JP3137810B2 - マイクロ波プラズマ放電停止検知方法、マイクロ波プラズマ処理方法及びマイクロ波プラズマ処理装置 - Google Patents
マイクロ波プラズマ放電停止検知方法、マイクロ波プラズマ処理方法及びマイクロ波プラズマ処理装置Info
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Description
基体に成膜あるいはエッチング処理を施すマイクロ波プ
ラズマ処理装置に関する。
において、ガス流量の変化による放電圧力の変化や、放
電空間内の膜はがれや異常放電による放電インピーダン
スの変化からプラズマ放電が停止することがあった。
膜中にプラズマ放電が停止した状態を知るための手段は
なかった。また、プラズマ放電が停止した状態から再び
自動的にプラズマ放電を再発生させる方法はなく、手動
にて装置を復帰させる事が主であった。この手動にて装
置を復帰させる手段は、マイクロ波電力を放電持続電力
の1.1倍以上の電力で導入し整合を調整するように構
成されている。
来例では放電停止状態を検知する手段がなく、自ら確認
し手動にてプラズマを復帰させるため、放電停止状態が
長時間となることがあった。このため、ゴミの発生およ
び膜質の変化や、歩留り、生産効率の低下などの不具合
が生じていた。
これまで放電により消費されていたマイクロ波のパワー
が消費されなくなり真空容器や基体への消費が行われ
る。このため、その部材が必要以上に加熱されて部材の
変形などを生じる。また、マイクロ波が消費される場所
を求めて真空容器内を飛び交う事で時折容器外へマイク
ロ波が漏れて人体への悪影響を生じさせる恐れもあっ
た。
鑑みてなされたものであって、マイクロ波によるプラズ
マ放電が停止した状態を検知し、プラズマ放電を自動復
帰させるプラズマ放電停止検知方法およびマイクロ波プ
ラズマ処理装置を提供することを目的としている。
に本発明のマイクロ波プラズマ放電停止検知方法は、プ
ラズマが発生される放電空間のマイクロ波の反射波のパ
ワー、放電圧力、放電電位、放電電流の少なくとも一つ
を検出し、検出値に生じた変化の大小に応じて放電停止
状態を検知することを特徴とする。また、本発明のマイ
クロ波プラズマ処理方法は、プラズマが発生される放電
空間のマイクロ波の反射波のパワー、放電圧力、放電電
位、放電電流の少なくとも一つを検出し、検出値に生じ
た変化の大小に応じて放電停止状態を検知し、放電停止
状態が検知された際に再びプラズマ放電を生成させるこ
とを特徴とする。
スおよびマイクロ波を導入して基体に所定の処理を施す
マイクロ波プラズマ処理装置であって、前記真空容器内
の放電電位および放電電流を検出する放電電位・電流検
出手段と、前記真空容器内の放電圧力を測る圧力測定手
段と、前記真空容器内のマイクロ波の反射波のパワーを
測るパワー測定手段と、前記各手段による放電電位・電
流、放電圧力、マイクロ波の反射波のパワーの検出値に
生じた変化の大小を比較する比較手段と、前記検出値を
監視し、前記比較手段による比較結果から放電が停止し
たか否かを判断し、放電が停止したと判断した場合に放
電復帰動作を行うことによって再びプラズマ放電を生起
させる制御装置とが備えられたことを特徴とする。
流・電圧がゼロになり、また放電圧力は低下し、さらに
これまで放電に消費していたマイクロ波のパワーが増え
る。このため、本発明にかかる装置では放電電位・電流
検出手段、圧力測定手段、パワー測定手段が設けられる
ことにより、これらの各手段は真空容器内のプラズマ放
電状態の電圧・電流、放電圧力、マイクロ波の反射波の
パワーを検出し、比較手段によりこれらの各検出値に生
じた変化の大小に応じて現在の真空容器内のプラズマ放
電状態が停止しているかどうかが検知される。
容器内に原料ガスおよびマイクロ波の導入制御を行う制
御装置が設けられることにより、プラズマ放電停止状態
が検知されると、制御装置により真空容器内に原料ガス
およびマイクロ波が導入制御される。このとき、制御装
置はマイクロ波導入パワーを放電維持パワーより大きく
し、あるいは原料ガス導入により圧力を放電維持圧力よ
り上昇させることで、真空容器内に再びプラズマ放電が
生成される。
説明する。
出機能を説明するためのブロック図である。この図に示
すマイクロ波プラズマ処理装置1は、この放電空間内へ
放電発生源3のマイクロ波発振源およびガス供給源を用
いてプラズマを発生させてマイクロ波により基体に処理
を施すものである。マイクロ波プラズマ処理装置1の放
電空間には、その放電停止状態を検出するための放電停
止検出手段4が接続されており、放電停止検出手段4は
