JPH0516167B2 - - Google Patents
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- JPH0516167B2 JPH0516167B2 JP59078434A JP7843484A JPH0516167B2 JP H0516167 B2 JPH0516167 B2 JP H0516167B2 JP 59078434 A JP59078434 A JP 59078434A JP 7843484 A JP7843484 A JP 7843484A JP H0516167 B2 JPH0516167 B2 JP H0516167B2
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- axis
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- slide shaft
- air supply
- supply holes
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- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 claims description 11
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 6
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、超精密加工或は測定を行なうための
移動台の改良に係り、外的な振動動や熱的な影響
をなくし、より精度を向上した２軸方向非接触駆
動形精密移動台に関する。
移動台の改良に係り、外的な振動動や熱的な影響
をなくし、より精度を向上した２軸方向非接触駆
動形精密移動台に関する。
例えば、半導体用露光装置、超精密加工用工作
機械或は精密測定器などは、それぞれの精度に応
じた超精密な試料（ワーク）移動台が使用され
る。
機械或は精密測定器などは、それぞれの精度に応
じた超精密な試料（ワーク）移動台が使用され
る。
その内最も使用されている移動台車を第１図に
示し説明する。
示し説明する。
図において、この移動台送りネジ１とモータ２
を用いたものである。即ち、モータ２の回転が、
送りネジ１に螺合しているナツト３により直進運
動に変換され、スライド軸６に嵌合したスライダ
４を高精度に移動するようにしたものである。
を用いたものである。即ち、モータ２の回転が、
送りネジ１に螺合しているナツト３により直進運
動に変換され、スライド軸６に嵌合したスライダ
４を高精度に移動するようにしたものである。
然しながら、現在においては、半導体露光装置
におけるウエハ移動台とか、超精密研削盤や旋盤
などの加工物又は工具の移動台とか、真直度測定
器をはじめとする精密測定器の移動台等において
は、0.05μｍ以下の精度が要求され、駆動系から
の熱や振動或は被駆動物の移動誤差が大きく影響
し、0.05μｍ以下の精度を出すには、送りネジ方
式ではとうてい達成し得ないのが実情である。
におけるウエハ移動台とか、超精密研削盤や旋盤
などの加工物又は工具の移動台とか、真直度測定
器をはじめとする精密測定器の移動台等において
は、0.05μｍ以下の精度が要求され、駆動系から
の熱や振動或は被駆動物の移動誤差が大きく影響
し、0.05μｍ以下の精度を出すには、送りネジ方
式ではとうてい達成し得ないのが実情である。
第１図に示した送りネジ方式について更に詳し
く説明すると、ナツト３がスライダ４に一体的に
取付けられているため、モータ２の振動や熱がス
ライダ４に伝わり、スライダ４を振動させたり熱
