JPH06101069A - プラズマエッチング装置の制御方法 - Google Patents
プラズマエッチング装置の制御方法Info
- Publication number
- JPH06101069A JPH06101069A JP24960492A JP24960492A JPH06101069A JP H06101069 A JPH06101069 A JP H06101069A JP 24960492 A JP24960492 A JP 24960492A JP 24960492 A JP24960492 A JP 24960492A JP H06101069 A JPH06101069 A JP H06101069A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow rate
- gas
- voltage
- vacuum container
- plasma etching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】プラズマエッチング装置の制御方法
【構成】プラズマエッチング装置の制御方法において、
マスフローコントローラへの流量設定信号にマイナス電
圧（−６０ｍＶ）を付加することで、流量センサゼロ電
圧を正確に計測することが可能となる。 【効果】マスフローコントローラの流量センサのゼロド
リフトを常時監視することにより、安定したガス供給が
行える。
マスフローコントローラへの流量設定信号にマイナス電
圧（−６０ｍＶ）を付加することで、流量センサゼロ電
圧を正確に計測することが可能となる。 【効果】マスフローコントローラの流量センサのゼロド
リフトを常時監視することにより、安定したガス供給が
行える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマエッチング装
置におけるガス供給の制御方法に関するものである。
置におけるガス供給の制御方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のプラズマエッチング装置は例え
ば、特開昭５９−１１３１８３号公報に記載されるよう
に、真空容器内にガスを供給するマスフローコントロー
ラ（以下、ＭＦＣと略す）の流量設定信号は、本体装置
より出力される０〜５Ｖ（０〜１００％）であった。Ｍ
ＦＣに任意の流量を設定すると、その設定電圧値とＭＦ
Ｃ本体内にある流量センサー電圧の比較演算処理が行な
われ、設定流量になる様に、ＭＦＣ内部のバルブ開度が
調節される。
ば、特開昭５９−１１３１８３号公報に記載されるよう
に、真空容器内にガスを供給するマスフローコントロー
ラ（以下、ＭＦＣと略す）の流量設定信号は、本体装置
より出力される０〜５Ｖ（０〜１００％）であった。Ｍ
ＦＣに任意の流量を設定すると、その設定電圧値とＭＦ
Ｃ本体内にある流量センサー電圧の比較演算処理が行な
われ、設定流量になる様に、ＭＦＣ内部のバルブ開度が
調節される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、ＭＦ
Ｃの流量センサ出力のゼロドリフトに対して配慮がなか
った。このことにより、流量センサーのゼロ電圧（流量
０％時の電圧）がマイナス側にシフトした状態では、流
量設定０％にすると、比較演算処理上、流量センサ電圧
＝０Ｖになるため、バルブ開度は増加し、ガスが流れる
ことになる。即ち、流量設定０％＝流量センサーのゼロ
電圧（バルブ開度 ０％）とならない不具合が生じてい
る。
Ｃの流量センサ出力のゼロドリフトに対して配慮がなか
った。このことにより、流量センサーのゼロ電圧（流量
０％時の電圧）がマイナス側にシフトした状態では、流
量設定０％にすると、比較演算処理上、流量センサ電圧
＝０Ｖになるため、バルブ開度は増加し、ガスが流れる
ことになる。即ち、流量設定０％＝流量センサーのゼロ
電圧（バルブ開度 ０％）とならない不具合が生じてい
る。
【０００４】ＭＦＣ下流には、ストップ弁を設けている
が、上記不具合によりＭＦＣ〜ストップ弁の間にガスが
圧封される。従って、真空容器にガス導入開始と共に圧
封されたガスが流れ込み、真空容器の圧力変動が生じて
いた。本発明の目的は、ＭＦＣの流量センサ出力電圧の
ゼロドリフトを常時監視し、安定したガス供給を行うプ
ラズマエッチング装置の制御方法を提供することにあ
る。
が、上記不具合によりＭＦＣ〜ストップ弁の間にガスが
圧封される。従って、真空容器にガス導入開始と共に圧
封されたガスが流れ込み、真空容器の圧力変動が生じて
いた。本発明の目的は、ＭＦＣの流量センサ出力電圧の
ゼロドリフトを常時監視し、安定したガス供給を行うプ
ラズマエッチング装置の制御方法を提供することにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、プラズマエッチング装置の制御方法において、ガス
供給手段のガス流量を設定するＭＦＣへの流量設定信号
として、マイナス電圧（−６０ｍＶ：流量センサーゼロ
電圧許容範囲±５０ｍＶ）を付加することによって、流
量センサーのゼロ電圧を正確に計測することを可能にし
たものである。
め、プラズマエッチング装置の制御方法において、ガス
供給手段のガス流量を設定するＭＦＣへの流量設定信号
として、マイナス電圧（−６０ｍＶ：流量センサーゼロ
電圧許容範囲±５０ｍＶ）を付加することによって、流
量センサーのゼロ電圧を正確に計測することを可能にし
たものである。
【０００６】
【作用】エッチング処理開始前（真空容器にガス供給す
る前）にＭＦＣ流量設定信号として、−６０ｍＶを付加
することによって、ＭＦＣのバルブを全閉（ガスの流れ
がない状態）にすることが可能となり、正確に流量セン
