JPH05186496A - プレグナ−１，４−ジエン−３，２０−ジオンの新規な置換された１６−メチルステロイド誘導体、それらの製造法、それらの１６−メチレンステロイドの製造への用途及び新規な中間体 - Google Patents

プレグナ−１，４−ジエン−３，２０−ジオンの新規な置換された１６−メチルステロイド誘導体、それらの製造法、それらの１６−メチレンステロイドの製造への用途及び新規な中間体

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JPH05186496A
JPH05186496A JP4188932A JP18893292A JPH05186496A JP H05186496 A JPH05186496 A JP H05186496A JP 4188932 A JP4188932 A JP 4188932A JP 18893292 A JP18893292 A JP 18893292A JP H05186496 A JPH05186496 A JP H05186496A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、プレグナ−１，４−ジエン−３，
２０−ジオンの置換された１６−メチルステロイド誘導
体及びそれらの製造法を提供する。 【構成】 本発明のステロイドは、次式（Ｉ） 【化１】 ｛ここで、Ｒはメチル基又は遊離の若しくは保護された
−ＣＨ2 ＯＨ基を表わし、Ｒ1 及びＲ'1はメチル基、分
岐鎖状アルキル基、アリール基、複素アリール基又はベ
ンジル基を表わし、ｎ及びｍは０又は１を表わし、Ｒ2
及びＲ3 は水素原子を表わすか、或いはＲ2 は弗素原子
を表わし及びＲ3 はホルミルオキシ又はアセチルオキシ
基を表わす｝を有する。これらの化合物は１６−メチレ
ンステロイドの製造に使用することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、プレグナ−１，４−
ジエン−３，２０−ジオンの新規な置換された１６−メ
チルステロイド誘導体、それらの製造法、それらの１６
−メチレンステロイドの製造への用途及び新規な中間体
に関する。
【０００２】
【発明の概要】しかして、本発明の主題は、次式（Ｉ）
【化２１】 ｛ここで、部分構造
【化２２】 は３−ケト−Δ４−系か、３−ケト−Δ１，４−系か、
又は３−ＯＲ4 −Δ５−系（ここで、Ｒ4 は水素原子又
はヒドロキシル基の保護基を表わす）のいずれかを表わ
し、Ｒはメチル基、−ＣＨ2 ＯＨ基又は−ＣＨ2 −Ｏ
Ｒ' 基（ここで、Ｒ' はヒドロキシル基の保護基を表わ
す）を表わし、Ｒ1 及びＲ'1は、同一であっても異なっ
ていてもよく、メチル基、β−位置に水素原子を持たな
い５〜８個の炭素原子を含有する分岐鎖状アルキル基、
１０個までの炭素原子を含有するアリール基、１０個ま
での炭素原子と窒素、硫黄及び酸素原子のうちから選択
される１個以上の複素原子とを含有する複素アリール基
又はベンジル基を表わし、ｎ及びｍは、同一であっても
異なっていてもよく、０又は１の数を表わし、Ｒ2 及び
Ｒ3 は水素原子を表わすか、或いはＲ2 は弗素原子を表
わし及びＲ3はホルミルオキシ又はアセチルオキシ基を
表わし、９（１１）−位置の点線は第二の結合が存在し
得ることを示す｝の化合物にある。
【０００３】上記の式（Ｉ）において、特に、Ｒ' は１
〜６個の炭素原子を含有するアルキル基、特にメチル、
エチル、直鎖若しくは分岐鎖状のプロピル又は直鎖若し
くは分岐鎖状のブチル基を表わすことができる。また、
Ｒ' は１〜６個の炭素原子を含有するアシル基、特にホ
ルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル又はピバロ
イル基を表わすことができる。さらに、Ｒ' は、アラル
キル基、特にベンジル基、テトラヒドロピラニル基、ア
ルキル、アリール又はアリールアルキルシリル基、特に
トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、トリフ
ェニルシリル又はジフェニルｔ−ブチルシリル基を表わ
すことができる。上記のＲ' 基の意味は限定的ではな
く、当業者に知られたかつ本法の操作条件に適合できる
ヒドロキシル基の保護基のどれも好適である。Ｒ1 及び
Ｒ'1が５〜８個の炭素原子を含有するアルキル基を表わ
すときは、それはネオペンチル基又はβ−位置に水素原
子を持たない類似の基である。Ｒ1 及びＲ'1がアリール
基を表わすときは、それは特にフェニル基、１若しくは
２個のメチル基で置換されたフェニル基又はナフチル基
である。Ｒ1 及びＲ'1が複素アリール基を表わすとき
は、それは、特にピリジル、チアゾリル又ベンゾチアゾ
リル基である。Ｒ4 がヒドロキシル基の保護基を表わす
ときは、それは、特にＲ' について上記した基の一つで
ある。
【０００４】式（Ｉ）の化合物のうちでも、特に次式
（Ｉ' ）
【化２３】 （ここで、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 、ｍ及びｎは前
記の意味を有し、１（２）及び９（１１）−位置の点線
は第二の結合が存在し得ることを表わす）の化合物が挙
げられる。
【０００５】本発明の特別の主題は、Ｒがメチル基、−
ＣＨ2 ＯＨ基又は−ＣＨ2 −ＯＲ"基（ここで、Ｒ" は
１〜４個の炭素原子を含有するアルキル基、１〜５個の
炭素原子を含有するアシル基又はベンジル基を表わす）
を表わし、Ｒ1 及びＲ'1は、同一であっても異なってい
てもよく、メチル、フェニル、トリル又はベンジル基を
表わし、ｎ、ｍ、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線が上で記載の通り
である前記の式（Ｉ）の化合物にある。
【０００６】前記の式（Ｉ）の化合物のうちでも、特に
本発明の主題は、下記の化合物にある。 ・次式（ＩA ）
【化２４】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は
前記の通りである）に相当する式（Ｉ）の化合物。 ・次式（ＩB ）
【化２５】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は
前記の通りである）に相当する式（Ｉ）の化合物。 ・次式（ＩC ）
【化２６】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は
前記の通りである）に相当する式（Ｉ）の化合物。
【０００７】本発明の主題である式（Ｉ）の化合物のう
ちでは、部分構造
【化２７】 が３−ケト−Δ１，４−系を表わし、Ｒが−ＣＨ2 −Ｏ
Ｒ" 基（ここで、Ｒ" は前記の通りである）を表わし、
Ｒ2 及びＲ3 が水素原子を表わし、９（１１）−位置の
点線が第二の結合を表わすことを特徴とするものが挙げ
られる。
【０００８】式（Ｉ）の化合物のうちでも、特に下記の
化合物が本発明の主題をなすものである。 ・２１−アセトキシ−１６α−［ビス（フェニルチオ）
メチル］プレグナ−１，４，９（１１）−トリエン−
３，２０−ジオン、 ・２１−アセトキシ−１６α−［（フェニルチオ）（フ
ェニルスルフィニル）メチル］プレグナ−１，４，９
（１１）−トリエン−３，２０−ジオン、 ・２１−アセトキシ−１６α−［ビス（フェニルスルフ
ィニル）メチル］プレグナ−１，４，９（１１）−トリ
エン−３，２０−ジオン。
【０００９】また、本発明の主題は、前記の式（Ｉ）の
化合物を製造するにあたり、次式（II）
【化２８】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は前記の意味を
