JP2531431B2 - ラジカル反応式精密加工装置のガス供給ノズル - Google Patents
ラジカル反応式精密加工装置のガス供給ノズルInfo
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- JP2531431B2 JP2531431B2 JP9817093A JP9817093A JP2531431B2 JP 2531431 B2 JP2531431 B2 JP 2531431B2 JP 9817093 A JP9817093 A JP 9817093A JP 9817093 A JP9817093 A JP 9817093A JP 2531431 B2 JP2531431 B2 JP 2531431B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ラジカル（遊離基）反
応を利用して、例えば、半導体デバイス製造用シリコン
単結晶やゲルマニウム単結晶、ガリウム−ひ素化合物、
或いは通常の機械的方法では切断が困難なセラミック
ス、ガラスなどの比較的厚肉の材料を精度よく切断する
のに適した精密加工装置に用いられるガス供給ノズルに
関する。
応を利用して、例えば、半導体デバイス製造用シリコン
単結晶やゲルマニウム単結晶、ガリウム−ひ素化合物、
或いは通常の機械的方法では切断が困難なセラミック
ス、ガラスなどの比較的厚肉の材料を精度よく切断する
のに適した精密加工装置に用いられるガス供給ノズルに
関する。
【０００２】
【従来の技術】シリコン単結晶等の切断には、従来、ダ
イヤモンドホイールによる機械的切断方法が採用されて
いるが、この方法による切断では、表面に塑性加工層の
残留、微細クラックが発生することに起因する品質低下
を生じ、製造されたウェハーの歩留り低下の原因となっ
ている。
イヤモンドホイールによる機械的切断方法が採用されて
いるが、この方法による切断では、表面に塑性加工層の
残留、微細クラックが発生することに起因する品質低下
を生じ、製造されたウェハーの歩留り低下の原因となっ
ている。
【０００３】このような問題点を解消するために、ラジ
カル反応を利用した精密加工方法が提案されている（特
開平１−１２５８２９号公報）。このラジカル反応によ
る精密加工方法は、反応ガスの雰囲気中に配した被加工
物近傍で、放電又はレーザ光励起により反応ガスを活性
化させてラジカルを生成し、該ラジカルと被加工物の構
成原子又は分子とをラジカル反応させて被加工物を加工
するものである。
カル反応を利用した精密加工方法が提案されている（特
開平１−１２５８２９号公報）。このラジカル反応によ
る精密加工方法は、反応ガスの雰囲気中に配した被加工
物近傍で、放電又はレーザ光励起により反応ガスを活性
化させてラジカルを生成し、該ラジカルと被加工物の構
成原子又は分子とをラジカル反応させて被加工物を加工
するものである。
【０００４】そして、上記の公開公報には、加工方法の
一例として、ワイヤ供給用ボビンに巻かれたワイヤ電極
をワイヤ引取りボビンに巻き取りながら該ワイヤ電極に
電圧を印加し、ワイヤ電極と被切断物間に放電を発生さ
せて反応ガスを活性化させ、該反応ガスによりラジカル
を生成して該ラジカルと被切断物の構成原子又は分子と
をラジカル反応させ、被切断物をワイヤ電極に対して該
ワイヤ電極を横切る方向に相対的に移動させて被切断物
を切断するラジカル反応による精密切断方法が開示され
ている。
一例として、ワイヤ供給用ボビンに巻かれたワイヤ電極
をワイヤ引取りボビンに巻き取りながら該ワイヤ電極に
電圧を印加し、ワイヤ電極と被切断物間に放電を発生さ
せて反応ガスを活性化させ、該反応ガスによりラジカル
を生成して該ラジカルと被切断物の構成原子又は分子と
をラジカル反応させ、被切断物をワイヤ電極に対して該
ワイヤ電極を横切る方向に相対的に移動させて被切断物
を切断するラジカル反応による精密切断方法が開示され
ている。
【０００５】ところが、上記の開示技術では、薄い被切
断物をその厚さ方向に切り込んで切断するのであれば、
