JP2988077B2 - 差圧測定装置 - Google Patents

差圧測定装置

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JP2988077B2
JP2988077B2 JP3307782A JP30778291A JP2988077B2 JP 2988077 B2 JP2988077 B2 JP 2988077B2 JP 3307782 A JP3307782 A JP 3307782A JP 30778291 A JP30778291 A JP 30778291A JP 2988077 B2 JP2988077 B2 JP 2988077B2
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秀樹 桑山
隆史 宮下
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高精度で、かつ、制作
し易い、非対称過大圧保護機構を有する差圧測定装置に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】図5は、従来より一般に使用されている
従来例の構成説明図で、例えば、実開昭60―1816
42号に示されている。図において、1はハウジング
で、円柱状の首部1Aと、首部1Aの端部外周縁部1C
において、溶接接続されたブロック状の受圧部1Bとよ
りなる。ハウジング1の両側に高圧側フランジ2、低圧
側フランジ3が溶接等によって固定されており、両フラ
ンジ2,3には測定せんとする圧力PH の高圧流体の導
入口4、圧力PL の低圧流体の導入口5が設けられてい
る。
【0003】ハウジング1内に圧力測定室6が形成され
ており、この圧力測定室6内にセンタダイアフラム7と
シリコンダイアフラム8が設けられている。センタダイ
アフラム7とシリコンダイアフラム8はそれぞれ別個に
圧力測定室6の壁に固定されており、センタダイアフラ
ム7とシリコンダイアフラム8の両者でもって圧力測定
室6を2分している。センタダイアフラム7と対向する
圧力測定室6の壁には、バックプレ―ト6A,6Bが形
成されている。
【0004】センタダイアフラム7は周縁部をハウジン
グ1に溶接されている。シリコンダイアフラム8は、全
体が単結晶のシリコン基板から形成されている。シリコ
ン基板の一方の面にボロン等の不純物を選択拡散して4
っのストレンゲ―ジ80を形成し、他方の面を機械加
工、エッチングし、全体が凹形のダイアフラムを形成す
る。4っのストレインゲ―ジ80は、シリコンダイアフ
ラム8が差圧ΔPを受けてたわむ時、2つが引張り、2
つが圧縮を受けるようになっており、これらがホイ―ト
ストン・ブリッジ回路に接続され、抵抗変化が差圧ΔP
の変化として検出される。
【0005】81は、ストレインゲ―ジ80に一端が取
付けられたリ―ドである。82は、リ―ド81の他端が
接続されたハ―メチック端子である。支持体9はハ―メ
チック端子を備えており、支持体9の圧力測定室6側端
面に低融点ガラス接続等の方法でシリコンダイアフラム
8が接着固定されている。ハウジング1と高圧側フラン
ジ2、および低圧側フランジ3との間に、圧力導入室1
0,11が形成されている。
【0006】この圧力導入室10,11内に隔液ダイア
フラム12,13を設け、この隔液ダイアフラム12,
13と対向するハウジング1の壁10A,11Aに隔液
ダイアフラム12,13と類似の形状のバックプレ―ト
が形成されている。隔液ダイアフラム12,13とバッ
クプレ―ト10A,11Aとで形成される空間と、圧力
測定室6は、連通孔14,15を介して導通している。
【0007】そして、隔液ダイアフラム12,13間に
シリコンオイル等の封入液101,102が満たされ、
この封入液が連通孔16,17を介してシリコンダイア
フラム8の上下面にまで至っている、封入液101,1
02はセンタダイアフラム7とシリコンダイアフラム8
とによって2分されているが、その量が、ほぼ均等にな
るように配慮されている。
【0008】以上の構成において、高圧側から圧力が作
用した場合、隔液ダイアフラム12に作用する圧力が、
封入液101によって、シリコンダイアフラム8に伝達
される。一方、低圧側から圧力が作用した場合、隔液ダ
イアフラム13に作用する圧力が封入液102によって
シリコンダイアフラム8に伝達される。
【0009】この結果、高圧側と低圧側との圧力差に応
じてシリコンダイアフラム8が歪み、この歪み量がスト
レインゲ―ジ80に因って電気的に取出され、差圧の測
定が行なわれる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな装置においては、 (1)センターダイアフラム7を組み立てるには、受圧