有する）の化合物に塩基性媒体中で次式（Ｐ） Ｒ1 Ｓ−ＣＨ2 −ＮＯ2 （Ｐ） （ここで、Ｒ1 は前記の意味を有する） の試薬を作用させて次式(III)
【化２９】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は前記の
意味を有する）の化合物を得、この化合物に酸の存在下
に次式 ＨＳ−Ｒ'1 （ここで、Ｒ'1は前記の意味を有する） のチオール又はチオフェノールを作用させて次式（Ｉ
A ）
【化３０】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は
前記の意味を有する）の化合物（これは、ｍ及びｎが０
である式（Ｉ）の化合物に相当する）を得、要すれば式
（ＩA ）の化合物に１当量の酸化剤を作用させて次式
（ＩB ）
【化３１】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は
前記の意味を有する）の化合物（これは、ｍ及びｎの一
方が１であり、他方が０である式（Ｉ）の化合物に相当
する）を得るか、或いは少なくとも２当量の酸化剤を作
用させて次式（ＩC ）
【化３２】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は
前記の意味を有する）の化合物（これは、ｍ及びｎが１
である式（Ｉ）の化合物に相当する）を得ることを特徴
とする式（Ｉ）の化合物の製造法にある。
【００１０】本発明の特別の主題は、次式（II）
【化３３】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は前記の意味を
有する）の化合物に塩基性媒体中で次式（Ｐ） Ｒ1 Ｓ−ＣＨ2 −ＮＯ2 （Ｐ） （ここで、Ｒ1 は前記の意味を有する） の化合物を作用させて次式（III)
【化３４】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は前記の
意味を有する）の化合物を得、この化合物に酸の存在下
に次式 ＨＳ−Ｒ'1 （ここで、Ｒ'1は前記の意味を有する） のチオール又はチオフェノールを作用させて次式（Ｉ
A ）
【化３５】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は
前記の意味を有する）の化合物（これは、ｍ及びｎが０
である式（Ｉ）の化合物に相当する）を得、式（ＩA ）
の化合物に少なくとも２当量の酸化剤を作用させて次式
（ＩC ）
【化３６】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は
前記の意味を有する）の化合物（これは、ｍ及びｎが１
である式（Ｉ）の化合物に相当する）を得ることを特徴
とする前記の製造法に従う方法にある。
【００１１】前記の製造法において、式（II）の化合物
に対する式（Ｐ）の試薬の作用は塩基の存在下に行なわ
れる。塩基は、特にアミノ塩基、例えばジエチルアミン
若しくはトリエチルアミンのような第二若しくは第三ア
ミン、ジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）、ジアザビ
シクロノネン（ＤＢＮ）、アルカリの酢酸塩、炭酸塩、
水素化物、水酸化物若しくはアルコキシドであってよ
く、好ましくは強塩基が触媒量で使用される。操作は有
機溶媒中で行なわれる。溶媒は、例えばテトラヒドロフ
ラン若しくはジオキサンのようなエーテル、メタノール
若しくはエタノールのようなアルコール、ベンゼン若し
くはトルエンのような芳香族溶媒又はジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド又は塩化メチレンであって
よい。チオール又はチオフェノールの作用は酸、好まし
くは弱酸により接触される。酸は、特に、ぎ酸、酢酸若
しくはプロピオン酸のようなカルボン酸、塩化亜鉛若し
くは塩化アルミニウムのようなルイス酸、又は燐酸であ
ってよい。また、酸は、適当ならば、溶媒として使用す
ることができる。さらに、溶媒は、ベンゼン又はトルエ
ンのような芳香族溶媒であってよい。反応条件は、適当
ならば、式（II）の化合物が有し得るヒドロキシル基の
保護基に適合できるように、より一般的にいえば、保存
しようと望む分子の構造に適合できるように選択され
る。このことは、当業者には周知である。式（ＩA ）の
化合物をモノスルホキシド又はジスルホキシドに転化す
るのに使用される酸化剤は、ｍ−クロル過安息香酸、過
安息香酸、過フタル酸のような過酸、モノ過フタル酸の
マグネシウム塩、又は酢酸のようなカルボン酸の存在下
での過酸化水素、或いは過沃素酸塩、過ほう酸塩又は過
硫酸塩、特にこれらのナトリウム又はカリウム塩であっ
てよい。
【００１２】また、本発明の主題は、新規な工業用化合
物、特に式（Ｉ）の化合物の製造に有用な中間体として
の、前記の式（III)の化合物にある。
【００１３】また、本発明の主題は、前記の式（Ｉ）の
化合物を次式（Ａ）
【化３７】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は前記の意味を
有する）の化合物の製造に使用するにあたり、 ・前記の式（ＩA ）の化合物に少なくとも２当量の酸化
剤を作用させて前記の式（ＩC ）の化合物を得、この化
合物に熱間で親チオ試薬（ｔｈｉｏｐｈｉｌｉｃａｇｅ
ｎｔ）を作用させて式（Ａ）の所期化合物を得るか、或
いは ・前記の式（ＩC ）の化合物に熱間で親チオ試薬を作用
させて式（Ａ）の所期化合物を得るか、或いは ・前記の式（ＩB ）の化合物を、要すれば親チオ試薬の
存在下に加熱して次式（IV）
【化３８】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は前記の
意味を有し、１６（１７）及び１６（１６' ）−位置の
点線はビニル及びアリルスルフィド混合物の存在を表わ
し、波線は異性体混合物の存在を表わす）の化合物を
得、式（IV）の化合物に少なくとも１当量の酸化剤を作
用させて次式（Ｖ）
【化３９】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 、点線及び波線は
前記の意味を有する）の化合物を得、この化合物に熱間
で親チオ試薬を作用させて式（Ａ）の所期化合物を得る
ことを特徴とする式（Ｉ）の化合物の使用方法にある。
【００１４】本発明に従う前記の使用方法において、 ・式（ＩC ）のジスルホキシドは単離しても又は単離し
なくてもよい。 ・先ず、加熱するだけで、式（ＩC ）の化合物の第一の
−Ｓ［Ｏ］Ｒ1 基を脱離させて前記の式（Ｖ）のモノス
ルホキシド化合物を得、次いで親チオ試薬を熱間で作用
させることにより後記のような中間体スルフェン酸エス
テルを経由して第二の−Ｓ［Ｏ］Ｒ1 基を脱離させるこ
とができる。 ・このようにして得られた式（Ｖ）のモノスルホキシド
は単離しても又は単離しなくてもよい。 ・式（ＩB ）の化合物の−Ｓ［Ｏ］Ｒ1 基のみを加熱に
より脱離させることができる。 ・式（IV）の化合物の酸化により得られる式（Ｖ）のモ
ノスルホキシドは単離しても又は単離しなくてもよい。
【００１５】前記の使用方法において、式（ＩA ）の化
合物を式（ＩC ）の化合物に転化するのに又は式（IV）
の化合物を式（Ｖ）の化合物に転化するのに使用される
酸化剤は、前記したようなものの一つである。親チオ試
薬は、例えば、トリフェニルルホスフィン、トリメチル
ホスフィン、トリエチルホスフィンのようなホスフィ
ン、亜燐酸トリフェニル、トリメチル若しくはトリエチ
