ―ト ７…センタダイアフラム ８…シリコンダイアフラム ９…支持体 １０…圧力導入室 １０Ａ…バックプレ―ト １１…圧力導入室 １１Ａ…バックプレ―ト １４…連通孔 １５…連通孔 １６…連通孔 １７…連通孔 １８…Ｏリング ２１，２２…隔液ダイアフラム ３１…固定部 ３２…固定部 ３３…固定部 ８０…ストレインゲ―ジ ８１…センサ室 ８２…センサ室 １０１…封入液 １０２…封入液 １２１…隔液リング １２２…溶接開先部 １２３…溝 ２２１…隔液リング ２２２…溶接開先部 ２２３…溝
Claims (1)
- 【請求項１】ブロック状の受圧部に隔液ダイアフラムの
周縁部が隔液リングにより溶接固定される差圧測定装置
において、 前記受圧部と隔液ダイアフラムの周縁部と隔液リングと
の溶接部近傍に凹形状の溝部がなく、溶接部近傍が平坦
あるいは凸形状に構成された固定部を具備したことを特
徴とする差圧測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26926891A JPH05107133A (ja) | 1991-10-17 | 1991-10-17 | 差圧測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26926891A JPH05107133A (ja) | 1991-10-17 | 1991-10-17 | 差圧測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05107133A true JPH05107133A (ja) | 1993-04-27 |
Family
ID=17469992
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26926891A Pending JPH05107133A (ja) | 1991-10-17 | 1991-10-17 | 差圧測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05107133A (ja) |
-
1991
- 1991-10-17 JP JP26926891A patent/JPH05107133A/ja active Pending
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