切断溝が深くならないためチャンバ内にある反応ガスに
よりラジカル反応を継続してこれを切断することができ
るが、厚さの厚い被切断物を狭い切断幅で切断する場
合、切断溝の溝底への反応ガスの供給が不十分になりや
すい上、反応生成物が溝底から除去されず、プラズマが
消滅するおそれがあるため、厚肉の被切断物を円滑に切
断することができない。
断物をその厚さ方向に切り込んで切断するのであれば、
切断溝が深くならないためチャンバ内にある反応ガスに
よりラジカル反応を継続してこれを切断することができ
るが、厚さの厚い被切断物を狭い切断幅で切断する場
合、切断溝の溝底への反応ガスの供給が不十分になりや
すい上、反応生成物が溝底から除去されず、プラズマが
消滅するおそれがあるため、厚肉の被切断物を円滑に切
断することができない。
【０００６】そこで、本発明の出願人は、厚さが１ｍｍ
程度、幅が１０〜６０ｍｍ程度、長さが１００〜４５０
ｍｍ程度の非常に薄い板状のガス供給ノズルを開発し
た。この新しいガス供給ノズルによれば、ノズルを切断
溝に入れて溝底に反応ガスを的確に供給し、シリコン単
結晶等を切断することができる。
程度、幅が１０〜６０ｍｍ程度、長さが１００〜４５０
ｍｍ程度の非常に薄い板状のガス供給ノズルを開発し
た。この新しいガス供給ノズルによれば、ノズルを切断
溝に入れて溝底に反応ガスを的確に供給し、シリコン単
結晶等を切断することができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところが、新しく開発
した上記のガス供給ノズルは、切断溝の長さが比較的長
くなるシリコン単結晶などの被切断物の場合、切断部分
に反応ガスを効率よく供給して能率的に切断することが
できるが、薄い被切断物を紙切りのように、すなわち、
ガス供給ノズルのガス噴出口を被切断物の端縁面に向け
かつノズルの板面を被切断物の表面に交差する状態で、
ガス供給ノズルを上記表面に沿う方向に移動させて切断
するような場合、切断溝の長さ（被切断物の厚さに相当
する。）が非常に短くて反応ガスを切断溝に留滞させる
抵抗が全くなくなり、反応ガスが切断溝の外に飛散する
ため、切断部分に反応ガスを効率よく供給して被切断物
を円滑に切断することができない。ワイヤ電極がガス供
給ノズルと切断溝底との間にあって反応ガスの切断部分
への供給を阻害するので、一層、反応ガスが溝の外へ飛
散するようになる。
した上記のガス供給ノズルは、切断溝の長さが比較的長
くなるシリコン単結晶などの被切断物の場合、切断部分
に反応ガスを効率よく供給して能率的に切断することが
できるが、薄い被切断物を紙切りのように、すなわち、
ガス供給ノズルのガス噴出口を被切断物の端縁面に向け
かつノズルの板面を被切断物の表面に交差する状態で、
ガス供給ノズルを上記表面に沿う方向に移動させて切断
するような場合、切断溝の長さ（被切断物の厚さに相当
する。）が非常に短くて反応ガスを切断溝に留滞させる
抵抗が全くなくなり、反応ガスが切断溝の外に飛散する
ため、切断部分に反応ガスを効率よく供給して被切断物
を円滑に切断することができない。ワイヤ電極がガス供
給ノズルと切断溝底との間にあって反応ガスの切断部分
への供給を阻害するので、一層、反応ガスが溝の外へ飛
散するようになる。
【０００８】本発明は、薄い被加工物を紙切りのように
切断する場合に、加工部分に反応ガスを効率よく的確に
供給することができるラジカル反応式精密加工装置のガ
ス供給ノズルを提供することを目的とする。
切断する場合に、加工部分に反応ガスを効率よく的確に
供給することができるラジカル反応式精密加工装置のガ
ス供給ノズルを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１のラジカル反応式精密加工装置のガス供
給ノズルは、ノズル本体に、ワイヤ電極がその長手方向
に移動する透孔と、該透孔に反応ガスを流す流通孔とを
形成し、上記透孔の一方の開口端を、被加工物の加工部
分に反応ガスを噴出するガス噴出口とした構成とした。
