JPH051882B2

JPH051882B2 -

Info

Publication number: JPH051882B2
Application number: JP59093929A
Authority: JP
Inventors: Ichiro Hashimoto; Katsushige Nakamura
Original assignee: Yokogawa Hewlett Packard Ltd; Mitaka Kohki Co Ltd
Current assignee: Mitaka Kohki Co Ltd; Hewlett Packard Japan Inc
Priority date: 1984-05-11
Filing date: 1984-05-11
Publication date: 1993-01-11
Also published as: JPS60237307A; DE3579358D1; EP0160999A2; EP0160999A3; EP0160999B1; US4707129A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明はレーザ光源を用いた測長器に係り、特
に自由に空間を移動する被制御物体の相対移動距
離測定、絶対移動距離測定および絶対位置測定を
行うレーザ測長器に関する。

（従来技術とその問題点）レーザ測長器は、例えば集積回路の製造におけ
る位置決め装置として使用される高確度測定器で
あり、本出願人が以前に出願した実公昭54年第
34601号（登録新案第1329977号）にも述べられて
おり公知である。かかる測長器はレーザ光源から
発射されるレーザ光軸上に、被制御物体に装着さ
れた反射鏡（例えばコーナーキユーブ・ミラー）
を配置し、反射鏡の相対移動距離を測定するもの
である。したがつて次に述べる欠点があつた。(1)
反射鏡は常にレーザ光軸常に存在せねばならない
ので、反射鏡が自由に空間を移動する制御系にお
いては測長できない。(2)測長はドプラー効果を使
用しているため、反射鏡の始動点より停止点まで
の距離測定、即ち相対移動距離測定（相対値測
定）であり、ある基準点から反射鏡までの絶対距
離測定（絶対値測定）をすることはできない。(3)
反射鏡が装着された被制御物体は制御指令（例え
ばコンピユータからの移動命令）に従うのみで、
レーザ光源側に対応制御信号を帰還送出しないの
で、両者の間に何らの制御系も存在せず、したが
つて被制御物体の自由に動ける空間が制限されて
いた。(4)レーザ測長に付随する芯出し作業に長時
間を要した。即ち、反射鏡がＡ点から最大Ｂ点ま
で移動するとき、Ａ〜Ｂの範囲で反射光ビームが
必ずレーザ光源側の所定位置に常時帰還するよう
に、測長前にレーザ光源側および／または被制御
側を調整する必要があつた。

（発明の目的）本発明は上述した全ての欠点を除去するために
なされたもので、被制御系および制御系の両方に
頭脳を持たせ、反射鏡が自由に空間を移動しても
相対および絶対値測定が可能で且つ芯出し作業を
不要としたレーザ測長器を提供することである。

（発明の概要）本発明は、反射鏡が自由に空間を移動しても相
対値測定をなすこと、反射鏡が自由に空間を移動
しても絶対値測定をなすことの二つを含んでい
る。まず前者について説明する。主レーザ光源、
光検出器、角度エンコーダ等を含むレーザを発射
する部分は二軸ジンバル装置に装着され、一方反
射鏡（コーナーキユーブ・ミラー）、光検出器等
を含むレーザを反射する部分は二軸ジンバル装置
に装着される。そしてさらに前者の二軸ジンバル
装置には、主レーザ光源と同軸上に補助レーザが
装着される。また両二軸ジンバル装置には、モー
タが装着される。それにより反射鏡が移動して
も、主レーザ光源からの光ビームが反射鏡中の所
定位置に常時当たるように自動的に制御される。
即ち反射鏡が移動したとき、レーザ反射部が常時
反射鏡を追尾するように制御される。したがつ
て、反射鏡が自由に空間を移動しても相対値測定
が可能となる。

次に後者について説明する。絶対値測定のため
には、前述した自由追尾機構の外に、レーザ測長
付絶対値測定用治具が使用される。この治具は前
述した登録新案に示すレーザ測長器を含む移動ス
テージより成り、移動ステージ上を移動した反射
鏡の距離とそのときのレーザ発射部の二軸ジンバ
ル装置の回転角より、ジンバル回転中心（基準
点）より反射鏡の測定点、即ちノーダルポイント
までの絶対距離（絶対位置）を測定する。したが
つて、反射鏡が空間を自由に移動したときの絶対
値測定は、まず上述したように絶対位置を求め、
次に前述した方法で相対値測定を行なえば、結果
として絶対値測定を行うことができる。