ル、亜燐酸ジメチル若しくはジエチルのような亜燐酸エ
ステル、例えばジエチルアミンのような第二アミン、亜
燐酸、チオフェノール若しくはメチルメルカプタンのよ
うなチオール、又はチオ硫酸若しくは重亜硫酸塩、例え
ばそれらのナトリウム塩であてよい。トリフェニルホス
フィンが特に好ましい。操作は有機溶媒又は有機様橋混
合物中で、好ましくは還流下に行なわれる。溶媒として
は、特に、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族溶媒、或いはシクロヘキサン、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジメトキシエタン、モノグリム又はジグリ
ムが挙げられ、適当ならば、プロトン溶媒、特にメタノ
ール、エタノール若しくはイソプロパノールのようなア
ルコールと混合して使用することができる。操作は、適
当ならば、炭酸ナトリウム又は炭酸カルシウムのような
炭酸アルカリの存在下に行なわれる。
【００１６】なお、参考のため、付言すれば、前記の使
用方法において、その過程の間に式（Ｖ）のスルホキシ
ドのアリル形が次式（ＶA ）
【化４０】 のスルフェン酸エステル形と平衡で存在し、これが還元
されて所望の化合物（Ａ）を生じるものと思われる。
【００１７】さらに詳しくは、本発明の主題は、前記の
式（ＩA ）の化合物に少なくとも２当量の酸化剤を作用
させて前記の式（ＩC ）の化合物を得、この化合物に熱
間で親チオ試薬を作用させて式（Ａ）の所期化合物を得
ることを特徴とする前記の使用方法にある。また、本発
明の主題は、前記の式（ＩC ）の化合物に熱間で親チオ
試薬を作用させて式（Ａ）の所期化合物を得ることを特
徴とする前記の使用方法にある。もちろん、得られた１
又は２個の保護されたヒドロキシル基を含有する化合物
を当業者に知られた方法を使用して脱保護することがで
きる。
【００１８】最後に、本発明の主題は、新規な工業用化
合物としての、特に、本発明による使用方法において有
用な中間体としての、 ・前記の式（IV）の化合物； ・次式（Ｖb ）
【化４１】 の化合物（これは、１６（１７）及び１６（１６' ）−
位置の点線が１６（１６' ）−位置だけにある第二の結
合を表わす前記の式（Ｖ）の化合物に相当する）； ・次式（ＶC ）
【化４２】 の化合物（これは、１６（１７）及び１６（１６' ）−
位置の点線が１６（１７）−位置だけにある第二の結合
を表わす前記の式（Ｖ）の化合物に相当する）（但し、
Ｒがメチル基を表わし、Ｒ2 及びＲ3 が水素原子を表わ
し、二重結合が９（１１）−位置に存在する化合物は除
く）にある。
【００１９】Ｒがメチル基を表わす式（Ａ）の化合物
は、特に、米国特許第３３５４１８４号、同３１７８４
６２号、同３３１２６９２号、同３３５９２８７号、同
３０６４０１５号及び同３５１９６１９号に記載されて
いるか、或いはこれらに記載の化合物から当業者に知ら
れた方法により得ることができる。Ｒが遊離の又は保護
された−ＣＨ2 ＯＨ基を表わす化合物は、例えば独国特
許第１２６３７６５号及び同１２６３７６６号、米国特
許第３３５０３９４号、同４５６７００１号及び同３３
５４１８４号、仏国特許第１２８５３３６号、又はヨー
ロッパ特許第１０４０５４号及び１７４４９６号に記載
されており、或いはこれらの特許又は米国特許第３３０
９２７２号及び同３１７８４６２号に記載された化合物
から当業者に知られた方法により得ることができる。式
（Ａ）の化合物は、製薬活性化合物の合成における中間
体として有用である。Ｒがメチル基を表わす式（II）の
化合物は、特に米国特許第２７０５７１９号及び同２８
１７６７１号、仏国特許第１０５８８５０号、ベルギー
国特許第７１１０１６号、又は英国特許第８８１５０１
及び同２１９９３２５号に記載されており、或いはこれ
らの特許並びに独国特許第２２０７４２０号又は米国特
許第号４１１３７２２号及び同３９７６６３８号に記載
された化合物から当業者に知られた方法により得ること
ができる。Ｒが遊離の又は保護された−ＣＨ2 ＯＨ基を
表わす式（II）の化合物は、例えば米国特許第２８０２
８３９号、同２７４５８５２号、同２７７３０５８号及
び同２８６４８３４号、ベルギー特許第５４０４７８号
及び同７８９３８７号、独国特許第２２０７４２０号、
オランダ特許第６９０２５０７号又はロシア特許第８１
９１１９号に記載されており、或いはこれらの特許並び
に米国特許第３９７６６３８号及び同２９６６５０４
号、ヨーロッパ特許第１２３７３６号又はカナダ特許第
７６０４３１号に記載された化合物から当業者に知られ
た方法により得ることができる。Ｒ1 がメチル及びフェ
ニル基を表わす式（Ｐ）の化合物は、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓ
ｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．１９８３，８３５；１９７
８，３６２又はＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９７８，４
３，３１０１に記載されている。式（Ｐ）のその他の試
薬は、前記の参考文献に記載のものから製造することが
できる。
【００２０】
【実施例】下記の例は本発明を例示するものであって、
これを何ら制限するものではない。
【００２１】例１：２１−アセトキシ−１６α−［ビス
（フェニルチオ）メチル］−１，４，９（１１）−プレ
グナトリエン−３，２０−ジオン工程Ａ ：２１−アセトキシ−１６α−［（フェニルチ
オ）ニトロメチル］−１，４，９（１１）−プレグナト
リエン−３，２０−ジオン ２．０１ｇの２１−アセトキシ−１，４，９（１１），
１６−プレグナテトラエン−３，２０−ジオン及び１．
１ｇの（フェニルチオ）ニトロメタンを不活性雰囲気下
に光を遮断して乾燥ＴＨＦ（２０ｍｌ）とｔ−ブタノー
ル（２０ｍｌ）との混合物に溶解する。０．８ｍｌのＤ
ＢＵ（１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデカ
−７−エン）を添加し、反応混合物を周囲温度で８時間
撹拌する。次いで、２ｇのくえん酸を５０ｍｌの水に溶
解してなる溶液を添加する。ジクロルメタンで抽出し、
シリカでろ過し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を
ろ過し、減圧下に蒸発させ、３．７３ｇの粗生成物を得
た。粗反応生成物をペンタン（７５ｍｌ）−エーテル
（３０ｍｌ）混合物に溶解することによって過剰の（フ
ェニルチオ）ニトロメタンを除去する。２．７９ｇの２
１−アセトキシ−１６α−［（フェニルチオ）ニトロメ
チル］−１，４，９（１１）−プレグナトリエン−３，
２０−ジオンを得た。Ｍｐ＝９２〜１００℃。ＩＲスペクトル （ｃｍ- 1） １７４０（ｓ）；１７２０（ｓ）；１６５５（ｗ）；１
５９５（ｗ）；１５４０（ｓ）（ＮＯ2 ）；８８５
（ｗ）（Ｃ−ＳＰｈ）ＮＭＲスペクトル 1Ｈ ２個の確認できる異性体：０．７２及び０．７３（３
Ｈ，ｓ，Ｍｅ−１８）；１．４１（３Ｈ，ｓ，Ｍｅ−１
９）；２．１７及び２．２０（３Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ
3 ）；２．６７及び２．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈ
ｚ，Ｃ17−Ｈ）；３．６０（１Ｈ，ｍ，Ｗ1/2 ＝３５Ｈ
ｚ），Ｃ16−Ｈ）；４．４３及び４．７５（２Ｈ，ＡＢ
系，Ｊ＝１６．９Ｈｚ）；４．５８及び４．８８（２