変形をさせることになる。又送りネジ１を軸支し
ている軸受５のガタや、スライダ４の移動方向と
送りネジ１との間の平行度の誤差により、スライ
ダ４がスライド軸６に倣つて移動する際、常に外
的な変動を受け、高精度の移動が不可能である。
く説明すると、ナツト３がスライダ４に一体的に
取付けられているため、モータ２の振動や熱がス
ライダ４に伝わり、スライダ４を振動させたり熱
変形をさせることになる。又送りネジ１を軸支し
ている軸受５のガタや、スライダ４の移動方向と
送りネジ１との間の平行度の誤差により、スライ
ダ４がスライド軸６に倣つて移動する際、常に外
的な変動を受け、高精度の移動が不可能である。
又送りネジ方式は、構成する機械要素及び接続
用加工部品が多いため、駆動系としての剛性が低
下し、又精密送りのための防塵対策などが不可欠
であり保守の面でも問題がある。
用加工部品が多いため、駆動系としての剛性が低
下し、又精密送りのための防塵対策などが不可欠
であり保守の面でも問題がある。
本発明の目的は、上記事情に鑑みて、駆動部お
よび外部からの振動や熱に影響されることなく、
移動テーブル部材の走行をスムーズにして超高精
度の２軸方向の移動を可能にした２軸方向非接触
駆動形精密移動台を提供することにある。
よび外部からの振動や熱に影響されることなく、
移動テーブル部材の走行をスムーズにして超高精
度の２軸方向の移動を可能にした２軸方向非接触
駆動形精密移動台を提供することにある。
本発明は、上記目的を達成するために、四角筒
状で少なくとも長手の溝を形成したＹ軸用スライ
ド軸を２つ所定の間隔を形成して平行にその両端
を基台上に設置し、四角筒状で、上下および左右
の４つの内面に給気孔または給気孔を形成して静
圧軸受を形成し、両側に給気孔または給気孔を形
成したスライドパツドを前記スライド軸の長手の
溝内に突出させた２つのＹ軸用移動テーブル部材
の各々を前記Ｙ軸用スライド軸の各々に摺動自在
に嵌合させ、前記各Ｙ軸用スライド軸内に緩衝材
で支持された各ハウジングに設けられた各Ｙ軸用
リニアコイルと該各ハウジングに設けられた直進
軸受によつて前記各Ｙ軸用スライド軸の軸方向に
直進可能に支持された各Ｙ軸用リニア部材上に前
記各Ｙ軸用リニアコイルに対向させて設置された
各Ｙ軸用マグネツトとで前記各Ｙ軸用スライド軸
内に各Ｙ軸用リニアモータを形成し、前記各Ｙ軸
用移動テーブル部材に突出したスライドパツドの
両側に対向させて挾み付ける対向プレートを前記
各Ｙ軸用リニアモータのＹ軸用リニア部材上に植
設して前記スライドパツドと対向プレートにより
静圧軸受による各Ｙ軸用非接触継手を形成し、前
記各Ｙ軸用スライド軸内に設けられた前記各Ｙ軸
用リニアモータにより前記各Ｙ軸用ニリア部材及
びＹ軸用非接触継手を介して前記各Ｙ軸用移動テ
ーブル部材を前記各Ｙ軸用スライド軸に静圧軸受
で案内して前記各Ｙ軸用スライド軸の軸方向に移
動させるように構成した２つのＹ軸用非接触駆動
形精密移動機構を設け、更に四角筒状で少なくと
も長手の溝を形成したＸ軸用スライド軸をその両
端を、前記各Ｙ軸用非接触駆動形精密移動機構の
Ｙ軸用移動テーブル部材上に、該Ｙ軸用移動テー
ブル部材を跨がせて設置し、四角筒状で、上下お
よび左右の４つの内面に給気孔または給気孔を形
成して静圧軸受を形成し、両側に給気孔または給
気孔を形成したスライドパツドを前記Ｘ軸用スラ
イド軸の長手の溝内に突出させたＸ軸用移動テー
ブル部材を前記Ｘ軸用スライド軸に摺動自在に嵌
合させ、前記Ｘ軸用スライド軸内に緩衝材で支持
されたハウジングに設けられたＸ軸用リニアコイ
ルと該ハウジングに設けられた直進軸受によつて
前記Ｘ軸用スライド軸の軸方向に直進可能に支持
されたＸ軸用リニア部材上に前記Ｘ軸用リニアコ
イルに対向させて設置されたＸ軸用マグネツトと