部1Bを二分し、その間にセンターダイアフラム7を挟
んでいるので、受圧部1Bの剛性が低くなり、フランジ
2,3の締め付け力により、装置の特性が変化する。 (2)受圧部1Bを二分した部分を、周状に溶接した
後、受圧部1Bに首部1Aを溶接しなければならないの
で、組み立て工数が多大となる。 (3)隔液ダイアフラム12,13の片側とセンターダ
イアフラム7の両側に封入液101,102が必要なた
め、封入液が多くなり、温度変化時に内圧の上昇が大き
く装置の特性が悪い。
【0011】本発明は、この問題点を、解決するもので
ある。本発明の目的は、高精度で、かつ、制作し易い、
非対称過大圧保護機構を有する差圧測定装置を提供する
にある。
【0012】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明は、センターダイアフラムと半導体圧力セン
サとを具備する差圧測定装置において、ハウジングと、
該ハウジングの一方の側面に設けられ該ハウジングとセ
ンター室を構成し少なくとも測定範囲において該ハウジ
ングの一方の側面に接するセンターダイアフラムと、該
センターダイアフラムと前記一方のハウジング側面を覆
って設けられ該センターダイアフラムと前記ハウジング
の一方の側面と高圧側隔液室を構成する高圧側隔液ダイ
アフラムと、前記ハウジングの他方の側面に設けられ該
ハウジングと低圧側隔液室を構成する低圧側隔液ダイア
フラムと、前記ハウジングに設けられ高圧側に過大圧保
護機構或いは十分な耐圧機能を有する半導体圧力センサ
と、前記ハウジングに設けられ前記センター室と前記低
圧側隔液室とを連通する第1連通孔と、前記ハウジング
に設けられ前記半導体圧力センサの低圧側と前記センタ
室或いは前記低圧側隔液室とを連通する第2連通孔と、
前記ハウジングに設けられ前記半導体圧力センサの高圧
側と前記高圧側隔液室とを連通する第3連通孔と、前記
センター室と前記高圧側隔液室と前記低圧側隔液室と前
記第1,第2,第3連通孔とで構成される2個の室にそ
れぞれ封入される封入液とを具備したことを特徴とする
差圧測定装置を構成したものである。
【0013】
【作用】以上の構成において、通常の測定状態において
は、高圧側から圧力が作用した場合、高圧側隔液ダイア
フラムに測定圧力が印加されるが、センターダイアフラ
ムはハウジングに密接しているため、封入液の移動は殆
ど無く、測定圧力はそのまま半導体圧力センサに伝達さ
れる。一方、低圧側から測定圧力が作用した場合、低圧
側隔液ダイアフラムに測定圧力が印加されるが、測定圧
力範囲では、センターダイアフラムはハウジングに密接
しているため、封入液の移動は殆ど無く、測定圧力はそ
のまま半導体圧力センサに伝達される。
【0014】過大圧が印加された状態においては、高圧
側から過大圧力が作用した場合、高圧側隔液ダイアフラ
ムに過大圧力が印加されるが、センターダイアフラムは
ハウジングに密接しているため、過大圧力はそのまま半
導体圧力センサに伝達される。高圧側隔液ダイアフラム
での保護機能はない。しかし、半導体圧力センサは、高
圧側に過大圧保護機構或いは十分な耐圧機能を有するの
で、半導体圧力センサで過大圧は受け止められる。
【0015】一方、低圧側から過大圧力が作用した場
合、低圧側隔液ダイアフラムに過大圧力が印加される。
センターダイアフラムはハウジングに密接しているが、
センターダイアフラムの力に打ち勝つ過大圧が印加され
ると、センターダイアフラムが移動し、低圧側隔液ダイ
アフラムが移動して、ハウジングに接する。すると、こ
れ以上の過大圧は半導体圧力センサに印加せず、低圧側
隔液ダイアフラムで保護される。以下、実施例に基づき
詳細に説明する。
【0016】
【実施例】図において、図5と同一記号の構成は同一機
能を表わす。以下、図5と相違部分のみ説明する。21
は、ハウジングである。22は、ハウジング21の一方
の側面に設けられ、ハウジング21とセンター室23を
構成し、少なくとも測定範囲において、ハウジング21
の一方の側面に接するセンターダイアフラムである。
【0017】24は、センターダイアフラム22と一方
のハウジング21の側面を覆って設けられ、センターダ
イアフラム22とハウジング21の一方の側面と高圧側
隔液室25を構成する高圧側隔液ダイアフラムである。
26は、ハウジング21の他方の側面に設けられ、ハウ
ジング21と低圧側隔液室27を構成する低圧側隔液ダ
イアフラムである。28は、ハウジング21に設けら
れ、高圧側に過大圧保護機構29或いは十分な耐圧機能
を有する半導体圧力センサである。
【0018】過大圧保護機構29は、例えば、図2に示
す如くして構成する。図2において、291は測定ダイ