その放電空間の放電電位・電流、放電パワー、放電圧力
から放電停止状態を検出する。これらの検出結果に応じ
て放電制御を行う放電制御装置6が設けられており、放
電制御装置6は放電空間の放電電位・電流、放電パワ
ー、放電圧力を検出した各検出信号を放電発生源3のマ
イクロ波発振源およびガス供給源へ送信ケーブル5によ
り送信する。その各検出信号に基づいて放電発生源3は
放電発生手段2によりマイクロ波プラズマ処理装置1の
プラズマ放電を復帰させる。
置の一実施例を示す図である。この図に示すように本実
施例のマイクロ波プラズマ処理装置本体は真空容器7を
有しており、真空容器7内には成膜あるいはエッチング
が施される基体8が設置されている。また、真空容器7
には容器内を高真空まで排気する排気用バルブ19が設
けられ、さらに真空容器7には原料ガスを供給するため
のガス供給源10が接続されている。そして、真空容器
7の基体8と対向する側壁にはマイクロ波発振源11が
設けられており、マイクロ波発振源11により真空容器
7内にマイクロ波が導入される。
排気用バルブ19によって真空容器7が高真空まで排気
された後、ガス供給源10によって原料ガスが導入さ
れ、マイクロ波発振源11によりマイクロ波が導入され
てプラズマ9が発生される。
器7には、放電圧力の変化を電気的に測定する圧力ゲー
ジ13(圧力センサー)が接続され、また棒状(アンテ
ナ状)の導体からなる検出棒12が設けられている。検
出棒12には可変抵抗器18を介して真空容器7に発生
されるプラズマ放電電流を測定する電流計17が接続さ
れるとともに、検出棒12の電位を測定する電圧計14
が可変抵抗器18と並列に接続されている。さらに、真
空容器7内に導入されるマイクロ波のパワーを計測する
ためにマイクロ波発振源11と真空容器7との間には、
パワーモニター25が設けられている。
ージ13、パワーモニター25は、不図示の放電制御装
置により監視されて、それらの各測定結果の変化に基づ
いて放電停止状態を検出し、放電制御装置は真空容器7
内のプラズマ放電を復帰させる検出信号を各測定結果に
応じて通信ケーブル15を介してガス供給源10および
マイクロ波発振源11に送信させる。
止検出手段からの測定結果に基づく制御システムを説明
する。図3は本発明の一実施例の制御システムを説明す
るための図である。制御装置は、図3に示すような圧力
ゲージ13、電圧計14からの値を電圧として読み取
り、比較手段としての電圧比較器16により放電維持状
態のときと比較して放電停止状態と判断するとマイクロ
波発生源11およびまたはガス供給源10にマイクロ波
およびまたは原料ガスを導入するための信号を送信す
る。また、電流計17、パワーモニター25からは電流
をアナログ信号にて読み取り、電流−電圧変換器27に
よりアナログ電圧に変換して比較手段としての電圧比較
器16により放電維持状態のときと比較して放電停止状
態と判断するとマイクロ波発生源11およびまたはガス
供給源10にマイクロ波およびまたは原料ガスを導入す
るための信号を送信する。上記説明した本実施例の制御
装置はアナログにて処理を行ったが、場合によっては途
中デジタル変換を行ってデジタル処理を行ってもよい。
出される放電停止状態および放電復帰後の状態を表わし
たグラフを図4に示す。Aは放電維持状態、Bは放電停
止状態、Cは放電復帰後の状態、20は電流計の読み、
22は圧力ゲージの読み、23は進行波のパワー、24
は反射波のパワーである。これらの値により放電制御装
置は放電停止状態を把握して瞬時に放電を復帰させる。
状態のうちいずれかを検知した場合、それに対応する放
電復帰動作として以下の表1に示す8通りの手段があ
り、放電停止状態に応じてそれらを組み合せて用いるの
が有効であった。
の手段を組み合せて行う事でも一部不安定要素が存在す
る。そこで、全ての手段を同時に行う事で一部の不安定
要素をなくし機能としてより有効となった。
位・電流検出手段、圧力測定手段、放電パワー測定手段
が設けられ、比較手段によるマイクロ波および原料ガス
の導入制御を行う制御装置が設けられることにより、放
電停止状態を検知することができ、瞬時にプラズマ放電
を再復帰させることができる。このため、放電停止時間
が長時間になることなく、ゴミの発生および膜質の変化
や、歩留り、生産効率の低下を改善し、他の部材の変形
などの悪影響を最小限に止める効果がある。
明するためのブロック図である。
例を示す図である。
めの図である。
放電停止状態および放電復帰後の状態を表わしたグラフ
である。
Claims (3)
- 【請求項1】 プラズマが発生される放電空間のマイク