で前記Ｘ軸用スライド軸内にＸ軸用リニアモータ
を形成し、前記Ｘ軸用移動テーブル部材に突出し
たスライドパツドの両側に対向させて挾み付ける
対向プレートを前記Ｘ軸用リニアモータのＸ軸用
リニア部材上に植設して前記スライドパツドと対
向プレートにより静圧軸受によるＸ軸用非接触継
手を形成し、前記Ｘ軸用スライド軸内に設けられ
た前記Ｘ軸用リニアモータにより前記Ｘ軸用リニ
ア部材及びＸ軸用非接触継手を介して前記Ｘ軸用
移動テーブル部材を前記Ｘ軸用スライド軸に静圧
軸受で案内して前記Ｘ軸用スライド軸の軸方向に
移動させるように構成したＸ軸用非接触駆動形精
密移動機構を設けたことを特徴とする２軸方向非
接触駆動形精密移動台である。また、本発明は、
前記２軸方向非接触駆動形精密移動台において、
前記Ｘ軸用およびＹ軸用スライド軸、並びに前記
Ｘ軸用およびＹ軸用移動テーブル部材をセラミツ
ク材で形成したことを特徴とする。
状で少なくとも長手の溝を形成したＹ軸用スライ
ド軸を２つ所定の間隔を形成して平行にその両端
を基台上に設置し、四角筒状で、上下および左右
の４つの内面に給気孔または給気孔を形成して静
圧軸受を形成し、両側に給気孔または給気孔を形
成したスライドパツドを前記スライド軸の長手の
溝内に突出させた２つのＹ軸用移動テーブル部材
の各々を前記Ｙ軸用スライド軸の各々に摺動自在
に嵌合させ、前記各Ｙ軸用スライド軸内に緩衝材
で支持された各ハウジングに設けられた各Ｙ軸用
リニアコイルと該各ハウジングに設けられた直進
軸受によつて前記各Ｙ軸用スライド軸の軸方向に
直進可能に支持された各Ｙ軸用リニア部材上に前
記各Ｙ軸用リニアコイルに対向させて設置された
各Ｙ軸用マグネツトとで前記各Ｙ軸用スライド軸
内に各Ｙ軸用リニアモータを形成し、前記各Ｙ軸
用移動テーブル部材に突出したスライドパツドの
両側に対向させて挾み付ける対向プレートを前記
各Ｙ軸用リニアモータのＹ軸用リニア部材上に植
設して前記スライドパツドと対向プレートにより
静圧軸受による各Ｙ軸用非接触継手を形成し、前
記各Ｙ軸用スライド軸内に設けられた前記各Ｙ軸
用リニアモータにより前記各Ｙ軸用ニリア部材及
びＹ軸用非接触継手を介して前記各Ｙ軸用移動テ
ーブル部材を前記各Ｙ軸用スライド軸に静圧軸受
で案内して前記各Ｙ軸用スライド軸の軸方向に移
動させるように構成した２つのＹ軸用非接触駆動
形精密移動機構を設け、更に四角筒状で少なくと
も長手の溝を形成したＸ軸用スライド軸をその両
端を、前記各Ｙ軸用非接触駆動形精密移動機構の
Ｙ軸用移動テーブル部材上に、該Ｙ軸用移動テー
ブル部材を跨がせて設置し、四角筒状で、上下お
よび左右の４つの内面に給気孔または給気孔を形
成して静圧軸受を形成し、両側に給気孔または給
気孔を形成したスライドパツドを前記Ｘ軸用スラ
イド軸の長手の溝内に突出させたＸ軸用移動テー
ブル部材を前記Ｘ軸用スライド軸に摺動自在に嵌
合させ、前記Ｘ軸用スライド軸内に緩衝材で支持
されたハウジングに設けられたＸ軸用リニアコイ
ルと該ハウジングに設けられた直進軸受によつて
前記Ｘ軸用スライド軸の軸方向に直進可能に支持
されたＸ軸用リニア部材上に前記Ｘ軸用リニアコ
イルに対向させて設置されたＸ軸用マグネツトと
で前記Ｘ軸用スライド軸内にＸ軸用リニアモータ
を形成し、前記Ｘ軸用移動テーブル部材に突出し
たスライドパツドの両側に対向させて挾み付ける
対向プレートを前記Ｘ軸用リニアモータのＸ軸用
リニア部材上に植設して前記スライドパツドと対
向プレートにより静圧軸受によるＸ軸用非接触継
手を形成し、前記Ｘ軸用スライド軸内に設けられ
た前記Ｘ軸用リニアモータにより前記Ｘ軸用リニ
ア部材及びＸ軸用非接触継手を介して前記Ｘ軸用
移動テーブル部材を前記Ｘ軸用スライド軸に静圧