めに、請求項１のラジカル反応式精密加工装置のガス供
給ノズルは、ノズル本体に、ワイヤ電極がその長手方向
に移動する透孔と、該透孔に反応ガスを流す流通孔とを
形成し、上記透孔の一方の開口端を、被加工物の加工部
分に反応ガスを噴出するガス噴出口とした構成とした。
【００１０】また、請求項２の発明は、ノズル本体に、
ワイヤ電極がその長手方向に移動する透孔と、該透孔に
反応ガスを流す流通孔とを形成し、上記透孔の両方の開
口端を、被加工物の加工部分に反応ガスを噴出するガス
噴出口とした構成とした。
ワイヤ電極がその長手方向に移動する透孔と、該透孔に
反応ガスを流す流通孔とを形成し、上記透孔の両方の開
口端を、被加工物の加工部分に反応ガスを噴出するガス
噴出口とした構成とした。
【００１１】また請求項３の発明は、請求項１の発明に
おいて、ガス噴出口と反対側の透孔に反応ガスの漏洩を
防ぐシール部材を設けた構成とした。
おいて、ガス噴出口と反対側の透孔に反応ガスの漏洩を
防ぐシール部材を設けた構成とした。
【００１２】更に、請求項４の発明は、請求項１，２又
は３の発明において、ノズル本体の透孔部分を透明とし
た構成とした。
は３の発明において、ノズル本体の透孔部分を透明とし
た構成とした。
【００１３】
【作用】請求項１と請求項２のガス供給ノズルにおいて
は、反応ガスは透孔を通ってガス噴出口からワイヤ電極
と同軸的にワイヤ電極に沿って切断溝の長さ方向、すな
わち、薄い被加工物の厚さ方向に噴出される。したがっ
て、反応ガスはワイヤ電極によって流れを阻害されるこ
となく、効率的かつ的確に加工部分に供給されるように
なる。
は、反応ガスは透孔を通ってガス噴出口からワイヤ電極
と同軸的にワイヤ電極に沿って切断溝の長さ方向、すな
わち、薄い被加工物の厚さ方向に噴出される。したがっ
て、反応ガスはワイヤ電極によって流れを阻害されるこ
となく、効率的かつ的確に加工部分に供給されるように
なる。
【００１４】請求項２の発明においては、ノズル本体
の、ワイヤ電極の長手方向における前後に並ぶ二つの被
加工物に反応ガスを供給することができる。また請求項
３の発明においては、流通孔から透孔に流された反応ガ
スの全量を一つのガス噴出口から噴出させて切断溝に供
給することができる。請求項４のガス供給ノズルによれ
ば、透孔内のワイヤ電極の上下方向の位置等を容易に調
整することができ、ワイヤ周りからのガス流量を均一に
することが可能となる。
の、ワイヤ電極の長手方向における前後に並ぶ二つの被
加工物に反応ガスを供給することができる。また請求項
３の発明においては、流通孔から透孔に流された反応ガ
スの全量を一つのガス噴出口から噴出させて切断溝に供
給することができる。請求項４のガス供給ノズルによれ
ば、透孔内のワイヤ電極の上下方向の位置等を容易に調
整することができ、ワイヤ周りからのガス流量を均一に
することが可能となる。
【００１５】
【実施例】図１ないし図３は本発明に係るラジカル反応
式精密加工装置のガス供給ノズルの一実施例を示す。こ
れらの図において符号１はノズル本体である。ノズル本
体１はセラミックス又はプラスチックス等の絶縁材料で
製作されている。ノズル本体１の下部には断面円形の透
孔１ａが水平かつ直線状に形成され、また中央部には直
線状の流通孔１ｂが透孔１ａに対して垂直に形成されて
いる。流通孔１ｂは透孔１ａに連通されており、流通孔
１ｂの中心線を中心に左右対称となっている。
式精密加工装置のガス供給ノズルの一実施例を示す。こ
れらの図において符号１はノズル本体である。ノズル本
体１はセラミックス又はプラスチックス等の絶縁材料で
製作されている。ノズル本体１の下部には断面円形の透
孔１ａが水平かつ直線状に形成され、また中央部には直
線状の流通孔１ｂが透孔１ａに対して垂直に形成されて
いる。流通孔１ｂは透孔１ａに連通されており、流通孔
１ｂの中心線を中心に左右対称となっている。
【００１６】ノズル本体１の上端部には接続金具２が取
り付けられている。接続金具２はパイプ３を流通孔１ｂ
に接続するものであり、塩素系やフッ素系等の反応ガス