Ｈ，ＡＢ系，Ｊ＝１７．０Ｈｚ）；５．３８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．１４Ｈｚ，Ｃ16' −Ｈ）及び５．４３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，Ｃ16' −Ｈ）；５．５５（１
Ｈ，高原状，Ｗ1/2 ＝１０Ｈｚ，Ｃ11−Ｈ）；６．０８
（１Ｈ，高原状，Ｗ1/2 ＝１０Ｈｚ，Ｃ4 −Ｈ）；６．
３０（１Ｈ，ｄ−ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，Ｊ＝１．７Ｈ
ｚ，Ｃ2 −Ｈ）；７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈ
ｚ，Ｃ1 −Ｈ）；７．３４−７．４８（５Ｈ，高原状）ＮＭＲスペクトル 13Ｃ ３０個の炭素、２個の異性体 偶数：２９．８７及び３０．６５（ｓ）；３２．００
（ｓ）；３４．６０（ｓ）；４４．３８及び４４．６０
（ｑ）；４５．９１（ｑ）；６９．０１（ｓ）；１３
０．５８（ｑ）；１３０．９８（ｑ）；１４３．２１及
び１４３．３４（ｑ）；１６６．０３（ｑ）；１７０．
４０（ｑ）；１８６．２４（ｑ）；２０１．４０及び２
０１．６５（ｑ） 奇数：１３．６４（ｐ，１８−Ｍｅ）；２０．５２
（ｐ，ＣＯＣＨ3 ）；２６．６１（ｐ，１９−Ｍｅ）；
３６．２９（ｔ）；４０．０５及び４０．１７（ｔ）；
４０．９７（ｔ）；５２．２１及び５２．６２（ｔ）；
６１．９５（ｔ）；９８．０３及び９８．５４（ｔ）；
１１９．６５（ｔ）；１２４．１８（ｔ）；１２７．６
２（ｔ）；１２９．７１（ｔ）；１２９．８７（ｔ）；
１３２．９４ｔ）；１３３．２３（ｔ）；１５４．１７
（ｔ）質量スペクトル ｍ／ｚ＝５１２（Ｍ＋）；４８３；３９１；３１４；２
１３工程Ｂ ：２１−アセトキシ−１６α−［ビス（フェニル
チオ）メチル］−１，４，９（１１）−プレグナトリエ
ン−３，２０−ジオン ２ｍｌのチオフェノールと５ｍｌの酢酸を混合し、窒素
雰囲気下に沸点までもたらす。２．５１ｇの２１−アセ
トキシ−１６α−［（フェニルチオ）ニトロメチル］−
１，４，９（１１）−プレグナトリエン−３，２０−ジ
オンを添加し、混合物を４時間３０分還流させる。混合
物を冷却させてから、エーテル（２５ｍｌ）を添加す
る。酢酸を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液により中和し
た後、２５ｍｌのエーテルを添加する。有機相を回収
し、水洗し、次いで乾燥し、濃縮する。４ｇの褐色油状
物を得た。粗反応生成物をエーテル（２５ｍｌ）−ペン
タン（１００ｍｌ）混合物で溶解することにより過剰の
チオフェノールを除去する。１．７０ｇの所期のジスル
フィド誘導体を得た。シリカでクロマトグラフィー（溶
離剤：エーテル−ジクロルメタン９−１）することによ
り精製したの後、Ｍｐ＝９８−１００℃。 ［α］D ＝−１３．４°（Ｃ＝１２．７ｍｇ／ｍｌ；ク
ロロホルム）。ＩＲスペクトル （ｃｍ-1） １７５０（ｓ）；１７２０（ｓ）；１６６５（ｓ）；１
６３０（ｍ）；１６１０（ｗ）；１５８５（ｗ）；１５
５０（ｗ）；１４８０（ｗ）；１４４０（ｗ）；１４１
０（ｗ）；１３７０（ｗ）；１２７０（ｍ）；１１２０
（ｗ）；１１５５（ｗ）；１０７０（ｍ）；１０５０
（ｍ）；１０２５（ｍ）；８９０（ｍ）ＮＭＲスペクトル 1Ｈ ０．６１（３Ｈ，ｓ，Ｍｅ−１８）；１．３７（３Ｈ，
ｓ，Ｍｅ−１９）；２．１０（３Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ
3 ）；２．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，Ｃ17−
Ｈ）；３．３１（１Ｈ，ｍ，Ｗ1/2 ＝１９Ｈｚ，Ｃ16−
Ｈ）；４．２５及び４．６８（２Ｈ，ＡＢ系，Ｊ＝１
６．９Ｈｚ）；４．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，
Ｃ16' −Ｈ）；５．４７（１Ｈ，高原状，Ｗ1/2 ＝９Ｈ
ｚ，Ｃ11−Ｈ）；６．０３（１Ｈ，高原状，Ｗ1/2 ＝５
Ｈｚ，Ｃ4 −Ｈ）；６．２３（１Ｈ，ｄ−ｄ，Ｊ＝１
０．１Ｈｚ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，Ｃ2 −Ｈ）；７．１０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，Ｃ1 −Ｈ）；７．１８
−７．４１（１０Ｈ，高原状）ＮＭＲスペクトル 13Ｃ 偶数：３０．８６（ｓ）；３２．１４（ｓ）；３４．６
４（ｓ）：４０．２３（ｓ）；４４．５４（ｑ）；１３
４．４０（ｑ）；１４３．３８（ｑ）；１５４．４５
（ｑ）；１６６．５０（ｑ）；１７０．３２（ｑ）；１
８６．３１（ｑ）；２０２．５０（ｑ） 奇数：１３．８１（ｐ）；２０．５３（ｐ）；２６．６
１（ｐ）；３６．５０（ｔ）；４３．５２（ｔ）；４
５．９８（ｔ）；５２．７５（ｔ）；６２．４７
（ｔ）；６４．６４（ｔ）；６９．０９（ｔ）；１１
９．８９（ｔ）；１２４．０３（ｔ）；１２７．４９
（ｔ）；１２７．８８（ｔ）；１２７．９７（ｔ）；１
２９．１６（ｔ）；１３２．２７（ｔ）；１３２．５７
（ｔ）質量スペクトル ｍ／ｚ＝４８９（Ｍ＋−Ｓｐｈ）
【００２２】例２：２１−アセトキシ−１６α−［（フ
ェニルチオ）−（フェニルスルフィニル）メチル］−
１，４，９（１１）−プレグナトリエン−３，２０−ジ
オン ６０ｍｇの例１で得たジスルフィドを１ｍｌのジクロル
メタンに溶解し、全体を−６０℃に冷却する。２６ｍｇ
のｍ−クロル過安息香酸を添加する。１時間後に、更に
５ｍｇのｍ−クロル過安息香酸を添加する。反応混合物
を再び−６０℃で１時間放置する。２ｍｌの炭酸水素ナ
トリウム飽和溶液を添加し、混合物を周囲温度に戻し、
ジクロルメタン（２×１．５ｍｌ）で抽出する。次いで
有機相を水洗し（３×２ｍｌ）、次いで乾燥し、溶媒を
減圧下に蒸発させる。５６ｍｇの所期の粗製モノスルホ
キシドを得た。この誘導体は不安定であるので、冷蔵庫
に保存する。
【００２３】例３：２１−アセトキシ−１６α−［ビス
（フェニルスルフィニル）メチル］−１，４，９（１
１）−プレグナトリエン−３，２０−ジオン １．０９ｇの例１で得た化合物を１０ｍｌのジクロルメ
タンに溶解し、−７８℃に冷却する。７９６ｍｇのｍ−
クロル過安息香酸（８０％）を添加し、反応混合物を−
７８℃で３時間保持する。１５ｍｌの炭酸水素ナトリウ
ム飽和溶液を添加する。混合物を直ちに周囲温度に戻
し、ジクロルメタンで抽出する。次いで有機相を水洗
し、次いで乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させる。得られ
たジスルホキシドをシリカでクロマトグラフィー（溶離
剤：シクロヘキサン−酢酸エチル１−１）により精製す
る。６４９ｍｇの所期化合物を得た。ＩＲスペクトル （ｃｍ-1） ３０５０；２９６０；２９２０；１７４５（ｓ）；１７
２０（ｓ）；１６６０（ｓ）；１６２５；１６１５
（ｍ）；１５８０；１４５０（ｍ）；１３７５；１３２
０；１２７０；１２４０（ｓ）；１１５０（ｍ）；１０
９０（ｍ）；１０５０（ｍ）；８９０ＮＭＲスペクトル 1Ｈ 第一異性体：０．６２（３Ｈ，ｓ，Ｍｅ−１８）；１．
４０（３Ｈ，ｓ，Ｍｅ−１９）；２．１８（３Ｈ，ｓ，
ＣＯＣＨ3 ）；３．４３−３．５４（３Ｈ，１６−Ｈ，
１６' −Ｈ及び１７−Ｈ）；４．２９及び４．５９（２
Ｈ，ＡＢ系，Ｊ＝１６．６Ｈｚ）；５．５１（１Ｈ，高
原状，Ｗ1/2 ＝１０Ｈｚ，Ｃ11−Ｈ）；６．０８（１