軸受で案内して前記Ｘ軸用スライド軸の軸方向に
移動させるように構成したＸ軸用非接触駆動形精
密移動機構を設けたことを特徴とする２軸方向非
接触駆動形精密移動台である。また、本発明は、
前記２軸方向非接触駆動形精密移動台において、
前記Ｘ軸用およびＹ軸用スライド軸、並びに前記
Ｘ軸用およびＹ軸用移動テーブル部材をセラミツ
ク材で形成したことを特徴とする。
以下本発明の一実施例について詳細に説明す
る。第２図及び第３図において、移動テーブル１
４の内面には、多数の給気孔又は給気溝１３′を
有する静圧軸受パツド１３が形成されている。１
２は中空の四角柱から成るスライド軸であり、静
止軸受パツド１３内に一定間隙ｇをもつて挿通さ
れている。１９はスライドパツドであり、静圧軸
受パツド１３に結合あるいは一体的に形成されて
いる。このスライドパツド１９にも給気孔又は給
気溝１９′が設けられている。２１は、スライド
パツド１９を逃げるために設けられた逃げ溝であ
り、この逃げ溝によつて、スライド軸１２にそつ
て移動テーブル１４が移動可能となつている。
る。第２図及び第３図において、移動テーブル１
４の内面には、多数の給気孔又は給気溝１３′を
有する静圧軸受パツド１３が形成されている。１
２は中空の四角柱から成るスライド軸であり、静
止軸受パツド１３内に一定間隙ｇをもつて挿通さ
れている。１９はスライドパツドであり、静圧軸
受パツド１３に結合あるいは一体的に形成されて
いる。このスライドパツド１９にも給気孔又は給
気溝１９′が設けられている。２１は、スライド
パツド１９を逃げるために設けられた逃げ溝であ
り、この逃げ溝によつて、スライド軸１２にそつ
て移動テーブル１４が移動可能となつている。
１６は、ケーシング２２に固定されたリニアコ
イル、１７は、直進軸受２４を介してハウジング
２３に懸架されたニリア部材上に取付けられたマ
グネツトである。このリニアコイル１６とマグネ
ツト１７によりスライド軸１２の中空部にリニア
モータ１５を形成する。１８は、一定間隙ｈをも
つてスライドパツド１９を挾むようにマグネツト
１７を取り付けたリニア部材に立設された対向プ
レート１８であり、マグネツト１７の駆動力が、
これによつてスライドパツド１９に伝えられる。
即ち、スライドパツド１９と対向プレート１８に
よつて、非接触京継手２０を形成する。２５は緩
衝材であり、マグネツト１７の移動方向に剛性が
高く且つ移動方向に直角な方向に剛性が低い構成
になつている。なお１１は、スライド軸１２を支
持するためのベースブロツクである。
イル、１７は、直進軸受２４を介してハウジング
２３に懸架されたニリア部材上に取付けられたマ
グネツトである。このリニアコイル１６とマグネ
ツト１７によりスライド軸１２の中空部にリニア
モータ１５を形成する。１８は、一定間隙ｈをも
つてスライドパツド１９を挾むようにマグネツト
１７を取り付けたリニア部材に立設された対向プ
レート１８であり、マグネツト１７の駆動力が、
これによつてスライドパツド１９に伝えられる。
即ち、スライドパツド１９と対向プレート１８に
よつて、非接触京継手２０を形成する。２５は緩
衝材であり、マグネツト１７の移動方向に剛性が
高く且つ移動方向に直角な方向に剛性が低い構成
になつている。なお１１は、スライド軸１２を支
持するためのベースブロツクである。
以上のように構成した本実施例の作用について
以下説明する。矢印イより例えば空気を圧送する
ことによつて、移動テーブル１４は、スライド軸
１２に対し間隙ｇをもつて非接触の状態で保持さ
れる。同様にスライドパツド１９と対向プレート
１８との間に間隙ｈを保つた状態で非接触継手２
０が形成される。この場合、給気孔又は給気溝１
３′又は１９′（空気絞り方式）には、自成絞り方
式、オリフイス絞り方式及び面絞り方式がある