はガス供給源（図示せず）からパイプ３を通して流通孔
１ｂに送られる構成とされている。透孔１ａの直径は、
被加工物Ｍの切断に使用されるワイヤ電極Ｗの直径より
も僅かに大きくされ、ワイヤ電極Ｗは透孔１ａを通って
その長手方向に移動する。
り付けられている。接続金具２はパイプ３を流通孔１ｂ
に接続するものであり、塩素系やフッ素系等の反応ガス
はガス供給源（図示せず）からパイプ３を通して流通孔
１ｂに送られる構成とされている。透孔１ａの直径は、
被加工物Ｍの切断に使用されるワイヤ電極Ｗの直径より
も僅かに大きくされ、ワイヤ電極Ｗは透孔１ａを通って
その長手方向に移動する。
【００１７】透孔１ａの被加工物Ｍ側（図１の場合は、
ワイヤ電極Ｗの出口側）の開口端がガス噴出口１ｃとさ
れ、被加工物Ｍの加工部分に反応ガスを噴出する。被加
工物Ｍは肉厚の小さい平板状をしており、その平板面Ｍ
1，Ｍ2がワイヤ電極Ｗの長さ方向に直交もしくは略直交
するように配置されている。
ワイヤ電極Ｗの出口側）の開口端がガス噴出口１ｃとさ
れ、被加工物Ｍの加工部分に反応ガスを噴出する。被加
工物Ｍは肉厚の小さい平板状をしており、その平板面Ｍ
1，Ｍ2がワイヤ電極Ｗの長さ方向に直交もしくは略直交
するように配置されている。
【００１８】上記の構成とされた本発明のガス供給ノズ
ルＡを使用するラジカル反応式精密加工装置の一例を図
４を参照して説明する。
ルＡを使用するラジカル反応式精密加工装置の一例を図
４を参照して説明する。
【００１９】台車１１の上に加工室１２が設けられ、該
加工室１２内には、ワイヤ電極Ｗの供給機構１３と、ワ
イヤ電極Ｗの引取り機構１４、被加工物Ｍの支持機構１
５、給電機構１６、及び本ガス供給ノズルＡ等が設けら
れている。
加工室１２内には、ワイヤ電極Ｗの供給機構１３と、ワ
イヤ電極Ｗの引取り機構１４、被加工物Ｍの支持機構１
５、給電機構１６、及び本ガス供給ノズルＡ等が設けら
れている。
【００２０】ワイヤ電極Ｗの供給機構１３は、ワイヤ電
極Ｗが巻かれているワイヤ供給用ボビン１７と、ワイヤ
電極Ｗを案内する案内ローラ１８とを有する。また、ワ
イヤ電極Ｗの引取り機構１４は、ワイヤ電極Ｗの案内ロ
ーラ１９と、ワイヤ電極Ｗを引き取るワイヤ引取り用ボ
ビン２０、及びこのボビン２０を回転駆動する駆動モー
タ（図示せず）とを有する。支持機構１５は被加工物Ｍ
を支持するものであり、切断の進行にしたがって被加工
物Ｍを自動的に、或いは手動で徐々に上昇させる構成と
されている。
極Ｗが巻かれているワイヤ供給用ボビン１７と、ワイヤ
電極Ｗを案内する案内ローラ１８とを有する。また、ワ
イヤ電極Ｗの引取り機構１４は、ワイヤ電極Ｗの案内ロ
ーラ１９と、ワイヤ電極Ｗを引き取るワイヤ引取り用ボ
ビン２０、及びこのボビン２０を回転駆動する駆動モー
タ（図示せず）とを有する。支持機構１５は被加工物Ｍ
を支持するものであり、切断の進行にしたがって被加工
物Ｍを自動的に、或いは手動で徐々に上昇させる構成と
されている。
【００２１】給電機構１６は、二つの給電ブラシ２２，
２３を主体とする。給電ブラシ２２，２３は被加工物Ｍ
の前後（図４では左右）に配設され、ワイヤ電極Ｗに給
電する。ワイヤ電極Ｗはガス供給ノズルＡの透孔１ａに
挿通されていることは前に述べた通りである。
２３を主体とする。給電ブラシ２２，２３は被加工物Ｍ
の前後（図４では左右）に配設され、ワイヤ電極Ｗに給
電する。ワイヤ電極Ｗはガス供給ノズルＡの透孔１ａに
挿通されていることは前に述べた通りである。
【００２２】次に本発明に係るラジカル反応式精密加工
装置のガス供給ノズルＡの作用を説明する。
装置のガス供給ノズルＡの作用を説明する。
【００２３】ワイヤ供給用ボビン１７に巻かれたワイヤ
電極Ｗを、案内ローラ１８、給電ブラシ２２、本ガス供
給ノズルＡ、給電ブラシ２３、案内ローラ１９を経てワ
イヤ引取り用ボビン２０に巻き取りながら、これに電圧
を印加し、またパイプ３を通じてガス供給ノズルＡに反
応ガスを送る。
電極Ｗを、案内ローラ１８、給電ブラシ２２、本ガス供
