JPS6278615A - 圧力調整制御方法 - Google Patents
圧力調整制御方法Info
- Publication number
- JPS6278615A JPS6278615A JP21782885A JP21782885A JPS6278615A JP S6278615 A JPS6278615 A JP S6278615A JP 21782885 A JP21782885 A JP 21782885A JP 21782885 A JP21782885 A JP 21782885A JP S6278615 A JPS6278615 A JP S6278615A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure
- valve
- variable conductance
- conductance valve
- controller
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Control Of Fluid Pressure (AREA)
- Electrically Driven Valve-Operating Means (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は圧力調整制御に係り、特に可変コンダクタンス
バルブを用いて行なう圧力調整に好適な圧力調整制御方
法に関するものである。
バルブを用いて行なう圧力調整に好適な圧力調整制御方
法に関するものである。
従来の圧力制御装置は、第3図に示すようなバタフライ
バルブを用いた可変コンダクタンスバルブ方式のものが
あった。
バルブを用いた可変コンダクタンスバルブ方式のものが
あった。
第3図は半導体製造装置の構成を示したもので、ガス供
給装置4から処理室1に反応ガスを供給し、また一方で
は、可変コンダクタンスバルブ2の回転角をモータ3で
制御しながら排気系の排気コンダクタンスを変え2、処
理室1の圧力を一定に保つ1、と二ノ)が、円筒状の1
管の排気系と、円板状の可変コンダクタンスバルブ21
X二よるこの構成では、第2図に示すように、可変1ソ
ダクタンスバルブ2が全閉に近い状態において可変コン
ダクタンスバルブ2の開度変化量に対して処理室1の圧
力僚゛化量が非常に大きく、逆に、可変コンダクタンス
バルブ2の開度がある開度以上になると、可変コンダク
タンスバルブ20開度変化量に対する処理室l内の圧力
変化量が非常6..小さく、いずれの場合も制御しに(
(、ハンチング現象を起すなどの問題があった。
給装置4から処理室1に反応ガスを供給し、また一方で
は、可変コンダクタンスバルブ2の回転角をモータ3で
制御しながら排気系の排気コンダクタンスを変え2、処
理室1の圧力を一定に保つ1、と二ノ)が、円筒状の1
管の排気系と、円板状の可変コンダクタンスバルブ21
X二よるこの構成では、第2図に示すように、可変1ソ
ダクタンスバルブ2が全閉に近い状態において可変コン
ダクタンスバルブ2の開度変化量に対して処理室1の圧
力僚゛化量が非常に大きく、逆に、可変コンダクタンス
バルブ2の開度がある開度以上になると、可変コンダク
タンスバルブ20開度変化量に対する処理室l内の圧力
変化量が非常6..小さく、いずれの場合も制御しに(
(、ハンチング現象を起すなどの問題があった。
なお、この種に関連するものとしては、例えば特開昭5
9 67619号公報等が挙げられる。
9 67619号公報等が挙げられる。
本発明の目的は、真空排気時の圧力調整を行なう可変コ
ンダクタンスバルブの開度と圧力との関係を近似式に表
わすことによって、バルブ動作を最適にし、圧力調整時
間を短縮させる圧力制御方法を提供することにある。
ンダクタンスバルブの開度と圧力との関係を近似式に表
わすことによって、バルブ動作を最適にし、圧力調整時
間を短縮させる圧力制御方法を提供することにある。
本発明は、可変コンダクタンスバルブを用いて、真空排
気時の圧力調整を行なう方法において、真空部の圧力を
測定し制御装置に入力する行程と、前記可変フンダクタ
ンスバルブの開度と前記圧力との関係の近似式を記憶し
た前記制御装置によって圧力変化の傾きを算出する行程
と、前記算出した傾きの値によって前記可変コンダクタ
ンスバルブを調整する信号を出力する行程とを有するこ
とを特徴とし、バルブの動作を最適にして圧力調整時間
を短縮させることのできる方法である。
気時の圧力調整を行なう方法において、真空部の圧力を
測定し制御装置に入力する行程と、前記可変フンダクタ
ンスバルブの開度と前記圧力との関係の近似式を記憶し
た前記制御装置によって圧力変化の傾きを算出する行程
と、前記算出した傾きの値によって前記可変コンダクタ
ンスバルブを調整する信号を出力する行程とを有するこ
とを特徴とし、バルブの動作を最適にして圧力調整時間
を短縮させることのできる方法である。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の一実施例を第1.2図により説明する。
第1図は、本発明を利用した半導体製造装置の構成図で
ある。真空ポンプ4にて処理室1内を真空にし、真空ポ
ンプ4と処理室1との間の配管の途中に、可変フンダク
タンスバルブ2を設け、排気コンダクタンスを変化させ
ることにより、処理室1内の圧力を変化させる。ここで
、3は可変コンダクタンスバルブ2を動かすモータ、5
は処理室1内に処理ガスを供給するガス供給装置、6は
処理室l内の圧力を測定する真空計、7は真空計6の測
定値により、モータ3に調整量の信号を出す制御装置で
ある。
ある。真空ポンプ4にて処理室1内を真空にし、真空ポ
ンプ4と処理室1との間の配管の途中に、可変フンダク
タンスバルブ2を設け、排気コンダクタンスを変化させ
ることにより、処理室1内の圧力を変化させる。ここで
、3は可変コンダクタンスバルブ2を動かすモータ、5
は処理室1内に処理ガスを供給するガス供給装置、6は
処理室l内の圧力を測定する真空計、7は真空計6の測
定値により、モータ3に調整量の信号を出す制御装置で
ある。
可変コンダクタンスバルブ2は、第2図に示すように、
圧力Pと開度Vとの間に指示関数的な関係があり、この
関係を例えば、最小2乗法によりP=A/<BV+C)
−−−−−−(11に:でA、 BおzびCは定数)
の特性曲線で近似させ、前記(1)式の傾きd P/d
Vを出し、制御装置6に記憶させる。
圧力Pと開度Vとの間に指示関数的な関係があり、この
関係を例えば、最小2乗法によりP=A/<BV+C)
−−−−−−(11に:でA、 BおzびCは定数)