が、この場合静圧軸受パツド１３及びスライドパ
ツド１９の剛性を高く保ち、負荷容量が且つ空気
消費量の少ない面絞り方式を用いるのが得策であ
る。
以下説明する。矢印イより例えば空気を圧送する
ことによつて、移動テーブル１４は、スライド軸
１２に対し間隙ｇをもつて非接触の状態で保持さ
れる。同様にスライドパツド１９と対向プレート
１８との間に間隙ｈを保つた状態で非接触継手２
０が形成される。この場合、給気孔又は給気溝１
３′又は１９′（空気絞り方式）には、自成絞り方
式、オリフイス絞り方式及び面絞り方式がある
が、この場合静圧軸受パツド１３及びスライドパ
ツド１９の剛性を高く保ち、負荷容量が且つ空気
消費量の少ない面絞り方式を用いるのが得策であ
る。
次に移動テーブル１４は、次のようにして行な
われる。リニアコイル１６に電流を流すことによ
り、マグネツト１７は、直進移動する。この場
合、リニアコイル１６とマグネツト１７との間に
は、常時数10Kgの吸引力が働く。この吸引力は、
直進軸受２４によつて支持されると共に、マグネ
ツト１７の脈動変位が拘束され、高精度の直進移
動となる。マグネツト１７の移動（駆動力）は、
上記非接触継手２０により移動テーブル１４に伝
えられ、移動テーブル１４は、スライド軸１２に
沿つて間隙ｇを保つた状態で静かに移動する。
われる。リニアコイル１６に電流を流すことによ
り、マグネツト１７は、直進移動する。この場
合、リニアコイル１６とマグネツト１７との間に
は、常時数10Kgの吸引力が働く。この吸引力は、
直進軸受２４によつて支持されると共に、マグネ
ツト１７の脈動変位が拘束され、高精度の直進移
動となる。マグネツト１７の移動（駆動力）は、
上記非接触継手２０により移動テーブル１４に伝
えられ、移動テーブル１４は、スライド軸１２に
沿つて間隙ｇを保つた状態で静かに移動する。
上記非接触継手２０による移動テーブル１４へ
の動力の伝達は、間隙ｈによつてマグネツト１７
の振動が吸収されると共に間隙ｈは一種の断熱作
用をし、熱の伝導が緩和される。又一定の間隙ｇ
を保つてスライド軸１２上をスライドする移動テ
ーブル１４の場合も同様に、間隙ｇによつて振動
の発生がなく且つ熱の伝導もなく、それ以外にス
テイツクスリツプのないなめらかな走行が得られ
る。
の動力の伝達は、間隙ｈによつてマグネツト１７
の振動が吸収されると共に間隙ｈは一種の断熱作
用をし、熱の伝導が緩和される。又一定の間隙ｇ
を保つてスライド軸１２上をスライドする移動テ
ーブル１４の場合も同様に、間隙ｇによつて振動
の発生がなく且つ熱の伝導もなく、それ以外にス
テイツクスリツプのないなめらかな走行が得られ
る。
又移動テーブル１４とスライド軸１２に、セラ
ミツクス材料を用いた場合、次の利点がある。
ミツクス材料を用いた場合、次の利点がある。
例えばアルミナセラミツクス材料は、他の金属
に比べて比重が3.5以下と軽量であり、熱膨脹率
も低く、且つ硬度も高い。
に比べて比重が3.5以下と軽量であり、熱膨脹率
も低く、且つ硬度も高い。
又脆性材であるので、研削、ラツプにより軸受
面の加工精度が出し易いという長所を有する。
面の加工精度が出し易いという長所を有する。
従つて、移動テーブル１４及びスライド軸１２
をアルミナセラミツクスで作つた場合は、間隙ｇ
をより小さく高精度に加工することができ、且つ
軽量で高剛性にして、高精度の走行性が可能であ
る。
をアルミナセラミツクスで作つた場合は、間隙ｇ
をより小さく高精度に加工することができ、且つ
軽量で高剛性にして、高精度の走行性が可能であ
る。
第４図はＸ−Ｙステージに適用したものであ
り、３３は、Ｙ移動テーブル、３４はそのスライ
ド軸、３１はＸ移動テーブル、３２はそのガイド
軸である。又３７はリニアモータ、３８は非接触