給ノズルＡ、給電ブラシ２３、案内ローラ１９を経てワ
イヤ引取り用ボビン２０に巻き取りながら、これに電圧
を印加し、またパイプ３を通じてガス供給ノズルＡに反
応ガスを送る。
【００２４】そして、被加工物Ｍの端縁Ｍ3 にワイヤ電
極Ｗを対面させた後支持機構１５により上記被加工物Ｍ
に上昇送り移動を与える。これにより被加工物Ｍは、そ
の端縁Ｍ3 の方向より切込み溝ｍが形成されて行き、平
板面Ｍ1，Ｍ2に直交もしくは略直交する切断加工（紙切
りのような切断加工）が行われる。反応ガスは、流通孔
１ｂから透孔１ａに流れ、ガス噴出口１ｃから被加工物
Ｍに向けてワイヤ電極Ｗと同軸的に噴出される。この
際、ワイヤ電極Ｗは反応ガスの噴出を遮ることがないの
で、反応ガスは効率よく、しかも的確に被加工物Ｍの加
工部分に供給されるようになる。
極Ｗを対面させた後支持機構１５により上記被加工物Ｍ
に上昇送り移動を与える。これにより被加工物Ｍは、そ
の端縁Ｍ3 の方向より切込み溝ｍが形成されて行き、平
板面Ｍ1，Ｍ2に直交もしくは略直交する切断加工（紙切
りのような切断加工）が行われる。反応ガスは、流通孔
１ｂから透孔１ａに流れ、ガス噴出口１ｃから被加工物
Ｍに向けてワイヤ電極Ｗと同軸的に噴出される。この
際、ワイヤ電極Ｗは反応ガスの噴出を遮ることがないの
で、反応ガスは効率よく、しかも的確に被加工物Ｍの加
工部分に供給されるようになる。
【００２５】ところで、ガス噴出口１ｃから噴出された
反応ガスは円錐状に拡散し、徐々にその速度を低下させ
る。図５に、直径０．４ｍｍのガス噴出口１ｃから初速
１０００ｍ／ｓで噴出された反応ガスの、ガス噴出口１
ｃからの距離と速度の関係を示す。また表１に被加工物
Ｍの厚さ（切断長さ）と切断速度の関係をそれぞれ示
す。
反応ガスは円錐状に拡散し、徐々にその速度を低下させ
る。図５に、直径０．４ｍｍのガス噴出口１ｃから初速
１０００ｍ／ｓで噴出された反応ガスの、ガス噴出口１
ｃからの距離と速度の関係を示す。また表１に被加工物
Ｍの厚さ（切断長さ）と切断速度の関係をそれぞれ示
す。
【００２６】
【表１】
【００２７】この二つの図表から、ガス流速の低下が加
工速度を低下させる主要因であることが理解される。加
工速度は、反応ガスの噴出速度はもとより、被加工物Ｍ
の材質等によっても大きく変わるが、表１の実験結果か
らは、厚さが５ｍｍ以下の薄い被加工物Ｍの加工を対象
とすることが好ましいことが分かる。
工速度を低下させる主要因であることが理解される。加
工速度は、反応ガスの噴出速度はもとより、被加工物Ｍ
の材質等によっても大きく変わるが、表１の実験結果か
らは、厚さが５ｍｍ以下の薄い被加工物Ｍの加工を対象
とすることが好ましいことが分かる。
【００２８】図のガス供給ノズルＡにおいては、反応ガ
スは、ワイヤ電極Ｗの入口側（図１で右側）の透孔開口
端（ガス噴出口）１ｄからも噴出する。この噴出ガスは
無駄になるので、ノズル本体１の図１で右側にも被加工
物Ｍを配設して左右二つの被加工物Ｍを同時に切断する
ことができる。
スは、ワイヤ電極Ｗの入口側（図１で右側）の透孔開口
端（ガス噴出口）１ｄからも噴出する。この噴出ガスは
無駄になるので、ノズル本体１の図１で右側にも被加工
物Ｍを配設して左右二つの被加工物Ｍを同時に切断する
ことができる。
【００２９】また、透孔１ａの開口端１ｄに、例えば図
６のように、ワイヤ電極Ｗに傷付けることなくその移動
を自由にするフエルト等の二つ割り状のシール部材４，
４を取付け金具５で取り付けることができる。ノズル本
体１の透孔１ａの部分を透明にしておくと、透孔１ａ中
でのワイヤ電極Ｗの位置を正確に決定でき、反応ガスを
加工部分により的確にかつ最良の状態で供給することが
できる。
６のように、ワイヤ電極Ｗに傷付けることなくその移動
を自由にするフエルト等の二つ割り状のシール部材４，
４を取付け金具５で取り付けることができる。ノズル本
体１の透孔１ａの部分を透明にしておくと、透孔１ａ中
でのワイヤ電極Ｗの位置を正確に決定でき、反応ガスを
加工部分により的確にかつ最良の状態で供給することが
できる。
