JPH05195208A - 真空蒸着装置のための列型蒸発器 - Google Patents
真空蒸着装置のための列型蒸発器Info
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- JPH05195208A JPH05195208A JP4184913A JP18491392A JPH05195208A JP H05195208 A JPH05195208 A JP H05195208A JP 4184913 A JP4184913 A JP 4184913A JP 18491392 A JP18491392 A JP 18491392A JP H05195208 A JPH05195208 A JP H05195208A
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
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Abstract
能であって、蒸発プロセス中に電流供給が中断されずし
かも構造コストが安く済むような列型蒸発器を提供する
ことである。また、列型蒸発器の冷却装置に漏れが生じ
たり、これが故障した場合に、プロセス室内に水が侵入
することがないようにする。 【構成】 一方の極性を有する給電部3が支持体6に固
く導電接続されていて、他方の極性を有する給電部4
が、蒸発室5の平面に対して平行な平面に延びるプラン
ジャ9に摩擦接続式に接続されているか、又は該プラン
ジャ9に一体的に構成されており、蒸発室とは反対側に
向けられた、プランジャの端部が、それぞれプロセス室
11の壁部10を貫通案内されていて、周囲空気の圧力
にさらされている。
Description
材蒸着装置のための列型蒸発器であって、プロセス室内
に配置された多数の蒸発室より成っており、これらの蒸
発室が、緊締ジョーとして構成された給電部にそれぞれ
接触し、電流によって加熱され個別に出力制御可能であ
って、該電流供給部が列型蒸発器の全長に亙って延び
る、導電性の支持体によって保持又はガイドされてい
て、一方の極性を有する給電部が支持体に固く導電接続
されていて、他方の極性を有する給電部が支持体に絶縁
して支承され、かつ、絶縁して配置されて電気的なリー
ド線に接続されている形式のものに関する。
ード線と、定置に配置された第2のリード線で保持及び
ガイドされかつばね力を受けている押圧部材との間で、
トラフ状の蒸発室が緊締されている形式の列型蒸発器は
公知である(例えばアメリカ合衆国特許第338711
6号明細並びに同第2969448号明細書参照)。
触し、電流によって加熱されかつ個別に出力制御可能で
ある多数の蒸発器よる成る、帯材蒸着装置のための列型
蒸発器も公知である(ドイツ連邦共和国特許出願第40
16225号明細書参照)。この公知の装置において
は、スリーブ状の給電部は、列型蒸発器の全長に亙って
延びる、導電性の支持体によってそれぞれ保持され、一
方の極性を有する給電部が支持体に導電接続されてい
て、他方の極性を有する給電部が絶縁されて支持体を貫
通案内され、絶縁配置されたリード線に接続されてい
る。この公知の装置においては、1つの蒸発器の給電部
がそれぞればね部材によって負荷されていて、この負荷
力は調節カムによって調節可能であるので、蒸発器を位
置保持して確保する緊定力は個別に調節可能である。
の蒸発器が各給電部の間で個別に緊締可能であって、蒸
発プロセス中に電流供給が中断されずしかも構造コスト
が安く済むような列型蒸発器を提供することである。ま
た、列型蒸発器の冷却装置に漏れが生じたり、これが故
障した場合に、プロセス室内に水が侵入することがない
ようにすることである。
明によれば、他方の極性を有する給電部が、蒸発室の平
面に対して平行な平面に延びるプランジャに摩擦接続式
に接続されているか、又は該プランジャに一体的に構成
されており、蒸発室とは反対側に向けられた、プランジ
ャの端部が、それぞれプロセス室の壁を貫通案内されて
いて、周囲空気の圧力にさらされている。
内側に中間フランジ19を介在して固定された支持体6
と、該支持体6にしっかりとねじ止め固定されたアース
レール20と、該アースレール20に支えられた第1の
電流接点として構成された緊締ジョー3,3′と、これ
らの第1の緊締ジョー3,3′に向き合う、それぞれプ
ランジャ9によって保持された第2の緊締ジョー4,
4′と、これら2つの緊締ジョー3,4若しくは3′,
4′によって保持された蒸発室5,5′と、各プランジ
ャ9を取り囲むクランプ16,16′(このクランプ1
6,16′にそれぞれ高圧供給ラインとしてのリード線
7が固定されている)と、支持体6に一体的に形成され
た横材若しくは支持リブ21と、該支持リブ21によっ
てそれぞれ取り囲まれた、電気的に絶縁された滑り軸受
17,17′と、前記中間フランジ19の開口内にそれ
ぞれ挿入された、棒状のプランジャ9,9′のためのプ
ランジャガイド18,18′と、各プランジャ9内に設
けられた、挿入された冷却媒体分配導管22を有する袋
孔13と、冷却水戻し導管のためのスリーブ15,1
5′と、冷却水流入導管のためのスリーブ14,14′
とから成っている。
ようにするために、まずプランジャ9をばね8のばね力
に抗して矢印A方向(図面で右方向)にずらさなければ
ならないが、これは容易に行うことができる。何故なら
ば、プランジャはほぼ円筒形のピンの形状を有してい
て、滑り軸受17内及び気密なプランジャガイド18内
で小さい摩擦で容易に移動させることができるからであ
る。次いで蒸発室5は、緊締ジョー3,4の互いに向き
合う端面側に設けられた2つの切欠23,24内に挿入
される。プランジャ9が再び解放されると、ばね部材8
(一方では電気的に絶縁された滑り軸受17の端面側若
しくは横材21に当接し、他方ではプランジャ9のフラ
ンジ12に当接している)がプランジャ9を、蒸発室5
が2つの緊締ジョー3,4によって十分に緊締保持され
るようになるまで、矢印A方向とは逆方向、つまり図面
で左方向に押しやる。プロセス室11を排気する際に、
