JPH0517879A - 薄膜形成装置における放電電圧制御方法 - Google Patents

薄膜形成装置における放電電圧制御方法

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JPH0517879A
JPH0517879A JP2361291A JP2361291A JPH0517879A JP H0517879 A JPH0517879 A JP H0517879A JP 2361291 A JP2361291 A JP 2361291A JP 2361291 A JP2361291 A JP 2361291A JP H0517879 A JPH0517879 A JP H0517879A
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JP
Japan
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voltage
abnormal discharge
discharge
abnormal
thin film
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JP2361291A
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Inventor
Kazumi Mori
和美 森
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IHI Corp
Original Assignee
IHI Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 基板に印加する放電電圧を徐々に上昇させて
いく過程で生じる異常放電の発生頻度を検出し、その発
生頻度の変化状況に基づいて放電電圧を制御する。そし
て、異常放電の発生頻度が増加傾向あるいは一定である
間は電圧上昇を停止させるが、異常放電の発生頻度が減
少傾向に転じた時点で電圧上昇を速やかに再開させる。 【効果】 放電電圧が設定電圧に達するまでの所要時間
を短縮することができ、生産効率の向上を図ることがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜形成装置における
放電電圧の制御方法に関する。
【0002】
【従来の技術】基板に所定の放電電圧を印加して成膜処
理を行う薄膜形成装置、たとえばプラズマCVD装置に
おいては、処理開始時に放電電圧を徐々に上昇させてい
って設定電圧に到達させるようにしているのであるが、
電圧を上昇させている途中で異常放電が生じることがあ
る。そして、異常放電がひとたび発生すると、通常は短
時間のうちに異常放電が何度も繰り返された後、発生回
数が次第に低減していってやがて完全に停止する、とい
う現象が生じる。このため、従来一般には、異常放電が
生じたときには電圧上昇を一旦停止してその時点の電圧
をそのまま維持し、異常放電が完全に停止するに十分な
一定の時間が経過した後に、あらためて電圧上昇を再開
するようにしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
に異常放電が生じたときに電圧上昇を一定時間停止させ
る場合には、その停止時間を成膜物質の種類や操業圧力
あるいは炉内の汚れの状況に応じてその都度設定しなけ
ればならないが、停止時間を最適に設定することは必ず
しも容易ではなく、このため、停止時間が徒に長くなっ
てしまって設定電圧に到達するまでに長時間を要してし
まい、作業効率が良くないものであった。
【0004】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
で、基板に印加する放電電圧を上昇させるに際して異常
放電が生じた場合においても、設定電圧に達するまでの
所要時間を短縮させることのできる放電電圧制御方法を
提供することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板に所定の
放電電圧を印加してその表面に薄膜を形成する薄膜形成
装置に適用される放電電圧の制御方法であって、基板に
印加する放電電圧を徐々に上昇させていく過程で生じる
異常放電の発生頻度を検出し、その発生頻度の変化状況
に基づいて放電電圧を制御することを特徴とするもので
ある。
【0006】
【作用】本発明方法では、基板に印加する放電電圧を上
昇させていく際に生じる異常放電の発生頻度を検出し、
それが一定あるいは増大傾向にある間は電圧上昇を停止
させるが、異常放電の発生頻度が減少傾向に転じた時点
で、異常放電が完全に停止することを待たずに速やかに
電圧上昇を再開させることにより、設定電圧に達するま
での時間を短縮させる。
【0007】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しながら
説明する。図1は本発明方法を実施するための薄膜形成
装置の概略構成を示すものであって、図中符号1はチャ
ンバ、2は被処理物である基板、3は基板2に放電電圧
を印加するための電源、4,5は電源回路中に設けられ
た電流計および電圧計、6は基板2を加熱するためのヒ
ータ、7は原料ガスのボンベ、8は排気管である。
【0008】上記の薄膜形成装置には、異常放電の発生
頻度を検出し、それに基づいて電源3の出力を制御する
ための制御装置10が備えられている。その制御装置1
0は、異常放電検出器11、処理装置12、判定装置1
3から構成されている。
【0009】異常放電検出器11は、上記の電流計4お
よび電圧計5の計測値が入力され、それらの計測値から
異常放電の発生を検知する。すなわち、異常放電が発生
した際には電圧が急降下するとともに電流が急上昇する
ので、そのことから異常放電の発生を検知する。そし
て、この異常放電検出器11は、単位時間当たりの異常
放電の発生回数をカウントし、それを時間tの関数N(t)
として処理装置12に出力する。具体的には、一定の時
間ごとに異常放電の発生回数をカウントし、K回目の計
測値N(K)を処理装置12に対して順次出力するように
なっている。