Ｈ，高原状，Ｗ1/2 ＝５Ｈｚ，Ｃ4 −Ｈ）；６．２８
（１Ｈ，ｄ−ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，
Ｃ2 −Ｈ）；７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．１Ｈｚ，
Ｃ1 −Ｈ）；７．３１−７．６６（１０Ｈｚ，高原状） 第二異性体：０．６８（３Ｈ，ｓ，Ｍｅ−１８）；１．
４０（３Ｈ，ｓ，Ｍｅ−１９）；２．１３（３Ｈ，ｓ，
ＣＯＣＨ3 ）；３．５４−３．６２（３Ｈ，１６−Ｈ，
１６' −Ｈ及び１７−Ｈ）；４．４４及び４．７９（２
Ｈ，ＡＢ系，Ｊ＝１６．５Ｈｚ）；５．５８（１Ｈ，高
原状，Ｗ1/2 ＝１０Ｈｚ，Ｃ11−Ｈ）；６．０８（１
Ｈ，高原状，Ｗ1/2 ＝５Ｈｚ，Ｃ4 −Ｈ）；６．２８
（１Ｈ，ｄ−ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，
Ｃ2 −Ｈ）；７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．１Ｈｚ，
Ｃ1 −Ｈ）；７．３１−７．６６（１０Ｈｚ，高原状）
【００２４】例３' ：２１−アセトキシ−１６α−
［（フェニルチオ）−（フェニルスルフィニル）］−及
び１６α−［ビス（フェニルスルフィニル）メチル］−
１，４，９（１１）−プレグナトリエン−３，２０−ジ
オン ０．２０６ｇの例１で得たジスルフィドをアルゴン雰囲
気下に２ｍｌの酢酸で希釈する。混合物を氷浴を使用し
て０℃に冷却する。混合物に５滴の３０％過酸化水素を
添加する。数滴のジクロルメタンを添加し、混合物を放
置して温度を上昇させる。周囲温度で２１時間後に、モ
ノスルホキシドの大部分を得る。これは例２の生成物と
比較して同定する。反応は周囲温度で不活性雰囲気下に
約５０時間続け、次いで水を添加して停止させる。例３
におけるようにして処理した後、所期のジスルホキシド
を得た。これは例３で得た生成物と同一である。
【００２５】例４：２１−アセトキシ−１６−メチレン
ー１７α−ヒドロキシプレグナ−１， ４，９（１１）−トリエン−３，２０−ジオン工程Ａ ：２１−アセトキシ−１６α−［（フェニルスル
チオ）メチル］−１，４，９（１１），１６−プレグナ
テトラエン−３，２０−ジオン及び相当する１６α−
［（フェニルスルチオ）メチレン］誘導体 ２０４ｍｇのジスルフィドから例２におけるようにして
得たモノスルホキシドを３ｍｌの乾燥トルエンに溶解す
る。１０１ｍｇのトリフェニルホスフィンを添加し、溶
液をアルゴン雰囲気下に１５時間加熱還流する。６時間
加熱した後、５５ｍｇのトリフェニルホスフィンを添加
する。次いでトルエンを蒸発させ、生成物をシリカでク
ロマトグラフィー（溶離剤：シクロヘキサン−酢酸エチ
ル９−１、次いで３−１）することにより精製する。１
６−位置の二重結合に関しての２個の位置異性体（Δ１
６−１６' 又はΔ１６−１７）の混合物１４３ｍｇを得
た。ＩＲスペクトル （ｃｍ-1） ３０２０；２９１０；２８２０；１７５０（ｓ）；１７
２０（ｍ）；１６６０（ｓ）；１６２０（ｍ）；１５８
０；１５５０；１４３０；１３７０；１２６０；１０４
０；８８０ＮＭＲスペクトル 1Ｈ ０．８０（３Ｈ，ｓ，Ｍｅ−１８）；１．４１及び１．
４２（３Ｈ，ｓ，Ｍｅ−１９）；２．１８及び２．１９
（３Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ3 ）；３．３８（１Ｈ，ｍ，Ｗ
1/2 ＝１０Ｈｚ，Ｃ17−Ｈ）；３．７２及び４．０９
（２Ｈ，ＡＢ系，Ｊ＝１３．６Ｈｚ，Ｃ16' −Ｈ）；
４．４４及び４．６７（２Ｈ，ＡＢ系，Ｊ＝１６．６Ｈ
ｚ）；４．７１及び４．９０（２Ｈ，ＡＢ系，Ｊ＝１７
Ｈｚ）；５．５０及び５．５９（１Ｈ，高原状，Ｗ1/2
＝１２．５Ｈｚ，Ｃ11−Ｈ）；６．０９（１Ｈ，高原
状，Ｗ1/2 ＝５Ｈｚ，Ｃ4 −Ｈ）；６．３０（１Ｈ，ｄ
−ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，Ｃ2 −
Ｈ）；６．３１及び６．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈ
ｚ，Ｃ16' −Ｈ）；７．１６−７．５２（６Ｈ，高原
状）ＮＭＲスペクトル 13Ｃ 偶数：３２．０３；３４．２７；３４．６６；３６．６
６；３７．１２；３７．７７；４０．４１；４４．０
５；４５．９７；４７．０９；６８．０８；６９．０
１；１３４．５８；１３６．１８；１４３．０６；１４
３．７９；１４４．１１；１４５．９０；１５１．５
８；１６６．３７；１７０．２９；１８６．３４；１９
３．５７；２００．７７ 奇数：１４．１６；１６．０２；２０．５３；２６．５
４；２８．７２；３５．７３；５１．１９；６３．２
０；１１７．３７；１１９．８４；１２０．２３；１２
３．９７；１２６．４３；１２７．４３；１２８．４；
１２９．０２；１２９．０９；１３１．７２；１５４．
４７質量スペクトル ｍ／ｚ＝４９０；４８９；４８８（Ｍ＋）；４４８；４
４７；４４６（Ｍ＋）；４３０；４１５；３８７；３１
９；２０７工程Ｂ ：２１−アセトキシ−１６α−［（フェニルスル
スルフィニル）メチル］−１，４，９（１１），１６−
プレグナテトラエン−３，２０−ジオン及び相当する１
６α−［（フェニルスルスルフィニル）メチレン］誘導
体 上記工程に記載のようにして得た６．４２ｇの異性体混
合物を１０ｃｃのジクロルメタンに溶解し、混合物を窒
素雰囲気下に−７８℃に冷却する。２．９２ｇのｍ−ク
ロル過安息香酸（８０％）を添加し、混合物を約２時間
撹拌し続ける。反応混合物を低温で重炭酸ナトリウム飽
和溶液で、次いで水で処理し、次いで乾燥し、蒸発乾固
する。シリカでクロマトグラフィー（溶離剤：酢酸エチ
ル−、次いで酢酸エチル−メタノール９−１）した後、
３．４４ｇの所望スルホキシドの混合物を得た。工程Ｃ ：２１−アセトキシ−１６−メチレンー１７α−
ヒドロキシプレグナ−１，４，９（１１）−トリエン−
３，２０−ジオン 上記工程で得た化合物を５０ｃｃのトルエンと５０ｃｃ
のメタノールとの混合物に溶解し、２．６８ｇのトリフ
ェニルホスフィンを添加する。混合物を８５〜９０℃に
２０時間加熱し、次いで冷却し、溶媒を蒸発させる。シ
リカでクロマトグラフィー（溶離剤：エーテル−ジクロ
ルメタン−石油エーテル４−１−５）した後、１．９７
ｇの所期化合物を得た。メタノールで結晶化した後、Ｍ
ｐ＝２１３〜２１５℃。 ［α］D ＝−３２．８°（Ｃ＝１０．５ｍｇ／ｍｌ；ク
ロロホルム）ＩＲスペクトル （ｃｍ-1） ３２００；２９００；２８５０；２２５０；１７５０
（ｓ）；１７３０（ｓ）；１６７５（ｓ）；１６２５；
１６０５；１４４０；１４１０；１３７０；１２３５
（ｓ）；１０７５；９１５（ｓ）ＮＭＲスペクトル 1Ｈ ０．７０（３Ｈ，ｓ，Ｍｅ−１８）；１．４１（３Ｈ，
ｓ，Ｍｅ−１９）；２．１７（３Ｈ，ｓ，ＣＯＣＨ
3 ）；４．９３及び５．０７（２Ｈ；ＡＢ系，Ｊ＝１
７．６Ｈｚ）；５．０２（１Ｈ，ｓ，Ｃ＝ＣＨ2 ）；
５．１５（１Ｈ，ｓ，Ｃ＝ＣＨ2 ）；５．６０（１Ｈ，
高原状，Ｗ1/2 ＝１２Ｈｚ，Ｃ11−Ｈ）；６．０７（１
Ｈ，高原状，Ｗ1/2 ＝５Ｈｚ，Ｃ4 −Ｈ）；６．２９
（１Ｈ，ｄ−ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，
Ｃ2 −Ｈ）；７．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，
Ｃ1 −Ｈ）ＮＭＲスペクトル 13Ｃ 偶数：３１．９６（ｓ）；３２．２５（ｓ）；３３．３
６（ｓ）；３５．０５（ｓ）；４６．０４（ｑ）；４