ロ波の反射波のパワー、放電圧力、放電電位、放電電流
の少なくとも一つを検出し、検出値に生じた変化の大小
に応じて放電停止状態を検知するマイクロ波プラズマ放
電停止検知方法。 - 【請求項2】 プラズマが発生される放電空間のマイク
ロ波の反射波のパワー、放電圧力、放電電位、放電電流
の少なくとも一つを検出し、検出値に生じた変化の大小
に応じて放電停止状態を検知し、放電停止状態が検知さ
れた際に再びプラズマ放電を生成させることを特徴とす
るマイクロ波プラズマ処理方法。 - 【請求項3】 真空容器内に原料ガスおよびマイクロ波
を導入して基体に所定の処理を施すマイクロ波プラズマ
処理装置であって、 前記真空容器内の放電電位および放電電流を検出する放
電電位・電流検出手段と、 前記真空容器内の放電圧力を測る圧力測定手段と、 前記真空容器内のマイクロ波の反射波のパワーを測るパ
ワー測定手段と、 前記各手段による放電電位・電流、放電圧力、マイクロ
波の反射波のパワーの検出値に生じた変化の大小を比較
する比較手段と、 前記検出値を監視し、前記比較手段による比較結果から
放電が停止したか否かを判断し、放電が停止したと判断
した場合に放電復帰動作を行うことによって再びプラズ
マ放電を生起させる制御装置とが備えられたことを特徴
とするマイクロ波プラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05188387A JP3137810B2 (ja) | 1993-07-29 | 1993-07-29 | マイクロ波プラズマ放電停止検知方法、マイクロ波プラズマ処理方法及びマイクロ波プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05188387A JP3137810B2 (ja) | 1993-07-29 | 1993-07-29 | マイクロ波プラズマ放電停止検知方法、マイクロ波プラズマ処理方法及びマイクロ波プラズマ処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0741954A JPH0741954A (ja) | 1995-02-10 |
JP3137810B2 true JP3137810B2 (ja) | 2001-02-26 |
Family
ID=16222742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP05188387A Expired - Fee Related JP3137810B2 (ja) | 1993-07-29 | 1993-07-29 | マイクロ波プラズマ放電停止検知方法、マイクロ波プラズマ処理方法及びマイクロ波プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3137810B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3630982B2 (ja) * | 1997-05-22 | 2005-03-23 | キヤノン株式会社 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
JP4699235B2 (ja) * | 2006-02-20 | 2011-06-08 | 株式会社サイアン | プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置 |
DE102013014147B4 (de) * | 2013-08-23 | 2017-02-16 | Centrotherm Photovoltaics Ag | Verfahren und vorrichtung zum detektieren einer plasmazündung |
GB201514998D0 (en) * | 2015-08-24 | 2015-10-07 | Element Six Technologies Ltd | Microwave generators and manufacure of synthetic diamond material |
-
1993
- 1993-07-29 JP JP05188387A patent/JP3137810B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPH0741954A (ja) | 1995-02-10 |
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