【0010】処理装置12は、異常放電検出器11から
入力されたデータに基づいて、異常放電の発生頻度の増
減傾向を示すパラメータPを演算により求めて、それを
判定装置に出力する。そのパラメータPとしては、上記
の関数N(t)の2階微分、すなわち、P=d2N/dt2を用
いる。このパラメータPは、いわば異常放電の発生回数
の加速度(速度の変化率)を表すものであって、異常放電
の発生頻度が増加傾向にあればP>0であり、減少傾向
にあればP<0であり、一定であればP=0となる。
【0011】なお、この処理装置12における実際の演
算処理は、具体的には次のような離散系により行う。ま
ず、上記関数N(t)の1階微分dN/dtを求めるが、これ
は、異常放電検出器11におけるK回目の測定値N(K)
と、(K−1)回目の測定値N(K−1)を用いて、 dN/dt=ΔN(K)=N(K)−N(K−1) として求める。次に、上記のパラメータPを求めるが、
これは、 P=d2N/dt2=ΔN(K)−ΔN(K−1) =N(K)−2N(K−1)+N(K−2) として求める。
【0012】そして、上記の判定装置13は、入力され
たパラメータPのデータに基づき、異常放電の発生頻度
が増加傾向にあるか、減少傾向にあるかを判断し、その
いずれかに対応する制御信号を電源3に対して出力す
る。すなわち、P≧Oであって異常放電の発生頻度が増
加傾向もしくは一定である場合には、放電電圧をそのま
ま保持するような制御信号を電源3に出力し、また、P
<0であって異常放電の発生頻度が減少傾向である場合
には、電圧を上昇させるような制御信号を電源3に出力
するのである。
【0013】これにより、異常放電の発生頻度が増加傾
向あるいは一定である間は電圧上昇が停止しているが、
異常放電が完全に停止するのを待たずに異常放電の発生
頻度が減少傾向に転じた時点で電圧上昇が速やかに再開
され、したがって、異常放電が発生した際には無条件に
電圧上昇を一定時間停止させていた従来の場合に比し
て、設定電圧に達するまでの所要時間を短縮することが
でき、生産効率を向上させることができる。
【0014】たとえば、設定電圧が800Vであり、設
定電圧となるまでの電圧上昇率が100V/minである
場合、異常放電が全く発生しなければ設定電圧に到達す
るまでの所要時間は8分で済むが、従来一般には、異常
放電の発生のために最低限でも12分程度の電圧上昇停
止時間が生じてしまい、したがって、設定電圧に達する
までに20分程度を要するものであった。これに対し、
上記のように異常放電の増減傾向を把握して異常放電の
完全停止を待たずに電圧上昇を再開させることによっ
て、設定電圧となるまでの所要時間を15分程度に短縮
させることができた。
【0015】
【発明の効果】以上で説明したように本発明によれば、
基板に印加する放電電圧を徐々に上昇させていく過程で
生じる異常放電の発生頻度を検出し、その発生頻度の変
化状況に基づいて放電電圧を制御して、異常放電の発生
頻度が増加傾向あるいは一定である間は電圧上昇を停止
させるが、異常放電の発生頻度が減少傾向に転じた時点
で電圧上昇を速やかに再開させることにより、設定電圧
に達するまでの所要時間を短縮することができ、したが
って生産効率を向上させることができるという効果を奏
する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電圧制御制御方法を実施するための薄
膜形成装置の一例を示す概略構成図である。
【符号の説明】
2 基板 3 電源 10 制御装置 11 異常放電検出器 12 処理装置 13 判定装置。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 基板に所定の放電電圧を印加してその表
    面に薄膜を形成する薄膜形成装置に適用される放電電圧
    の制御方法であって、基板に印加する放電電圧を徐々に
    上昇させていく過程で生じる異常放電の発生頻度を検出
    し、その発生頻度の変化状況に基づいて放電電圧を制御
    することを特徴とする薄膜形成装置における放電電圧制
    御方法。
JP2361291A 1991-02-18 1991-02-18 薄膜形成装置における放電電圧制御方法 Withdrawn JPH0517879A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2361291A JPH0517879A (ja) 1991-02-18 1991-02-18 薄膜形成装置における放電電圧制御方法

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JP2361291A JPH0517879A (ja) 1991-02-18 1991-02-18 薄膜形成装置における放電電圧制御方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0517879A true JPH0517879A (ja) 1993-01-26

Family

ID=12115439

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2361291A Withdrawn JPH0517879A (ja) 1991-02-18 1991-02-18 薄膜形成装置における放電電圧制御方法

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JP (1) JPH0517879A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240018351A (ko) 2022-08-02 2024-02-13 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭 기판 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 프로그램

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Effective date: 19980514