JPH0520227B2 - - Google Patents

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JPH0520227B2
JPH0520227B2 JP59245391A JP24539184A JPH0520227B2 JP H0520227 B2 JPH0520227 B2 JP H0520227B2 JP 59245391 A JP59245391 A JP 59245391A JP 24539184 A JP24539184 A JP 24539184A JP H0520227 B2 JPH0520227 B2 JP H0520227B2
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JP
Japan
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machining fluid
wire
cutting
workpiece
machining
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP59245391A
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English (en)
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JPS61125768A (ja
Inventor
Atsushi Tomizawa
Mitsuo Mitani
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Industries Ltd filed Critical Sumitomo Metal Industries Ltd
Priority to JP24539184A priority Critical patent/JPS61125768A/ja
Publication of JPS61125768A publication Critical patent/JPS61125768A/ja
Publication of JPH0520227B2 publication Critical patent/JPH0520227B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0058Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
    • B28D5/007Use, recovery or regeneration of abrasive mediums
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/04Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by tools other than rotary type, e.g. reciprocating tools
    • B28D5/045Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by tools other than rotary type, e.g. reciprocating tools by cutting with wires or closed-loop blades

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 この発明は半導体材料、磁性材料、セラミツク
ス等の脆性材料を、ワイヤにより砥粒を含む加工
液または酸を含む切削液(以下「加工液」と称す
る)を供給しつつ切断(切込みを含む)する装置
に関する。 従来技術とその問題点 半導体材料等の脆性材料(以下ワークと称す
る)を切断する一つの方法としては、ワイヤをワ
ークに摺接させつつ砥粒を含む加工液を供給して
切断する方式のワイヤソーがある。 その切断方法を説明すると、第3図にその一例
を示すごとく、複数の溝ローラ1相互間にわたつ
て所定間隔で平行にワイヤ2を張設し、このワイ
ヤ部分にワーク3を押し当てながらワイヤを走行
させるとともに、ワーク3の上方に設けた加工液
供給多孔ノズル4より砥粒を含む加工液をワーク
に供給して切断している。5はワーク押上台であ
る。 上記加工液供給多孔ノズル4は、ワーク3に沿
つて一定間隔に多数の孔が穿設されたものであ
り、各孔より加工液がいわば線状に落下してワー
クの上に供給されるようになつている。 走行するワイヤとワークの摺接部に砥粒を混合
した加工液を供給し、研削作用によつて除々に切
込んでいく上記ワイヤソーにおいては、上記摺接
部への加工液の供給が瞬間的にでも途絶えると、
ワイヤ2のワーク3の接触によりソーマークと称
する疵が発生するという問題がある。 シリコンウエハに代表されるエレクトロニクス
分野の基板ウエハは、薄厚に切断されたあと研磨
加工が施されるが、この時にソーマークが原因と
なつて割れるおそれがある。また、ソーマーク部
の除去のために研磨しろを大きく見込むために研
磨工数の増加と材料のロスが問題となる。このた