壁部10の左側の室と装置周囲の雰囲気との間の圧力差
が調節され、次いでこの圧力差によってプランジャ9の
横断面Fが負荷され、これによって蒸発室5における緊
締力が著しく高められ(例えば壁部10によって)、緊
締ジョー3,4と蒸発室5との間の確実な電気接続が得
られる。
ランジャ9内に冷却装置を配置することが重要である。
冷却水はそれぞれスリーブ14(冷却水導入導管)及び
分配導管22を介して袋孔13内に流れ込み、ここから
スリーブ15を介して冷却水戻し導管に案内される。運
転中に漏れが生じることがあるとしても、この漏れは、
装置全体の確実な運転を維持するために支障のない2つ
のスリーブ14,15の範囲でのみ生じる。冷却媒体が
プロセス室内に侵入することは全くない。リード線7
も、外部から設けることができるように構成されてい
る。つまり、リード線7に接続されたクランプ16は、
プロセス室内を処理することなしにいつでも交換するこ
とができる。
を保持するための装置の一部破断した側面図である。
数の蒸発器の、図1に対して縮小し一部破断した平面図
である。
体、 7 リード線、8 ばね部材、9 プランジャ、
10 壁部、 11 プロセス室、 12フランジ、
13 袋孔、 14,15 スリーブ、 16 クラ
ンプ、 17滑り軸受、 18 プランジャガイド、
19 中間フランジ、 20 アースレール、 21
支持リブ、 22 冷却媒体分配導管、 23,24
切欠、 25 支持体、 26 プロセス室
Claims (5)
- 【請求項1】 真空蒸着装置のための列型蒸発器であっ
て、プロセス室(11)内に配置された多数の蒸発室
(5,5′)より成っており、これらの蒸発室(5,
5′)が、緊締ジョーとして構成された給電部(3,
3′,4,4′)に接触し、電流によって加熱され個別
に出力制御可能であって、該給電部(3,4)が列型蒸
発器の全長に亙って延びる、導電性の支持体(6,2
5)によって保持又はガイドされていて、一方の極性を
有する給電部(3,3′)が支持体(6)に固く導電接続
されていて、他方の極性を有する給電部(4,4′)が支
持体(6,25)に絶縁して支承され、かつ、絶縁して
配置されて電気的なリード線(7)に接続されている形
式のものにおいて、他方の極性を有する給電部(4,
4′)が、蒸発室(5,5′)の平面に対して平行な平
面に延びるプランジャ(9,9′)に摩擦接続式に接続
されているか、又は該プランジャ(9,9′)と一体的
に構成されており、蒸発室とは反対側に向けられた、プ
ランジャの端部が、それぞれプロセス室(11)の壁部
(10)を貫通案内されていて、周囲空気の圧力にさらさ
れていることを特徴とする、真空蒸着装置のための列型
蒸発器。 - 【請求項2】 プランジャ(9)に接続された緊締ジョ
ー(4)に働く負荷を生ぜしめるために、一方では支持
体(6)に又はプロセス室(11)の壁部(10)の内
側に支えられ、他方ではフランジ(12)に又はプラン
ジャ(9)の突起部に支えられたばね部材(8)が設け
られている請求項1記載の列型蒸発器。 - 【請求項3】 プランジャ(9)の長手方向に延びる袋
状の切欠又は袋孔(13)が設けられており、該袋孔
(13)が、プロセス室(11)の外側から、周囲空気
にさらされるプランジャ(9)の自由端部内に開口する
冷却水流入導管(14)及び冷却水戻し導管(15)に
連通している、請求項2記載の列型蒸発器。 - 【請求項4】 ほぼ棒状に形成されたプランジャ(9)
の、外部に突き出て周囲空気にまで突入する端部が、電
気的なリード線(7)に接続されたクランプ(16)に
よって把持されている、請求項1から3までのいずれか
1項記載の列型蒸発器。 - 【請求項5】 プランジャ(9)が、プロセス室(1
8)の壁部(10)に設けられたプランジャガイド(1
8)の範囲内で、及びメインフレーム若しくは支持体
(6)の滑り軸受け(17)の範囲内で、それぞれ同一
の横断面形状の区分を有している、請求項1から4まで
のいずれか1項記載の列型蒸発器。
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DE1202616B (de) * | 1962-02-23 | 1965-10-07 | Siemens Ag | Verfahren zum Entfernen der bei der Epitaxie auf dem Heizer abgeschiedenen Halbleiterschicht |
US3537886A (en) * | 1964-09-22 | 1970-11-03 | Westinghouse Electric Corp | Flash evaporation of corrosive media |
US3387116A (en) * | 1965-10-08 | 1968-06-04 | Contiental Can Company Inc | Contacts for vaporizers employed in vacuum metallizing |
US3861353A (en) * | 1973-09-25 | 1975-01-21 | Xerox Corp | System for vapor deposition of thin films |
DE2402111C3 (de) * | 1974-01-17 | 1979-01-11 | Leybold-Heraeus Gmbh & Co Kg, 5000 Koeln | Reihenverdampfer für Vakuumbedampfungsanlagen |
FR2351496A1 (fr) * | 1976-05-11 | 1977-12-09 | Radiotechnique Compelec | Dispositifs de mise en pression de contacts electriques d'elements chauffants fonctionnant sous vide |
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