【００３０】本発明において、ノズル本体１の形状や構
造、ガス噴出口１ｃ，１ｄの断面形状等は任意であり、
特にガス噴出口１ｃ、１ｄはなるべくガスの高速噴出が
できる形状とされる。
造、ガス噴出口１ｃ，１ｄの断面形状等は任意であり、
特にガス噴出口１ｃ、１ｄはなるべくガスの高速噴出が
できる形状とされる。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１のラジカ
ル反応式精密加工装置のガス供給ノズルは、ノズル本体
に、ワイヤ電極がその長手方向に移動する透孔と、該透
孔に反応ガスを流す流通孔とが形成され、上記透孔の一
方の開口端が被加工物の加工部分に反応ガスを噴出する
ガス噴出口とされた構成とされ、また請求項２のガス供
給ノズルは、ノズル本体に、ワイヤ電極がその長手方向
に移動する透孔と、該透孔に反応ガスを流す流通孔とが
形成され、上記透孔の両方の開口端が被加工物の加工部
分に反応ガスを噴出するガス噴出口とされた構成とされ
ているので、いずれの場合も、反応ガスの流れをワイヤ
電極によって阻害されることなく、反応ガスを被加工物
の加工部分に効率よく、かつ的確に供給することができ
る。請求項２の発明は上記のほか、１個のノズルで二つ
の加工部分に反応ガスを無駄なく供給することができ
る。
ル反応式精密加工装置のガス供給ノズルは、ノズル本体
に、ワイヤ電極がその長手方向に移動する透孔と、該透
孔に反応ガスを流す流通孔とが形成され、上記透孔の一
方の開口端が被加工物の加工部分に反応ガスを噴出する
ガス噴出口とされた構成とされ、また請求項２のガス供
給ノズルは、ノズル本体に、ワイヤ電極がその長手方向
に移動する透孔と、該透孔に反応ガスを流す流通孔とが
形成され、上記透孔の両方の開口端が被加工物の加工部
分に反応ガスを噴出するガス噴出口とされた構成とされ
ているので、いずれの場合も、反応ガスの流れをワイヤ
電極によって阻害されることなく、反応ガスを被加工物
の加工部分に効率よく、かつ的確に供給することができ
る。請求項２の発明は上記のほか、１個のノズルで二つ
の加工部分に反応ガスを無駄なく供給することができ
る。
【００３２】また、請求項３のガス供給ノズルは請求項
１の発明において、ガス噴出口と反対側の透孔に反応ガ
スの漏洩を防ぐシール部材が設けられた構成とされてい
るので、この場合も反応ガスの無駄をなすくことができ
る。
１の発明において、ガス噴出口と反対側の透孔に反応ガ
スの漏洩を防ぐシール部材が設けられた構成とされてい
るので、この場合も反応ガスの無駄をなすくことができ
る。
【００３３】更に、請求項４の発明は、請求項１，２又
は３のガス供給ノズルにおいて、ノズル本体の透孔部分
が透明とされた構成とされているので、上記のほか、透
孔内のワイヤ電極の位置を正確に決定でき、反応ガスを
被加工物の加工部分により的確にかつ最良の状態で供給
することができる。
は３のガス供給ノズルにおいて、ノズル本体の透孔部分
が透明とされた構成とされているので、上記のほか、透
孔内のワイヤ電極の位置を正確に決定でき、反応ガスを
被加工物の加工部分により的確にかつ最良の状態で供給
することができる。
【図１】 本発明の一実施例を示すもので、本発明に係
るラジカル反応式精密加工装置のガス供給ノズルの一部
を破断した正面図である。
るラジカル反応式精密加工装置のガス供給ノズルの一部
を破断した正面図である。
【図２】 本ガス供給ノズルの外観図である。
【図３】 透孔とワイヤ電極の関係を示す側面図であ
る。
る。
【図４】 本ガス供給ノズルを使用したラジカル反応式
精密加工装置の断面図である。
精密加工装置の断面図である。
【図５】 ガス噴出口からの距離と反応ガスの流速の関
係を示す図である。
係を示す図である。
【図６】 シール部材の取付け例を示す正面図である。