め、基板ウエハの製造コスト低減のために切断厚
さはますます薄くなる傾向にあり、ソーマークが
発生しない加工液の供給方法が要請されている。 しかし、前記のような加工液供給多孔ノズルを
用いて切断加工する方法では、切断用ワイヤ2と
被切断部材3の摺接部に均一かつ十分な加工液の
供給が行われず、ソーマークが発生するという問
題がある。 一方、実開昭57−193349号公報には、図4に示
すごとくワーク上部に2本の研磨材(加工液と同
一)供給管18,19を設け、各供給管からワー
クの切断面の両端近傍に向かつて加工液を注ぐ方
式のマルチワイヤソーが提案されている。しか
し、この加工液供給方式のマルチワイヤソーに
は、以下に記載する問題点がある。 第1の問題点は、丸形断面ワークのワイヤ入口
の位置が水平方向にみて変化するワークの場合に
は、研磨材供給管18,19の位置を変化させる
等の方法で研磨材が当たる位置を調整する必要が
あることと、丸形断面ワークの下半分の切断に際
しては、ワークのワイヤ入口近傍に研磨材を注ぐ
ことが不可能であることである。第2の問題点
は、少なくともワーク上面より高い位置から研磨
材を流下させるので、切断位置が下がるにつれて
研磨材がワークあるいはワイヤに当たる際の衝撃
が強くなり、研磨材の多くがワークに引込まれず
に落下してしまう可能性があること、また、ワイ
ヤが衝撃によつて振動し、切断精度が悪化するお
それがあることである。 また、実開昭58−27057号公報には、図5に示
すごとく、研削液(加工液と同一)をホツパ21
に注ぎ、このホツパからオーバーフローした加工
液をメツシユ状のドロツパー22に沿つて流下さ
せ、これをガイド25で一定方向の流れを整え、
このガイドから流下した加工液を受け部材26に
当て、これから流下する加工液をワークにかける
方法が提案されている。 しかし、この方法にも問題点が2つある。すな
わち、第1の問題点は、供給パイプ14の小孔1
5から供給される単位時間当りの研削液量が変動
すると、ホツパ21からオーバーフローする研削
液量が変化し、結果としてワークに流下する研削
液の量が変動することである。特に、供給パイプ
14からの供給が極短時間でも止まると、ホツパ
21からのオーバーフローが停止してしまい、ワ
ークへの加工液の供給が途絶えることによりソー
マークが発生する。第2の問題点は、メツシユ状
のドロツパー22からガイド25への研削液の供
給は、ドロツパー22のメツシユを通過せしめて
行うことである。すなわち、この方法では、研削
液中の砥粒がメツシユに除々に付着していくの
で、ガイド25への研削液量が減少するおそれが
ある。かかる対策として、研削液中の砥粒の量を
減らして粒度を低下させれば目詰りは回避できる
が、これを実施すればソーマーク発生のおそれが
高まり、また切断能率の低下をきたすので、粒度
低下には限界があり実用し難い。 このように従来の技術では、切断用ワイヤと加
工液の摺接部に均一かつ十分な加工液の供給が行
われず、ワークの加工精度(表面粗さ、疵)およ
び切断能率の低下を招く上、ワイヤの磨耗が著し
く、断線事故等のトラブルが発生することもあつ
た。 発明の目的 この発明は従来の前記問題を解決するためにな
されたものであり、加工液が常に均一かつ十分に
供給されて、切断能率および加工精度の向上がは
かられ、かつワイヤの摩耗を著しく軽減し得る脆
性材料の切断装置を提案しようとするものであ
る。 発明の構成 マルチワイヤソーにおいて、ソーマークを防止
するためには、切断開始から終了まで、全ワイヤ
列の切断部位に間断なく可及的に大量の加工液を
供給し続ける必要がある。マルチワイヤソーにお
いては、材料ロスを減らすために細径のワイヤが
使用されるので、研削で形成される溝巾は極めて
狭く(0.2〜0.3mm程度)、切込みが進行するにつ
れて、この溝への加工液の重力による侵入は難し
くなる。したがつて、ワークに入る手前のワイヤ
に加工液を付着させ、ワイヤの走行によつて切断
部に加工液を持込まざるを得ない。ただし、この
場合もワークのワイヤ入口から出口までの間に加
工液が行きわたるように大量の加工液を持込む必
要があり、単にワイヤ表面を加工液で濡らしてお
くだけでは不十分である。すなわち、ワイヤ入側
のワーク側面に加工液が大量に存在する条件下で
ワイヤによつて加工液を引込むような状況を作り
出す必要がある。 この発明者らは、この状況を作り出すための
種々の実験を繰返し、次の2つの方法が有効であ
ることを見出したのである。 第1は、ワーク上面に長手方向均一な水幕状の
加工液を注ぎ、ワーク側面に沿つて流れ落ちる厚
い加工液の幕を形成する方法、第2はワークに入
る手前の段階で全ワイヤ列をカバーする巾の水幕
状の加工液をワイヤ列状に流下させる方法であ
る。 この発明は上記2つの方法を具体化したもので
あり、その要旨は、加工液供給ノズルの真下に、
広巾の加工液貯蔵部と、テーパ状絞り部と、下端
にスリツト状の流出孔を有する狭巾の整流部が連
続した漏斗状断面のホツパー形スリツトノズルを
配し、前記加工液供給ノズルより流下する加工液
を前記ホツパー形スリツトノズルを介して水幕状
に流下させることを特徴とし、また、前記水幕状
の加工液を被切断部材上に流下せしめることを特
徴とし、また、前記水幕状の加工液を、少なくと
もワイヤが被切断部材に入る直前のワイヤ列上に