（発明の実施例）第１図は本発明によるレーザ測長器の分解斜視
図、第２図はレーザ発射部の斜視図、第４図はレ
ーザ反射部の一部斜視図である。これら図におい
て、レーザ発射部１はエレベシヨン（仰角）回転
軸EL、アジマス（方位角）回転軸AZが別個に回
転できる二軸ジンバル装置５を含む。EL軸を基
準とする回転はモータｌ、歯車ｍで行なわれ、
AZ軸を基準とする回転はモータｕ、歯車ｎで行
なわれる。ジンバル装置５の固定台６の下側にレ
ーザトランスジユーサａが固定される（第４図参
照）。レーザトランスジユーサａは主レーザ光源、
基準光と反射光とを合成検出する手段等を含む。
レーザトランスジユーサａの直前には干渉計ｂ
（前述登録新案に述べられている、いわゆるデツ
ド・パスを除去する受動装置）がそしてその前に
ハーフミラーｃが、その前にマスクｇが装着され
る。したがつてレーザトランスジユーサａから発
射された測長用光ビームは干渉計ｂ、ハーフミラ
ーｃ、マスクｇの第１穴g₁を通過してレーザ反射
部に行き、そしてそこで反射してマスクｇの第３
穴g₃、ハーフミラーｃを通つて干渉計ｂに入り、
そこで基準光と合成され、レーザトランスジユー
サａにもどる。固定台６の上測に補助レーザ光源
ｈが主レーザ光源と同軸的に固定される。この光
源ｈはレーザ反射部３が自由に空間を移動しても
測定可能とするために使用される。補助レーザ光
源ｈの前にハーフミラーｉ、その前に反射鏡４方
向規正センサｓが装着される。したがつて補助レ
ーザ光源ｈから反射された光ビームはハーフミラ
ーｉで分割される。分割された一方の光ビームイ
は４方向規正センサｓ、マスクｇの第４次g₄を通
過してレーザ反射部３に行き、そしてそこで反射
して４方向規正センサｓにもどる。分割された他
方の光ビームロはハーフミラーｃで反射され、マ
スクｇの第２穴g₂を通過しレーザ反射部３中の４
方向規正センサｋに照射される。

上述した各構成要素は第２図に示すように一体
的に構成されジンバルEL軸に固定される。AZ軸
は三点水平出架台２の上にセツトされる。移動角
度を検出するエンコーダ、例えば移動角度当り多
数の電気的パルスを発生する高感度EL軸エンコ
ーダＰ、AZ軸エンコーダ０もジンバル装置５に
装着される。

レーザ反射部３は第１図および第３図に示すよ
うに構成される。第３図はレーザ反射部３の斜視
図である。レーザ反射部３はEL軸およびAZ軸が
別個に回転できる二軸ジンバル装置７を含む。ト
ランスジユーサａから出た光ビームはマスクｄの
第１穴d₁を通過して、反射鏡（コーナキユーブ・
ミラー）ｅで反射し、マスクｄの第３穴d₃を通つ
てもどる。レーザ発射部１のマスクｇの第４穴g₄
を通つて入射した光ビームはマスクｄの第４穴d₄
を通過し、Ｑ検出用センサｑおよび反射鏡傾き検
出ミラーｆ（正常時において）に照射されると共
に反射され、第４穴d₄を通つてレーザ発射部１に
戻る。レーザ発射部１のマスクｇの第２穴g₂を通
つて入射した光ビームは、マスクｄの第２穴d₂を
通つて入射され、４方向規正センサｋに照射され
る。４方向規正センサｋは後述するように、入射
光ビームが常時センサｋの中央部に照射されるよ
うレーザ発射部１を制御する。上述した各構成要
素、ｑ，ｆ，ｄ，ｅ，ｋは第３図に示すように一
体的に構成されてセンサ部を構成し、これらは
AZ軸用モータｊにより一体的に回転される。ま
たAZ軸ｊ部枠８をEL軸用モータｔにより回転さ
せる。さらにEL軸部およびAZ軸部をモータｒに
より全体的にθ回転させる。なおモータｊ，ｔ，
ｒに対する回転機構（例えば歯車）は省略して図
示してある。

以上の説明より明らかなように、レーザトラン
スジユーサａから発射される光ビームは測長用に
使用される。そして他の構成要素は、反射鏡ｅが
装着された被制御系（例えばロボツト）が自由に
空間を移動した場合、レーザトランスジユーサａ
から発射された光ビームが常時反射鏡の所定位置
に入射し、反射するよう自動追尾機構を提供する
ものである。以下動作について詳述する。