５．４５（ｑ）；６８．６５（ｓ）；８９．６５
（ｑ）；１１４．４５（ｓ）；１４２．２８（ｑ）；１
５２．６４（ｑ）；１６６．４９（ｑ）；１７０．６４
（ｑ）；１８６．３７（ｑ）；２０４．００（ｑ） 奇数：１４．１８（ｐ）；２０．６０（ｐ）；：２６．
８１（ｐ）；３６．３８（ｔ）；４６．３１（ｔ）；１
２０．８３（ｔ）；１２４．０５（ｔ）；１２７．５０
（ｔ）；１５４．５１（ｔ）
【００２６】例５：２１−アセトキシ−１６−メチレン
ー１７α−ヒドロキシプレグナ−１，４，９（１１）−
トリエン−３，２０−ジオン 例４の工程Ａに記載のようにして得た２０５ｍｇの混合
物を３ｍｌのジクロルメタンに溶解し、混合物を窒素雰
囲気下に−７８℃に冷却する。９１ｍｇのｍ−クロル過
安息香酸（８０％）を添加する。２時間反応させた後、
出発物質は完全に消失した。２２１ｍｇのトリフェニル
ホスフィンを低温で添加し、次いでジクロルメタンを減
圧下に蒸発させ、３ｍｌの乾燥トルエンで置き換える。
２時間３０分加熱還流させた後、蒸発乾固させ、次いで
シリカでクロマトグラフィー（溶離剤：シクロヘキサン
−エーテル４−１から０−１）することにより精製した
後、１１３ｍｇの所期のアルコールを得た。これは例４
で得たものと同一である。Ｍｐ＝２１３−２１５℃。
【００２７】例６：２１−アセトキシ−１６−メチレン
ー１７α−ヒドロキシプレグナ−１，４，９（１１）−
トリエン−３，２０−ジオン 例３で得た６４８ｍｇのジスルホキシドをアルゴン雰囲
気下に１０ｃｃのトルエンに溶解し、溶液を−６０℃に
冷却する。５００ｍｇの炭酸カルシウムを添加し、反応
混合物を８０℃に２時間加熱する。次いで５４０ｍｇの
トリフェニルホスフィンと１０ｃｃのメタノールを添加
する。得られた溶液を８０℃で１１時間還流させ、次い
で冷却し、乾固させる。シリカでクロマトグラフィー
（溶離剤：シクロヘキサン−酢酸エチル７−３、次いで
１−１）した後、２１７ｍｇの所期のアルコールを得
た。これは例４で得たものと同一である。
【００２８】例６' ：２１−アセトキシ−１６−メチレ
ンー１７α−ヒドロキシプレグナ−１，４，９（１１）
−トリエン−３，２０−ジオン 例３又は３' で得た２８７ｍｇのジスルホキシドを５ｍ
ｌの乾燥トルエンに溶解し、２５０ｍｇの炭酸カルシウ
ムを添加する。溶液を７５分間加熱還流する。５滴（１
当量）の亜燐酸トリメチル及び５ｍｌのメタノールを添
加し、次いで８時間後及び２４時間後に８滴の亜燐酸ト
リメチルを添加する。３４時間加熱還流した後、反応が
完了したことを薄層クロマトグラフィーにより確認す
る。溶液を冷却し、次いで１５ｍｌのジクロルメタン及
び１５ｍｌの水を添加する。得られた混合物をろ過し、
有機相と水性相を分離する。得られた有機相を重炭酸ナ
トリウム飽和溶液及び塩化ナトリウム飽和溶液で洗浄す
る。乾燥し、溶媒を除去した後、２５６ｍｇの粗製の所
期化合物を得た。これをシリカでクロマトグラフィーす
る（溶離剤：石油エーテル−酢酸エチル７−３、次いで
１−１）。所期の純化合物の３６％である６４ｍｇの所
期化合物を得た。これは例４で得たものと同定された。
Ｍｐ＝２１３−２１５℃。
【００２９】例７：２１−アセトキシ−１６−メチレン
ー１７α−ヒドロキシプレグナ−１，４，９（１１）−
トリエン−３，２０−ジオン 例１で得た７０２ｍｇの化合物を窒素雰囲気下に１０．
５ｃｃのジクロルメタンに溶解し、溶液を−６０℃に冷
却する。３１９ｍｇののｍ−クロル過安息香酸（８０
％）を添加する。３０分後に、さらに２４３．６ｍｇの
ｍ−クロル過安息香酸を添加し、反応を−６０℃〜−４
０℃の間に５時間放置する。次いで９４２ｍｇのトリフ
ェニルホスフィンを添加し、減圧下にジクロルメタンを
蒸発させ、１１ｃｃの乾燥トルエンで置き換える。得ら
れた溶液を７時間還流させる。冷却後、溶媒を蒸発さ
せ、残留物をシリカカラムでクロマトグラフィーする
（溶離剤：シクロヘキサン−酢酸エチル１−０から１−
１）。１１５ｍｇの所期のアルコールを回収した。これ
は例４で得たものと同一である。Ｍｐ＝２１３−２１５
℃。
【００３０】例８：１６−メチレン−１７α−ヒドロキ
シ−４−プレグネン−３，２０−ジオン工程Ａ ：１６α−［（フェニルチオ）ニトロメチル］−
４−プレグネン−３，２０−ジオン １３８ｍｇの４，１６−プレグナジエン−３，２０−ジ
オンと１１０ｍｇの（フェニルチオ）ニトロメタンを不
活性雰囲気下に光を断って２ｍｌのテトラヒドロフラン
とｔ−ブタノールとの１−１混合物に溶解し、次いで
０．１ｍｌのＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ［５，
４，０］ウンデカ−７−エン）を添加し、反応混合物を
周囲温度で４８時間撹拌する。次いで、０．５ｇのくえ
ん酸を５ｍｌの水に溶解してなる溶液を添加する。ジク
ロルメタンで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過
し、溶媒を減圧下に蒸発させた後、残留物をシリカでク
ロマトグラフィーし、エーテルで溶離し、４８．３ｍｇ
の所期化合物をエピマーの２−１混合物の形で得た。Ｍ
ｐ＝１６６−１７２℃。ＩＲスペクトル （ＣＨＢｒ3 ） １７０２；１６６０；１５５１ｃｍ-1 ＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ）1 Ｈ：７．４（５Ｈ，ｍ）；５．７（１Ｈ，ｓ）；５．
４（１Ｈ，２ｄ）；３ ．５５（１Ｈ，ｍ）；２．８７（１／３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．８Ｈｚ）；２．６４（２／３Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈ
ｚ）；２．２３（２／３Ｈ ３Ｈ，ｓ）；２．１６（１
／３Ｈ ３Ｈ，ｓ）；１．１８（３Ｈ，ｓ）；０．７１
（３Ｈ，ｓ）13Ｃ（ｐｐｍ）：１４．３８；１７．４
７；２１．０４；２８．７２；２９．２３；３１．５
８；３１．７６；３２．６４；３４．００；３５．３
９；３５．８３；３８．６６；３８．７６；４０．６
７；４５．２３；５３．５０；５４．７５；５５．２
４；６６．８６；９８．６６；９８．９９；１２４．２
６；１２９．５３；１２９．８０；１３１．４５；１３
２．９４；１７０．１８；１９９．１９；２０６．３７工程Ｂ ：１６−メチレン−１７α−ヒドロキシ−４−プ
レグネン−３，２０−ジオン 上記工程Ａで得た化合物より出発して例３に記載のよう
に実施することにより、相当するジスルホキシドを得、
これを所期の１６−メチレン−１７α−ヒドロキシ−４
−プレグネン−３，２０−ジオンを得るように例６に記
載のように転化した（米国特許第３３５４１８４号に記
載のようにして得た）。
【００３１】例９：３β−アセトキシ−１６−メチレン
−１７α−ヒドロキシ−５−プレグネン−３，２０−ジ
オン工程Ａ ：３β−アセトキシ−１６α−［（フェニルチ
オ）ニトロメチル］−５−プレグネン−２０−オン １２４．３ｇの３β−アセトキシ−５，１６−プレグナ
ジエン−２０−オンと８９．７ｍｇの（フェニルチオ）
ニトロメタンを不活性雰囲気下に光を断って２ｍｌのテ
トラヒドロフランとｔ−ブタノールとの１−１混合物に
溶解し、次いで０．０５ｍｌのＤＢＵ（１，８−ジアザ
ビシクロ［５，４，０］ウンデカ−７−エン）を添加
し、反応混合物を周囲温度で４８時間撹拌する。次い
で、０．５ｇのくえん酸を５ｍｌの水に溶解してなる溶
液を添加する。ジクロルメタンで抽出し、硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、ろ過し、溶媒を減圧下に蒸発させた後、残