流下せしめることを特徴とするものである。 以下、この発明の一実施例装置を第1図、第2
図に基づいて説明する。 第1図は、被切断部材3に沿つて一定間隔に多
数の孔が穿設された従来の加工液供給多孔ノズル
4の真下に、広巾の加工液貯蔵部16−1と、テ
ーパ状絞り部16−2と、下端にスリツト状の流
出孔を有する狭巾の整流部16−3が連続した漏
斗状断面のホツパー形スリツトノズル16aを設
け、加工液供給ノズル4より流下する加工液をこ
の漏斗状断面のホツパー形スリツトノズル16a
で受けて、加工液を水幕状に流下させるととも
に、この水幕状の加工液を被切断部材3上に流下
させて切断する装置である。 第2図は水幕状の加工液を被切断部材3の入側
と出側のワイヤ列上に流下させて切断する装置を
例示したものである。すなわち、この装置はスリ
ツト状の流出孔を有するスリツトノズル14と該
スリツトノズルの両側に枝管17を介して接続し
たサイドノズル4とからなる加工液供給ノズルを
用い、前記と同じ広巾の加工液貯蔵部16−1
と、テーパ状絞り部16−2と、下端にスリツト
状の流出孔を有する狭巾の整流部16−3が連続
した漏斗状断面のホツパー形スリツトノズル16
bを前記サイドノズル4の真下に配し、中央のス
リツトノズル14から水幕状の加工液を流下させ
て被切断部材上に供給するとともに、サイドノズ
ル4からホツパー形スリツトノズル16bを介し
て被切断部材3の入側と出側のワイヤ列に水幕状
の加工液を流下させて切断する方法である。な
お、中央のスリツトノズル14は省略することが
可能である。 上記第2図における加工液供給多孔ノズル4
は、多孔式に限らずスリツトノズルでもよいこと
はいうまでもない。 作用効果 第1図に示す切断装置は、多孔ノズル4より流
出した加工液が漏斗状断面のホツパー形スリツト
ノズル16aに受けられて、加工液の圧力不均一
がなくなるため容易に加工液の水幕ができ、その
水幕が被切断部材3とワイヤ2との摺接部に流下
するので、摺接部に対する加工液の供給が均一か
つ十分に行われる。 第2図に示す切断装置は、中央のスリツトノズ
ル14から加工液が被切断部材3とワイヤ2との
摺接部に水幕状に供給されるとともに、両サイド
ノズル4から流出する加工液が漏斗状断面のホツ
パー形スリツトノズル16bによりワイヤ部分に
近接して自然落下を利用して水幕状となり、その
水幕状の加工液が被切断部材3の入側および出側
のワイヤ列に供給されるので、ワイヤ2への砥粒
付着が増加し良好な切断が行われる。 以上のごとく、この発明装置によれば、水幕状
の加工液を得て、被切断部材上、およびワイヤ列
上に均一かつ十分に水幕状加工液を供給すること
ができる結果、ワイヤソーの切断精度および切断
能率を大幅に向上させることができ、しかもワイ
ヤの摩耗軽減効果も大きく、ワイヤの断線事故も
ほとんどなくなるという優れた効果を奏する。 実施例 この発明をワイヤソーに適用し、φ5″Si単結晶
を下記の条件で切断した。その結果を、同一のワ
イヤソーで第3図に示す従来の加工液供給方法で
切断した場合と比較して第1表に示す。 切断条件 ワイヤ速度:平均100m/min、往復走行方式 加工液:GC#800とラツプオイルの混合物 切断枚数:ウエハ150枚
【表】 第1表より明らかなごとく、この発明装置によ
れば、ワイヤと被切断部材の摺接部に十分な量の
加工液がまんべんなく供給されるため切断精度、
切断能率、ワイヤ摩耗量共に大幅に向上した。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第2図はこの発明の一実施例装置を示
す概略図、第3図〜第5図は従来の切断方法を示
す概略図である。 1……溝ローラ、2……ワイヤ、3……被切断
部材、4……加工液供給多孔ノズル、14……ス
リツトノズル、16a,16b……ホツパー形ス
リツトノズル。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ワイヤに被切断部材を摺接せしめつつ、加工
    液を供給して切断する装置において、加工液供給
    ノズルの真下に、広巾の加工液貯蔵部と、テーパ
    状絞り部と、下端にスリツト状の流出孔を有する
    狭巾の整流部が連続した漏斗状断面のホツパー形
    スリツトノズルを配し、前記加工液供給ノズルよ
    り流下する加工液を前記ホツパー形スリツトノズ
    ルを介して水幕状に流下させる構成となしたこと
    を特徴とする脆性材料の切断装置。 2 水幕状の加工液を被切断部材上に流下せしめ
    る構成となしたことを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の脆性材料の切断装置。 3 水幕状の加工液を、少なくともワイヤが被切
    断部材に入る直前のワイヤ列上に流下せしめる構
    成となしたことを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の脆性材料の切断装置。
JP24539184A 1984-11-20 1984-11-20 脆性材料の切断方法 Granted JPS61125768A (ja)

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