初期設定と自動追尾動作レーザ発射部１とレーザ反射部３とが正しく芯
出しされている場合には、光ビームはマスクｄの
第１穴d₁に入り、第３穴d₃から出ていなければな
らない（このことは目で確認できる）。このこと
は反射鏡ｅが自由に空間を移動しても常時達成さ
れていなければならない。この動作について以下
に説明する。

第５図に示すように反射鏡がθだけずれている
と仮定する。モータｒを手動または自動的に駆動
してセンサ部を回転させ、第６図に示すように、
補助レーザ光源ｈからの一方の光ビームイがθ検
出用センサｑの左測（または右側）へ当たるよう
に制御する。なおトランスジユーサａからの光ビ
ームはマスクｄへ当たり、第１穴d₁には入射して
いない。ここでセンサｑは反射鏡傾き検出ミラー
（平面鏡）ｆ上に所定間隔を離して装着された左
センサと右センサより成る。今光ビームイは左セ
ンサに当たつているので、左センサは第７図に示
すようにバランス回路を介してモータｒに左回転
するよう信号を発生する。このように左右センサ
に同一光量の光が照射されるよう、つまり左右セ
ンサから同出力の信号が出るようにモータｒを回
転させる。このとき左右センサの中間には平面鏡
ｆがあるので、中央の光はレーザ発射部１に向つ
て反射される。しかしながら、左右センサｑのバ
ランスがとれたとしても、第８図のようにレーザ
反射部３がずれていると、反射ビームイは図示の
矢印方向に進んでしまう。この場合には、手動ま
たは自動的にモータｊ，ｔおよび／またはモータ
ｌ，ｕを駆動し、反射ビームイがマスクｇの大き
い穴g₄（第４穴）中に入るようにする。反射ビー
ムイが第４穴g₄中に入射されると、これは次にコ
ーナーキユーブミラー４方向規正センサｓに照射
される（第１０図参照）。規正センサｓは中央部
に貫通孔を有しその上下、左右に配置された４個
のセンサより成る。第１１図に示すように規正セ
ンサンｓの役割は、反射ビームイを受け、電気信
号に変換し、バランス回路を介してモータｔ，ｊ
を駆動させ、反射ビームイを４方向に位置された
規正センサｓの中央に導くことである。このよう
に、反射ビームイが第４穴g₄に導かれた後は自動
的にサーボが働き、レーザ発射部１と反射部３と
の光軸が合うように制御される。

次にビームロがマスクｄの第２穴d₂に入射して
いるかどうか目で確認する。光ビームイは前述し
たようにセンサｑとｓでオートガイドされている
が、光ビームロはまだ第２穴d₂に導かれていな
い。この場合には手動または自動的にモータｕと
ｌを駆動し、マスクｄに当たつている光ビームを
第２穴d₂に導く。第１２図に示すように、マスク
ｄの後方にコーナキユーブミラーｅがあり、その
光軸中芯、即ちノーダルポイントの位置に４方向
規正センサｋが固定されている。センサｋはジン
バル装置のEL軸とAZ軸にそれぞれ対応された位
置、即ちノーダルポイントの位置に固定され、こ
のノーダルポイントの位置が後述する絶対値測定
のための測定点になる（第１３図参照）。ノーダ
ルポイントの位置は反射鏡の頂点の位置である。
なお反射鏡にプリズム・コーナーキユーブミラー
を使用する場合にはプリズム材質の屈折率が関係
してくる。センサｋは第１２図、第１４図に示す
ように、上下左右の４個のセンサより成り、上下
センサに等光量の光が当たるように、光ビーム発
射部１のモータｌ（EL軸回りの回転）を、左右セ
ンサに等光量の光が当たるようにモータｕ（AZ軸
回りの回転）を制御し、光ビームロがセンサｋの
中心に当たるように制御する。かかる制御の間で
もセンサｑ，ｓは自動的にサーボ動作を行つてい
ることは勿論である。