留物をシリカでクロマトグラフィーし、エーテル−石油
エーテル（１−３）混合物で溶離し、６６ｍｇの所期化
合物をエピマーの２−１混合物の形で得た。Ｍｐ＝１３
５−１５９℃。ＩＲスペクトル （ＣＨＢｒ3 ） １７２０；１７０２；１５５１ｃｍ-1 ＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ）1 Ｈ：（Δ）７．４（５Ｈ，ｍ）；５．３５（１Ｈ，２
ｄ）；４．６（１Ｈ，ｍ）；３．５５（１Ｈ，ｍ）；
２．８５（１／３Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）；２．６４
（２／３Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）；２．２３（２／３
３Ｈ，ｓ）；２．１６（１／３ ３Ｈ，ｓ）；２．０
４（３Ｈ，ｓ）；１．０２（３Ｈ，ｓ）；０．６６（３
Ｈ，ｓ）13 Ｈ（ｐｐｍ）：１４．１９；１９．３２；２０．８
８；２１．４６；２７．７２；２９．３６；３１．５
３；３６．５８；３６．９６；３８．０４；３８．７
２；４０．４６；４５．１９；４９．６４；５５．３
４；５５．８３；６６．９０；７３．７４；９８．７
３；９９．０６；１２１．９６；１２９．４３；１２
９．７１：１３２．８８；１３９．７２；１７０．５
６；２０６．６４工程Ｂ ；３β−アセトキシ−１６−メチレン−１７α−
ヒドロキシ−５−プレグネン−３，２０−ジオン 上記工程Ａで得た化合物より出発して例３に記載のよう
に実施することにより、相当するジスルホキシドを得、
これを所期の３β−アセトキシ−１６−メチレン−１７
α−ヒドロキシ−５−プレグネン−３，２０−ジオンを
得るように例６に記載のように転化した（米国特許第３
５１９６１９号に記載）。
【００３２】例１０：１６−メチレン−１７α−ヒドロ
キシプレグナ−４，９（１１）−ジエン−３，２０−ジ
オン工程Ａ ：１６α−［（フェニルチオ）ニトロメチル］−
４，９（１１）−プレグナジエン−３，２０−ジオン １００ｍｇのプレグナ−４，９（１１），１６−トリエ
ン−３，２０−ジオンと１００ｍｇの（フェニルチオ）
ニトロメタンを不活性雰囲気下に光を断って１ｍｌのテ
トラヒドロフランとｔ−ブタノールとの１−１混合物に
溶解し、次いで３０ｍｇのＤＢＵ（１，８−ジアザビシ
クロ［５，４，０］ウンデカ−７−エン）を添加し、反
応混合物を周囲温度で１６時間撹拌する。次いで、０．
５ｇのくえん酸を５ｍｌの水に溶解してなる溶液を添加
する。ジクロルメタンで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥
し、ろ過し、溶媒を減圧下に蒸発させた後、残留物をシ
リカでクロマトグラフィーし、石油エーテル−酢酸エチ
ル（２−１）混合物で溶離し、１２９ｍｇの所期化合物
をエピマーの２−１混合物の形で得た。クロロホルム−
メタノール混合物から再結晶した後、Ｍｐ＝１９８−２
００℃（分解）。ＩＲスペクトル （ＣＨＢｒ3 ） １７０７；１６６５；１６４１；１５５２ｃｍ-1 ＮＭＲスペクトル （２００ＭＨｚ）1 Ｈ：（Δ）７．４（５Ｈ，ｍ）；５．７５（１Ｈ，
ｓ）；５．５５（１Ｈ，ｍ）；５．４（１Ｈ，２ｄ）；
３．６（１Ｈ，ｍ）；２．９５（１／３Ｈ，ｄ，Ｊ＝９
Ｈｚ）；２．７５（２／３Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）；２．
２４（２／３Ｈ３Ｈ，ｓ）；２．１７（１／３Ｈ ３
Ｈ，ｓ）；１．３４（３Ｈ，ｓ）；０．６５（３Ｈ，
ｓ）13 Ｃ（ｐｐｍ）：１３．９６；２６．１６；２９．５
０；３０．０８；３１．２８；３１．９８；３２．６
０；３３．９０；３４．２５；３６．９４；４０．７
０；４１．０７；４３．３０；４３．４７；５１．５
８；５２．０９；６６．５０；６６．６８；９８．４
６；９８．８１；１１７．８４；１２４．２６；１２
９．４１；１２９．７０；１３２．８１；１４５．１
０；１９８．７０；２０６．０３工程Ｂ ：１６−メチレン−１７α−ヒドロキシプレグナ
−４，９（１１）−ジエン−３，２０−ジオン 上記工程Ａで得た化合物より出発して例３に記載のよう
に実施することにより、相当するジスルホキシドを得、
これを所期の１６−メチレン−１７α−ヒドロキシプレ
グナ−４，９（１１）−ジエン−３，２０−ジオンを得
るように例６に記載のように転化した（米国特許第３３
５９２８７号に記載）。

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 次式（Ｉ） 【化１】 ｛ここで、部分構造 【化２】 は３−ケト−Δ４−系か、３−ケト−Δ１，４−系か、
    又は３−ＯＲ4 −Δ５−系（ここで、Ｒ4 は水素原子又
    はヒドロキシル基の保護基を表わす）のいずれかを表わ
    し、 Ｒはメチル基、−ＣＨ2 ＯＨ基又は−ＣＨ2 −ＯＲ' 基
    （ここで、Ｒ' はヒドロキシル基の保護基を表わす）を
    表わし、 Ｒ1 及びＲ'1は、同一であっても異なっていてもよく、
    メチル基、β−位置に水素原子を持たない５〜８個の炭
    素原子を含有する分岐鎖状アルキル基、１０個までの炭
    素原子を含有するアリール基、１０個までの炭素原子と
    窒素、硫黄及び酸素原子のうちから選択される１個以上
    の複素原子とを含有する複素アリール基又はベンジル基
    を表わし、 ｎ及びｍは、同一であっても異なっていてもよく、０又
    は１の数を表わし、 Ｒ2 及びＲ3 は水素原子を表わすか、或いはＲ2 は弗素
    原子を表わし及びＲ3はホルミルオキシ又はアセチルオ
    キシ基を表わし、 ９（１１）−位置の点線は第二の結合が存在し得ること
    を示す｝の化合物。
  2. 【請求項２】 Ｒがメチル基、−ＣＨ2 ＯＨ基又は−Ｃ
    Ｈ2 −ＯＲ" 基（ここで、Ｒ" は１〜４個の炭素原子を
    含有するアルキル基、１〜５個の炭素原子を含有するア
    シル基又はベンジル基を表わす）を表わし、Ｒ1 及び
    Ｒ'1は、同一であっても異なっていてもよく、メチル、
    フェニル、トリル又はベンジル基を表わし、ｎ、ｍ、Ｒ
    2 、Ｒ3 及び点線が請求項１記載の通りである請求項１
    記載の式（Ｉ）の化合物。
  3. 【請求項３】 次式（ＩA ） 【化３】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は
    前記の通りである）に相当する請求項１又は２記載の式
    （Ｉ）の化合物。
  4. 【請求項４】 次式（ＩB ） 【化４】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は
    前記の通りである）に相当する請求項１又は２記載の式
    （Ｉ）の化合物。
  5. 【請求項５】 次式（ＩC ） 【化５】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は
    前記の通りである）に相当する請求項１又は２記載の式
    （Ｉ）の化合物。
  6. 【請求項６】 部分構造 【化６】 が３−ケト−Δ１，４−系を表わし、Ｒが−ＣＨ2 −Ｏ
    Ｒ" 基（ここで、Ｒ" は前記の通りである）を表わし、
    Ｒ2 及びＲ3 が水素原子を表わし、９（１１）−位置の
    点線が第二の結合を表わすことを特徴とする請求項１〜
    ５のいずれかに記載の式（Ｉ）の化合物。
  7. 【請求項７】 ２１−アセトキシ−１６α−［ビス（フ
    ェニルチオ）メチル］プレグナ−１，４，９（１１）−