アフラム、292は測定ダイアフラム1に一面が接続さ
れたシリコン基板である。293はシリコン基板292
に基準室294を形成する凹部である。295はシリコ
ン基板292に設けられ、基準室294に基準圧を導入
する導圧孔である。
【0019】296は測定ダイアフラム1に設けられた
ストレインゲージである。而して、基準室294は薄膜
状に構成される。このため、高圧側からの過大圧力に対
しては測定ダイアフラム1は、僅かしか変位せずシリコ
ン基板292により保護される。すなわち、過大圧保護
機構29が構成される。31は、ハウジング21に設け
られ、センター室23と低圧側隔液室27とを連通する
第1連通孔である。
【0020】32は、ハウジング21に設けられ、半導
体圧力センサ28の低圧側と第1連通孔31とを連通す
る第2連通孔である。33はハウジング21に設けられ
半導体圧力センサ28の高圧側と高圧側隔液室25とを
連通する第3連通孔である。101,102はセンター
室23と高圧側隔液室25と低圧側隔液室27と第1,
第2,第3連通孔31,32,33とで構成される2個
の室にそれぞれ封入される封入液である。
【0021】以上の構成において、 (1)通常の測定状態においては、高圧側から圧力が作
用した場合、高圧側隔液ダイアフラム24に測定圧力が
印加されるが、センターダイアフラム22はハウジング
1に密接しているため、封入液101の移動は殆ど無
く、測定圧力はそのまま半導体圧力センサ28に伝達さ
れる。一方、低圧側から測定圧力が作用した場合、低圧
側隔液ダイアフラム27に測定圧力が印加されるが、測
定圧力範囲では、センターダイアフラム22はハウジン
グ1に密接しているため、封入液102の移動は殆ど無
く、測定圧力はそのまま半導体圧力センサ28に伝達さ
れる。
【0022】(2) 過大圧が印加された状態において
は、高圧側から過大圧力が作用した場合、高圧側隔液ダ
イアフラム24に過大圧力が印加されるが、センターダ
イアフラム22はハウジング1に密接しているため、過
大圧力はそのまま半導体圧力センサ28に伝達される。
高圧側隔液ダイアフラム24での保護機能はない。しか
し、半導体圧力センサ28は、高圧側に過大圧保護機構
29或いは十分な耐圧機能を有するので、半導体圧力セ
ンサ28で過大圧は受け止められる。
【0023】一方、低圧側から過大圧力が作用した場
合、低圧側隔液ダイアフラム26に過大圧力が印加され
る。センターダイアフラム22はハウジング1に密接し
ているが、センターダイアフラム22の力に打ち勝つ過
大圧が印加されると、センターダイアフラム22が移動
し、低圧側隔液ダイアフラム26が移動して、ハウジン
グ1に接する。すると、これ以上の過大圧は半導体圧力
センサ28に印加せず、低圧側隔液ダイアフラム26で
保護される。
【0024】この結果、 (1)測定範囲内で封入液101,102の移動が殆ど
無いため、隔液ダイアフラム25,26の圧力ドロップ
がなく、高精度な測定が可能となる。 (2)ハウジング21を二分割しなくて良いので、ハウ
ジング21の剛性が高くなりフランジ2,3の締め付け
等に対する装置の特性が向上する。 (3)ハウジング21は、受圧部と首部とに分ける必要
はなく、一体にでき、組み立て工数が低下し、コストが
安価となる。 (4)封入液101,102が低減出来、温度特性が向
上出来る。 (5)部品点数の少ない簡単な構造で、非対称過大圧保
護機構が実現できる。
【0025】図3は本発明の他の実施例の要部構成説明
図である。本実施例において、41は、ハウジング21
に設けられ、センタ室23のハウジング側側壁に設けら
れたスリ割溝である。42は、ハウジング21に設けら
れ、スリ割溝41と低圧側隔液室27を連通する第1連
通孔である。43は、ハウジング21に設けられ、半導
体圧力センサ28の低圧側とスリ割溝41とを連通する
第2連通孔である。本実施例においては、衝撃波による
センサの破壊を防止出来る。
【0026】図4は本発明の他の実施例の要部構成説明
図である。本実施例において、51は、ハウジング21
に設けられ、センタ室23と低圧側隔液室27を連通す
る第1連通孔である。52は、ハウジング21に設けら
れ、半導体圧力センサ28の低圧側とセンタ室23とを
連通する第2連通孔である。53は、センタ室23と第
1連通孔との接合部に設けられた円錐溝である。54
は、センタ室23と第2連通孔との接合部に設けられた
円錐溝である。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、センタ
ーダイアフラムと半導体圧力センサとを具備する差圧測
定装置において、ハウジングと、該ハウジングの一方の
側面に設けられ該ハウジングとセンター室を構成し少な