以上説明したように、補助レーザ光源より発射
された光ビームイがセンサｓの所定位置に帰還
し、光ビームロがセンサｋの所定位置に照射され
た場合、レーザトランスジユーサａからの主光ビ
ームと光ビームイ，ロとは同軸上にあるので、主
光ビームの光軸は自動的に合つており、マスクｄ
の第１穴d₁を通過し、反射鏡で反射し、さらに第
３穴d₃を通つて干渉計ｂに戻ることになる。そし
て補助レーザ光源からの光ビームは制御可能範囲
に入つているので、反射鏡ｅ（被制御系）が自由
に空間を移動しても、サーボ動作がかかり、レー
ザ発射部１とレーザ反射部３とは相互に補完し合
つて自動追尾動作を行うことになる。

相対値測定第１５図に示すように、反射鏡ｅが、即ちセン
サｋの測定点が自由に移動しても、前述したよう
に自動追尾動作により、相対距離z₁〜z₄が測定で
きる。第１６図は被制御系をロボツトとし、その
腕にレーザ反射部を装着した場合の実際の応用例
を示す。第１６図に示したレーザ反射部３の外観
は第３図に示したものと若干相違するが基本的に
は同一である。レーザ反射部３はロボツト腕１０
に取付けられ、前述した初期設定の後、測定が開
始される。この場合ロボツト腕１０の移動に対応
して自動追尾が行なわれる。ロボツト腕１０は例
えば点から点に自由に移動する。

絶対値測定絶対値測定のためには、別にレーザ測長付絶対
値測定用治具が使用される。第１７図は測定原理
を示す図であり、第１６図の一部に測定用治具の
斜視図を示す。

絶対値を測定するためには、測定点の位置、即
ち基準点から測定点までの距離を測定（基準絶対
位置測定）することが必要である。ここで、基準
点とはレーザ発射部１のレーザトランスジユーサ
ａのジンバル回転中心であり、測定点とはレーザ
反射部３の反射鏡ｅのノーダルポイントである。
第１６図において測定用治具１２はレーザ反射部
３を搭載した移動ステージより成り、レーザ反射
部３は移動台１１に装着される。そして測長用補
助レーザ発射部１３は移動ステージの固定台１６
の一方の端部に、測長用補助レーザ反射部１４は
移動台１１にそれぞれ取付けられる。移動台１１
はモータ１５により制御され、例えばスクリユー
１７上を直線的に移動する。次に第１７図および
第１８図を用いて測定方法を説明する。なお、こ
の測定は前述した初期設定が完成した後に行なわ
れる。測定点をＡからＢへ矢印方向に直線移動す
る。ここで半径Ｒで移動すれば、測定値は変化し
ないが、直線移動なので、除々に増加し、Ｃ点で
最大となり、その後徐々に減少し、Ｂ点で元の値
（例えば零）に戻る。即ち、二等辺三角形を形成
する。このときの移動距離Ｌ（Ａ−Ｂ間の距離）
を測長用レーザ１３，１４で測定する。そして
AZエンコーダ０で回転角φを測定する。Ｌ、φ
の値より半径Ｒを求める。即ちレーザ発射部１の
ジンバル回転中心ｍより、測定点ＡまたはＢまで
の距離が求つたことになる。

次に反射鏡ｅが自由に空間を移動した場合の測
定方法を説明する。この場合は第１６図に示すよ
うに、まずレーザ反射部３を測定用治具１２に装
着して、前述の測定点の基準絶対位置測定を行
う。そして次にロボツト腕１０がレーザ反射部３
を掴み、自由に空間を動くことになる。例えば簡
単化のため測定点が同一平面をＡ→Ｂ→Ｄの順に
動いたとき、Ｄ点の絶対値測定を仮定する。第１
７，１８図の説明よりＢ点の位置が求まる。さら
にＢ→Ｄへの移動に対する相対値測定より距離Ｚ
が求まり、回転中心ｍからＤ点までの距離Ｓが求
まる。また回転角φ₂より回転角φ₃が求まる。し
たがつてＡ−Ｄ間の距離ｘおよびＤ点の絶対位置
測定ができる。反射鏡ｅは空間を自由にく動く
が、基準絶対位置測定、相対値測定、およびAZ、
EL軸エンコーダＯ、Ｐによる角度測定を行うこ
とにより、移動した測定点の絶対位置を測定する
ことができる。なお本発明をロボツトに使用する
場合には、ロボツトが移動した位置を測定するこ
とができることは勿論、ロボツトに所定位置を指
令して、そこまで移動させることができることは
勿論である。ロボツト系の座標系はレーザ系の座
標系と対応関係があるからである。