    トリエン−３，２０−ジオン。
  8. 【請求項８】 ２１−アセトキシ−１６α−［（フェニ
    ルチオ）（フェニルスルフィニル）メチル］プレグナ−
    １，４，９（１１）−トリエン−３，２０−ジオン。
  9. 【請求項９】 ２１−アセトキシ−１６α−［ビス（フ
    ェニルスルフィニル）メチル］プレグナ−１，４，９
    （１１）−トリエン−３，２０−ジオン。
  10. 【請求項１０】 請求項１記載の式（Ｉ）の化合物を製
    造するにあたり、次式（II） 【化７】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は前記の意味を
    有する）の化合物に塩基性媒体中で次式（Ｐ） Ｒ1 Ｓ−ＣＨ2 −ＮＯ2 （Ｐ） （ここで、Ｒ1 は前記の意味を有する） の試薬を作用させて次式(III) 【化８】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は前記の
    意味を有する）の化合物を得、この化合物に酸の存在下
    に次式 ＨＳ−Ｒ'1 （ここで、Ｒ'1は前記の意味を有する） のチオール又はチオフェノールを作用させて次式（Ｉ
    A ） 【化９】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は
    前記の意味を有する）の化合物（これは、ｍ及びｎが０
    である式（Ｉ）の化合物に相当する）を得、要すれば式
    （ＩA ）の化合物に１当量の酸化剤を作用させて次式
    （ＩB ） 【化１０】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は
    前記の意味を有する）の化合物（これは、ｍ及びｎの一
    方が１であり、他方が０である式（Ｉ）の化合物に相当
    する）を得るか、或いは少なくとも２当量の酸化剤を作
    用させて次式（ＩC ） 【化１１】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は
    前記の意味を有する）の化合物（これは、ｍ及びｎが１
    である式（Ｉ）の化合物に相当する）を得ることを特徴
    とする請求項１記載の式（Ｉ）の化合物の製造法。
  11. 【請求項１１】 次式（II） 【化１２】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は前記の意味を
    有する）の化合物に塩基性媒体中で次式（Ｐ） Ｒ1 Ｓ−ＣＨ2 −ＮＯ2 （Ｐ） （ここで、Ｒ1 は前記の意味を有する） の化合物を作用させて次式（III) 【化１３】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は前記の
    意味を有する）の化合物を得、この化合物に酸の存在下
    に次式 ＨＳ−Ｒ'1 （ここで、Ｒ'1は前記の意味を有する） のチオール又はチオフェノールを作用させて次式（Ｉ
    A ） 【化１４】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は
    前記の意味を有する）の化合物（これは、ｍ及びｎが０
    である式（Ｉ）の化合物に相当する）を得、式（ＩA ）
    の化合物に少なくとも２当量の酸化剤を作用させて次式
    （ＩC ） 【化１５】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は
    前記の意味を有する）の化合物（これは、ｍ及びｎが１
    である式（Ｉ）の化合物に相当する）を得ることを特徴
    とする請求項１０記載の製造法。
  12. 【請求項１２】 式（II）の化合物に対する式（Ｐ）の
    化合物の作用がアミノ塩基の存在下に行なわれ、チオー
    ル又はチオフェノールの作用がカルボン酸により接触さ
    れ、酸化剤が過酸又はカルボン酸の存在下での過酸化水
    素であることを特徴とする請求項１０又は１１記載の製
    造法。
  13. 【請求項１３】 新規な工業用化合物としての、請求項
    １０記載の式（III)の化合物。
  14. 【請求項１４】 請求項１記載の式（Ｉ）の化合物を次
    式（Ａ） 【化１６】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は請求項１記載
    の意味を有する）の化合物の製造に使用するにあたり、 ・請求項３記載の式（ＩA ）の化合物に少なくとも２当
    量の酸化剤を作用させて請求項５記載の式（ＩC ）の化
    合物を得、この化合物に熱間で親チオ試薬を作用させて
    式（Ａ）の所期化合物を得るか、或いは ・請求項５記載の式（ＩC ）の化合物に熱間で親チオ試
    薬を作用させて式（Ａ）の所期化合物を得るか、或いは ・請求項４記載の式（ＩB ）の化合物を、要すれば親チ
    オ試薬の存在下に加熱して次式（IV） 【化１７】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 及び点線は請求項
    １記載の意味を有し、１６（１７）及び１６（１６' ）
    −位置の点線はビニル及びアリルスルフィド混合物の存
    在を表わし、波線は異性体混合物の存在を表わす）の化
    合物を得、式（IV）の化合物に少なくとも１当量の酸化
    剤を作用させて次式（Ｖ） 【化１８】 （ここで、Ｋ、Ｒ、Ｒ'1、Ｒ2 、Ｒ3 、点線及び波線は
    前記の意味を有する）の化合物を得、この化合物に熱間
    で親チオ試薬を作用させて式（Ａ）の所期化合物を得る
    ことを特徴とする式（Ｉ）の化合物の使用方法。
  15. 【請求項１５】 請求項３記載の式（ＩA ）の化合物に
    少なくとも２当量の酸化剤を作用させて請求項５記載の
    式（ＩC ）の化合物を得、この化合物に熱間で親チオ試
    薬を作用させて式（Ａ）の所期化合物を得ることを特徴
    とする請求項１４記載の使用方法。
  16. 【請求項１６】 請求項５記載の式（ＩC ）の化合物に
    熱間で親チオ試薬を作用させて式（Ａ）の所期化合物を
    得ることを特徴とする請求項１４記載の使用方法。
  17. 【請求項１７】 親チオ試薬がトリフェニルホスフィン
    であることを特徴とする請求項１４〜１６のいずれかに
    記載の使用方法。
  18. 【請求項１８】 酸化剤が過酸又はカルボン酸の存在下
    での過酸化水素であることを特徴とする請求項１４又は
    １５記載の使用方法。
  19. 【請求項１９】 新規な工業用化合物としての、請求項
    １４記載の式（IV）の化合物。
  20. 【請求項２０】 新規な工業用化合物としての、 ・次式（Ｖb ） 【化１９】 の化合物（これは、１６（１７）及び１６（１６' ）−
    位置の点線が１６（１６' ）−位置だけにある第二の結
    合を表わす請求項１４記載の式（Ｖ）の化合物に相当す
    る）； ・次式（ＶC ） 【化２０】 の化合物（これは、１６（１７）及び１６（１６' ）−
    位置の点線が１６（１７）−位置だけにある第二の結合
    を表わす請求項１４記載の式（Ｖ）の化合物に相当す
    る）（但し、Ｒがメチル基を表わし、Ｒ2 及びＲ3 が水
    素原子を表わし、二重結合が９（１１）−位置に存在す
    る化合物は除く）。
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