くとも測定範囲において該ハウジングの一方の側面に接
するセンターダイアフラムと、該センターダイアフラム
と前記一方のハウジング側面を覆って設けられ該センタ
ーダイアフラムと前記ハウジングの一方の側面と高圧側
隔液室を構成する高圧側隔液ダイアフラムと、前記ハウ
ジングの他方の側面に設けられ該ハウジングと低圧側隔
液室を構成する低圧側隔液ダイアフラムと、前記ハウジ
ングに設けられ高圧側に過大圧保護機構或いは十分な耐
圧機能を有する半導体圧力センサと、前記ハウジングに
設けられ前記センター室と前記低圧側隔液室とを連通す
る第1連通孔と、前記ハウジングに設けられ前記半導体
圧力センサの低圧側と前記センタ室或いは前記低圧側隔
液室とを連通する第2連通孔と、前記ハウジングに設け
られ前記半導体圧力センサの高圧側と前記低圧側隔液室
とを連通する第3連通孔と、前記センター室と前記高圧
側隔液室と前記高圧側隔液室と前記第1,第2,第3連
通孔とで構成される2個の室にそれぞれ封入される封入
液とを具備したことを特徴とする差圧測定装置を構成し
た。
【0028】この結果、 (1)測定範囲内で封入液の移動が殆ど無いため、隔液
ダイアフラムの圧力ドロップがなく、高精度な測定が可
能となる。 (2)ハウジングを二分割しなくて良いので、ハウジン
グの剛性が高くなりフランジの締め付け等に対する装置
の特性が向上する。 (3)ハウジングは、受圧部と首部とに分ける必要はな
く、一体にでき、組み立て工数が低下し、コストが安価
となる。 (4)封入液が低減出来、温度特性が向上出来る。 (5)部品点数の少ない簡単な構造で、非対称過大圧保
護機構が実現できる。
【0029】従って、本発明によれば、高精度で、か
つ、制作し易い、非対称過大圧保護機構を有する差圧測
定装置を実現することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の要部構成説明図である。
【図2】図1の要部詳細説明図である。
【図3】本発明の他の実施例の要部構成説明図である。
【図4】本発明の他の実施例の要部構成説明図である。
【図5】従来より一般に使用されている従来例の構成説
明図である。
【符号の説明】
1…ハウジング 2…高圧側フランジ 3…低圧側フランジ 4…導入口 5…導入口 6…圧力測定室 6A…バックプレ―ト 6B…バックプレ―ト 9…支持体 10…圧力導入室 11…圧力導入室 21…ハウジング 22…センタダイアフラム 23…センタ室 24…隔液ダイアフラム 25…高圧側隔液室 26…隔液ダイアフラム 27…低圧側隔液室 28…半導体圧力センサ 29…過大圧保護機構 291…測定ダイアフラム 292…シリコン基板 293…凹部 294…基準室 295…導圧孔 296…ピエゾ抵抗素子 31…第1連通孔 32…第2連通孔 33…第3連通孔 41…スリ割溝 42…第1連通孔 43…第2連通孔 51…第1連通孔 52…第2連通孔 53…円錐溝 54…円錐溝 101…封入液 102…封入液
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01L 13/02

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】センターダイアフラムと半導体圧力センサ
    とを具備する差圧測定装置において、 ハウジングと、 該ハウジングの一方の側面に設けられ該ハウジングとセ
    ンター室を構成し少なくとも測定範囲において該ハウジ
    ングの一方の側面に接するセンターダイアフラムと、 該センターダイアフラムと前記一方のハウジング側面を
    覆って設けられ該センターダイアフラムと前記ハウジン
    グの一方の側面と高圧側隔液室を構成する高圧側隔液ダ
    イアフラムと、 前記ハウジングの他方の側面に設けられ該ハウジングと
    低圧側隔液室を構成する低圧側隔液ダイアフラムと、 前記ハウジングに設けられ高圧側に過大圧保護機構或い
    は十分な耐圧機能を有する半導体圧力センサと、 前記ハウジングに設けられ前記センター室と前記低圧側
    隔液室とを連通する第1連通孔と、 前記ハウジングに設けられ前記半導体圧力センサの低圧
    側と前記センタ室或いは前記低圧側隔液室とを連通する
    第2連通孔と、 前記ハウジングに設けられ前記半導体圧力センサの高圧
    側と前記高圧側隔液室とを連通する第3連通孔と、 前記センター室と前記高圧側隔液室と前記低圧側隔液室
    と前記第1,第2,第3連通孔とで構成される2個の室
    にそれぞれ封入される封入液とを具備したことを特徴と
    する差圧測定装置。
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