１ ノズル本体 １ａ 透孔 １ｂ 流通孔 １ｃ，１ｄ ガス噴出口 ４ シール部材 Ｍ 被加工物 Ｗ ワイヤ電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/301 Ｈ０１Ｌ 21/78 Ｓ (72)発明者 城野 義巳 神奈川県横浜市磯子区新磯子町27番地 株式会社新潟鉄工所 横浜開発センター 材料・構造研究部内 (56)参考文献 特開 平５−234942（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−334038（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−334039（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−328400（ＪＰ，Ａ)
Claims (4)
- 【請求項１】 ノズル本体に、ワイヤ電極がその長手方
向に移動する透孔と、該透孔に反応ガスを流す流通孔と
が形成され、上記透孔の一方の開口端が被加工物の加工
部分に反応ガスを噴出するガス噴出口とされたことを特
徴とするラジカル反応式精密加工装置のガス供給ノズ
ル。 - 【請求項２】 ノズル本体に、ワイヤ電極がその長手方
向に移動する透孔と、該透孔に反応ガスを流す流通孔と
が形成され、上記透孔の両方の開口端が被加工物の加工
部分に反応ガスを噴出するガス噴出口とされたことを特
徴とするラジカル反応式精密加工装置のガス供給ノズ
ル。 - 【請求項３】 ガス噴出口と反対側の透孔に反応ガスの
漏洩を防ぐシール部材が設けられたことを特徴とする請
求項１記載のラジカル反応式精密加工装置のガス供給ノ
ズル。 - 【請求項４】 ノズル本体の透孔部分が透明とされたこ
とを特徴とする請求項１，２又は３記載のラジカル反応
式精密加工装置のガス供給ノズル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9817093A JP2531431B2 (ja) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | ラジカル反応式精密加工装置のガス供給ノズル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9817093A JP2531431B2 (ja) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | ラジカル反応式精密加工装置のガス供給ノズル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06310475A JPH06310475A (ja) | 1994-11-04 |
| JP2531431B2 true JP2531431B2 (ja) | 1996-09-04 |
Family
ID=14212586
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9817093A Expired - Lifetime JP2531431B2 (ja) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | ラジカル反応式精密加工装置のガス供給ノズル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2531431B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012201572A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Asahi Glass Co Ltd | 板状ガラス部材の割断方法、および割断装置 |
-
1993
- 1993-04-23 JP JP9817093A patent/JP2531431B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06310475A (ja) | 1994-11-04 |
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