（発明の効果）以上説明したことから明らかなように、本発明
によれば従来装置の欠点を全て解決することがで
きる。即ち、反射鏡が自由に空間を移動しても相
対値測定および絶対値測定の両測定を行なうこと
ができるから、被制御系の移動した位置測定は勿
論、所定位置に被制御系を移動させることができ
る。また一つの点においてレーザ発射部とレーザ
反射部との芯出し作業を行なえば、後は自動追尾
動作を行うので、レーザ測長に付随する芯出し作
業に要する時間を大幅に短縮することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明によるレーザ測長器の分解斜視
図、第２図はレーザ発射部の斜視図、第３図はレ
ーザ反射部の斜視図、第４図はレーザ反射部の一
部斜視図、第５図から第１５図および第１７図か
ら第１９図は本発明によるレーザ測長器の動作説
明図、第１６図は被制御系をロボツトとし、その
腕にレーザ反射部を装着した場合の本発明の応用
例を示した図である。ａ：レーザトランスジユーサ、ｂ：干渉計、
ｃ：ハーフミラー、ｄ，ｇ：マスク、ｅ：コーナ
ーキユーブミラー、ｆ：コーナーキユーブミラー
傾き検出ミラー、ｈ：補助レーザ、ｉ：ハーフミ
ラー、ｊ，ｒ，ｔ，ｕ，ｌ：モータ、ｋ：４方向
規正センサ、Ｏ：AZ軸エンコーダ、ｐ：EL軸エ
ンコーダ、ｑ：θ検出用センサ、ｓ：コーナーキ
ユーブミラー４方向規正センサ、１：レーザ発射
部、３：レーザ反射部、５：二軸ジンバル装置、
６：固定台、１０：ロボツト腕、１１：移動台、
１２：絶対値測定用治具、１３：測長用補助レー
ザ発射部、１４：測長用補助レーザ反射部、１
５：モータ、１７：スクリユー。