サーゼロ電圧が認識でき、許容ゼロドリフト値を設定す
ることによって、エッチング処理にインターロックをか
けることができ、安定したガス供給を行える信頼性の高
い装置となるものである。
る前）にＭＦＣ流量設定信号として、−６０ｍＶを付加
することによって、ＭＦＣのバルブを全閉（ガスの流れ
がない状態）にすることが可能となり、正確に流量セン
サーゼロ電圧が認識でき、許容ゼロドリフト値を設定す
ることによって、エッチング処理にインターロックをか
けることができ、安定したガス供給を行える信頼性の高
い装置となるものである。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１により説明す
る。図１において、１は石英ベルジャー、２は金属フ
タ、３は試料例えばウエハ、４は試料台、５はパイプ、
６はストップ弁、７はマスフロントコントローラ、８は
ガスボンベ、９はコントロールバルブ、１０は真空ポン
プ、１１はマグネトロンである。
る。図１において、１は石英ベルジャー、２は金属フ
タ、３は試料例えばウエハ、４は試料台、５はパイプ、
６はストップ弁、７はマスフロントコントローラ、８は
ガスボンベ、９はコントロールバルブ、１０は真空ポン
プ、１１はマグネトロンである。
【０００８】上記の構成は、内部にプラズマが生成され
る真空容器と、該真空容器に接続され真空容器内のガス
を排気する排気手段と、真空容器内にプラズマ発生用の
ガスを供給する手段とを備えたプラズマエッチング装置
である。
る真空容器と、該真空容器に接続され真空容器内のガス
を排気する排気手段と、真空容器内にプラズマ発生用の
ガスを供給する手段とを備えたプラズマエッチング装置
である。
【０００９】上記の構成において、マスフロントコント
ローラ７への流量設定信号にマイナス電圧（−６０ｍ
Ｖ）を付加することで、流量センサゼロ電圧を正確に計
測するものである。本実施例によれば、マスフロントコ
ントローラの流量センサのゼロドリフトを常時監視する
ことにより、安定したガス供給が行える。これにより、
信頼性の高いガス供給手段をもつ装置となる。
ローラ７への流量設定信号にマイナス電圧（−６０ｍ
Ｖ）を付加することで、流量センサゼロ電圧を正確に計
測するものである。本実施例によれば、マスフロントコ
ントローラの流量センサのゼロドリフトを常時監視する
ことにより、安定したガス供給が行える。これにより、
信頼性の高いガス供給手段をもつ装置となる。
【００１０】
【発明の効果】本発明によれば、マスフローコントロー
ラの流量センサー電圧のゼロドリフトを常時監視するこ
とが可能となり、安定したガス供給が行える。
ラの流量センサー電圧のゼロドリフトを常時監視するこ
とが可能となり、安定したガス供給が行える。
【図１】本発明の一実施例であるプラズマエッチング装
置を示す構成図である。
置を示す構成図である。
１…石英ベルジャー、２…金属フタ、３…ウエハ、４…
試料台、５…パイプ、６…ストップ弁、７…マスフロー
コントローラ、８…ガスボンベ、９…コントロールバル
ブ、１０…真空ポンプ、１１…マグネトロン。
試料台、５…パイプ、６…ストップ弁、７…マスフロー
コントローラ、８…ガスボンベ、９…コントロールバル
ブ、１０…真空ポンプ、１１…マグネトロン。
Claims (1)
- 【請求項１】内部にプラズマが生成される真空容器と、
該真空容器に接続され真空容器内のガスを排気する排気
手段と、真空容器に接続され真空容器内にプラズマ発生
用のガスを供給するガス供給手段とから成るプラズマエ
ッチング装置の制御方法において、前記ガス供給手段へ
の流量設定信号にマイナス電圧（−６０ｍＶ）を付加
し、流量センサーゼロ電圧を計測することを特徴とする
プラズマエッチング装置の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24960492A JPH06101069A (ja) | 1992-09-18 | 1992-09-18 | プラズマエッチング装置の制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24960492A JPH06101069A (ja) | 1992-09-18 | 1992-09-18 | プラズマエッチング装置の制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06101069A true JPH06101069A (ja) | 1994-04-12 |
Family
ID=17195497
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24960492A Pending JPH06101069A (ja) | 1992-09-18 | 1992-09-18 | プラズマエッチング装置の制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06101069A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015075405A (ja) * | 2013-10-09 | 2015-04-20 | 旭有機材工業株式会社 | 流量制御装置 |
-
1992
- 1992-09-18 JP JP24960492A patent/JPH06101069A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015075405A (ja) * | 2013-10-09 | 2015-04-20 | 旭有機材工業株式会社 | 流量制御装置 |
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