の特性曲線で近似させ、前記(1)式の傾きd P/d
Vを出し、制御装置6に記憶させる。
処理室1内の圧力を変化させるのに、まず真空計6によ
り現状の圧力Pを測定し、制御装[7に転送してその圧
力時の特性曲線(1)の傾きd P/d V・ 3 を算出し、その傾きd P/d Vに応じたパルス数、
例えば、傾きdP/dVが大きければ小さなパルス数、
また傾きd P/d Vが小さければ大きなパルス数を
出して、可変コンダクタンスバルブ2を動かすモータ3
を作動させる。そしである時間、例えば2秒の間隔を設
定しておきその時間経過後、再度真空計6にて圧力を測
定し、前記動作を(り返す。
り現状の圧力Pを測定し、制御装[7に転送してその圧
力時の特性曲線(1)の傾きd P/d V・ 3 を算出し、その傾きd P/d Vに応じたパルス数、
例えば、傾きdP/dVが大きければ小さなパルス数、
また傾きd P/d Vが小さければ大きなパルス数を
出して、可変コンダクタンスバルブ2を動かすモータ3
を作動させる。そしである時間、例えば2秒の間隔を設
定しておきその時間経過後、再度真空計6にて圧力を測
定し、前記動作を(り返す。
以上、木−実施例によれば、特性曲線(1)の傾きが大
きな所ではゆっくり、小さな所では早曵可変コンダクタ
ンスバルブ2を動かすことができ、バルブ開閉動作を最
適速度にて行なえ、圧力調整時間を短縮できるという効
果がある。
きな所ではゆっくり、小さな所では早曵可変コンダクタ
ンスバルブ2を動かすことができ、バルブ開閉動作を最
適速度にて行なえ、圧力調整時間を短縮できるという効
果がある。
本発明によれば、真空排気時の圧力調整を行なう可変コ
ンダクタンスバルブの開度と圧力との関係を近似式に表
わすことによって、バルブ動作を最適にできるので、圧
力調整時間を短縮できるという効果がある。
ンダクタンスバルブの開度と圧力との関係を近似式に表
わすことによって、バルブ動作を最適にできるので、圧
力調整時間を短縮できるという効果がある。
第1図は本発明の一実施例である圧力調整制御□方法を
利用した装置の構成図、第2図は第1図における可変コ
ンダクタンスバルブ開度と処理室圧力との関係を示すグ
ラフ、第3図は従来の装置を示す構成図である。
利用した装置の構成図、第2図は第1図における可変コ
ンダクタンスバルブ開度と処理室圧力との関係を示すグ
ラフ、第3図は従来の装置を示す構成図である。
Claims (1)
- 1、可変コンダクタンスバルブを用いて、真空排気時の
圧力調整を行なう方法において、真空部の圧力を測定し
制御装置に入力する行程と、前記可変コンダクタンスバ
ルブの開度と前記圧力との関係の近似式を記憶した前記
制御装置によって圧力変化の傾きを算出する行程と、前
記算出した傾きの値によって前記可変コンダクタンスバ
ルブを調整する信号を出力する行程とを有することを特
徴とする圧力調整制御方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21782885A JPS6278615A (ja) | 1985-10-02 | 1985-10-02 | 圧力調整制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21782885A JPS6278615A (ja) | 1985-10-02 | 1985-10-02 | 圧力調整制御方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6278615A true JPS6278615A (ja) | 1987-04-10 |
Family
ID=16710383
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21782885A Pending JPS6278615A (ja) | 1985-10-02 | 1985-10-02 | 圧力調整制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6278615A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03171306A (ja) * | 1989-11-30 | 1991-07-24 | Ricoh Co Ltd | 流体圧力制御方法及び装置 |
US5944049A (en) * | 1997-07-15 | 1999-08-31 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for regulating a pressure in a chamber |
KR100440750B1 (ko) * | 2002-02-05 | 2004-07-21 | (주)영인테크 | 밸브 개폐상태 감시 장치 |
JP2008187139A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 減圧処理室の圧力制御装置 |
JP2020061418A (ja) * | 2018-10-05 | 2020-04-16 | 株式会社島津製作所 | 推定装置およびバルブ制御装置 |
-
1985
- 1985-10-02 JP JP21782885A patent/JPS6278615A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03171306A (ja) * | 1989-11-30 | 1991-07-24 | Ricoh Co Ltd | 流体圧力制御方法及び装置 |
US5944049A (en) * | 1997-07-15 | 1999-08-31 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for regulating a pressure in a chamber |
KR100440750B1 (ko) * | 2002-02-05 | 2004-07-21 | (주)영인테크 | 밸브 개폐상태 감시 장치 |
JP2008187139A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 減圧処理室の圧力制御装置 |
JP2020061418A (ja) * | 2018-10-05 | 2020-04-16 | 株式会社島津製作所 | 推定装置およびバルブ制御装置 |
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