Claims

【特許請求の範囲】１主光ビームを発射する主レーザ光源を含むレ
ーザ発射部と、発射された前記主光ビームを前記
レーザ発射部に反射するレーザ反射部と、制御手
段とを含み、前記レーザ反射部の移動を測定する
レーザ側長器において、前記レーザ発射部は前記主光ビームと同軸上に
前記レーザ反射部に向かつて進む２分割された第
１、第２補助光ビームを発射する補助レーザ光源
を含み、前記レーザ反射部は前記主光ビームを前記レー
ザ発射部の方向に反射する第１反射鏡と、前記第
１補助光ビームを反射する第２反射鏡と、前記第
１補助光ビームが前記第２反射鏡に、前記第２補
助光ビームが前記第１反射鏡にそれぞれ入射して
いか否かを検出する第１、第２光検出手段を含
み、前記レーザ発射部はさらに前記第２反射鏡で
反射された前記第１補助光ビームを検出する第３
光検出手段を含み、前記制御手段は前記第１、第２および第３光検
出手段の出力に応答し、前記レーザ発射部および
または前記レーザ反射部を物理的に動かし、前記
第１補助光ビームが前記第２反射鏡に照射される
と共に前記第２反射鏡で反射されて前記第３光検
出手段に帰還し、且つ前記第２補助光ビームが前
記第１反射鏡の中央部に到達するように制御する
可動手段を含む、レーザ測長器。２前記可動手段は前記レーザ発射部と前記レー
ザ反射部とにそれぞれ装着された二軸ジンバル装
置を含む特許請求の範囲第１項記載のレーザ測長
器。３前記第２光検出手段は左右上下に配置された
４個の光センサを含み、前記第２補助光ビームが
所定位置に照射されていることを検出する４方向
規正センサである特許請求の範囲第１項記載のレ
ーザ測長器。４前記第３光検出手段は左右上下に配置された
４個のセンサを含み、前記第１補助光ビームが所
定位置に反射帰還されていることを検出する４方
向規正センサである特許請求の範囲第１項記載の
レーザ測長器。５前記第１反射鏡はキユーブコーナ反射鏡であ
る特許請求の範囲第１項記載のレーザ測長器。６前記第２光検出手段は前記第１反射鏡のノー
ダルポイントに配置され、その出力は前記可動手
段を制御する特許請求の範囲第５項記載のレーザ
測長器。７前記第２反射鏡は平面鏡である特許請求の範
囲第１項記載のレーザ測長器。８前記レーザ反射部は入力部にマスクを有し、
該マスクは前記第１補助光ビームが通過する第１
穴、前記第２補助光ビームが通過する第２穴、お
よび前記主光ビームが通過する第３穴を有する特
許請求の範囲第１項記載のレーザ測長器。９主光ビームを反射する主レーザ光源を含むレ
ーザ発射部と、発射された前記主光ビームを前記
レーザ発射部に反射するレーザ反射部と、制御手
段と、絶対値測定用手段とを含み、前記レーザ反
射部の移動を測定するレーザ測長器において、前
記レーザ発射部は前記主光ビームと同軸上に前記
レーザ反射部に向かつて進む２分割された第１、
第２補助光ビームを発射する第１補助レーザ光源
を含み、前記レーザ反射部は前記主光ビームを前記レー
ザ発射部の方向に反射する第１反射鏡と、前記第
１補助光ビームを反射する第２反射鏡と、前記第
１補助光ビームが前記第２反射鏡に、前記第２補
助光ビームが前記第１反射鏡にそれぞれ入射して
いるか否かを検出する第１、第２光検出手段を含
み、前記レーザ発射部はさらに前記第２反射鏡で
反射された前記第１補助光ビームを検出する第３
光検出手段を含み、前記制御手段は前記第１、第２および第３光検
出手段の出力に応答し、前記レーザ発射部および
または前記レーザ反射部を物理的に動かし、前記
第１補助光ビームが前記第２反射鏡に照射される
と共に前記第２反射鏡で反射されて前記第３光検
出手段に帰還し、且つ前記第２補助光ビームが前
記第１反射鏡の中央部に到達するように制御する
可動手段を含み、前記絶対値測定用手段は前記レーザ反射部を直
線移動させるための移動手段と、前記直線移動距
離を測定する測定手段と、前記レーザ発射部を頂
点として前記レーザ反射部が直線移動した２点間
の角度を測定する角度測定手段と、計算手段とを
有し、前記測定手段は第２補助レーザ光源と、前記移
動手段に装着され前記第２補助レーザ光源からの
光ビームを受光する前記レーザ反射部とで構成さ
れて前記第２補助レーザ光源に対する前記レーザ
反射部の移動距離を測定し、前記レーザ発射部と前記レーザ反射部とによ
り、前記レーザ反射部が前記移動手段を前記レー
ザ発射部から等距離の２点間を直線移動したこと
が検出され、前記レーザ反射部が前記レーザ発射部から等距
離の２点間を直線移動したことの検出は、前記レ
ーザ反射部が前記移動手段を直線移動したとき、
前記レーザ発射部と前記レーザ反射部とによる距
離測定値が初期値から変化して次に該初期値に戻
ることの検出により行われ、前記計算手段は、前記レーザ反射部が前記レー
ザ発射部から等距離の２点間を直線移動したとき
の前記測定手段の測定距離と前記角度測定手段の
測定角度より前記レーザ発射部に対する前記レー
ザ反射部の位置を求める手段である、レーザ測長器。１０前記レーザ反射部は前記移動手段に着脱可
能に装着される特許請求の範囲第９項記載のレー
ザ測長器。１１前記レーザ反射部は前記移動手段から離れ
て自由に運動できる特許請求の範囲第１０項記載
のレーザ測長器。１２前記可動手段は前記レーザ発射部と前記レ
ーザ反射部とのそれぞれ装着された二軸ジンバル
装置を含む特許請求の範囲第９項記載のレーザ測
長器。１３前記第２光検出手段は左右上下に配置され
た４個の光センサを含み、前記第２補助光ビーム
が所定位置に照射されていることを検出する４方
向規正センサである特許請求の範囲第９項記載の
レーザ測長器。１４前記第３光検出手段は左右上下に配置され
た４個のセンサを含み、前記第１補助光ビームが
所定位置に反射帰還されていることを検出する４
方向規正センサである特許請求の範囲第９項記載
のレーザ測長器。１５前記第１反射鏡はキユーブコーナ反射鏡で
ある特許請求の範囲第９項記載のレーザ測長器。１６前記第２光検出手段は前記第１反射鏡のノ
ーダルポイントに配置され、その出力は前記可動
手段を制御する特許請求の範囲第１５項記載のレ
ーザ測長器。１７前記第２反射鏡は平面鏡である特許請求の
範囲第９項記載のレーザ測長器。１８前記レーザ反射部は入力部にマスクを有
し、該マスクは前記第１補助光ビームが通過する
第１穴、前記第２補助光ビームが通過する第２
穴、および前記主光ビームが通過する第３穴を有
する特許請求の範囲第９項記載のレーザ測長器。