継手である。なお、３０はＸ−Ｙステージ、３５
はベース、３６は試料台である。
り、３３は、Ｙ移動テーブル、３４はそのスライ
ド軸、３１はＸ移動テーブル、３２はそのガイド
軸である。又３７はリニアモータ、３８は非接触
継手である。なお、３０はＸ−Ｙステージ、３５
はベース、３６は試料台である。
第５図は、三次元測定機４０に適用したもので
ある。図において、３１はＸ移動テーブル、３２
はそのスライド軸である。３３はＹ移動テーブ
ル、３４はそのスライド軸である。４３はＺ移動
テーブル４２はそのスライド軸である。なお図中
３７はリニアモータ、４１は試料である。
ある。図において、３１はＸ移動テーブル、３２
はそのスライド軸である。３３はＹ移動テーブ
ル、３４はそのスライド軸である。４３はＺ移動
テーブル４２はそのスライド軸である。なお図中
３７はリニアモータ、４１は試料である。
以上詳述した通り本発明によれば、スライド軸
内にリニアモータを設置し、移動テーブル部材を
上下方向および左右方向の全てを静圧軸受で前記
スライド軸に摺動自在に案内させ、前記リニアモ
ータの動力を静圧軸受で形成された非接触継手を
介して移動テーブル部材に伝達するように構成し
たので、駆動源及び外部からの振動が断絶される
と共に、熱の伝達も緩和され、しかも移動テーブ
ル部材が上下、左右全てについて静圧軸受で案内
されて移動テーブル部材の走行がかじることなく
スムーズに行え、更にスライド軸および移動テー
ブル部材をセラミツク材で形成可能にし、高精度
の２軸方向移動テーブル機構を得ることができ、
例えば、半導体の生産や超精密加工用機械の生産
或いは超精密測定の実現等が可能になり、産業発
展に多大の効果を奏する。
内にリニアモータを設置し、移動テーブル部材を
上下方向および左右方向の全てを静圧軸受で前記
スライド軸に摺動自在に案内させ、前記リニアモ
ータの動力を静圧軸受で形成された非接触継手を
介して移動テーブル部材に伝達するように構成し
たので、駆動源及び外部からの振動が断絶される
と共に、熱の伝達も緩和され、しかも移動テーブ
ル部材が上下、左右全てについて静圧軸受で案内
されて移動テーブル部材の走行がかじることなく
スムーズに行え、更にスライド軸および移動テー
ブル部材をセラミツク材で形成可能にし、高精度
の２軸方向移動テーブル機構を得ることができ、
例えば、半導体の生産や超精密加工用機械の生産
或いは超精密測定の実現等が可能になり、産業発
展に多大の効果を奏する。
第１図は、従来の代表的な移動台である送りネ
ジ方式の移動台の斜視である。第２図乃至第５図
は本発明の一実施例であり、第２図は移動台の縦
断面図、第３図は、第２図のＡ−Ａ線で断面した
横断面図である。第４図は、本実施例をＸ−Ｙス
テージに適用した場合の斜視図、第５図は三次元
ステージに適用した場合の斜視図である。 １２……スライド軸、１３……静圧軸受パツ
ド、１４……移動テーブル、１５……リニアモー
タ、１６……リニアコイル、１７……マグネツ
ト、１８……対向プレート、１９……スライドパ
ツド、２０……非接触継手、２１……逃げ溝、２
２……ケーシング、２３……ハウジング、２４…
…直進軸受、２５……緩衝材。
ジ方式の移動台の斜視である。第２図乃至第５図
は本発明の一実施例であり、第２図は移動台の縦
断面図、第３図は、第２図のＡ−Ａ線で断面した
横断面図である。第４図は、本実施例をＸ−Ｙス
テージに適用した場合の斜視図、第５図は三次元
ステージに適用した場合の斜視図である。 １２……スライド軸、１３……静圧軸受パツ
ド、１４……移動テーブル、１５……リニアモー
タ、１６……リニアコイル、１７……マグネツ
ト、１８……対向プレート、１９……スライドパ
ツド、２０……非接触継手、２１……逃げ溝、２
２……ケーシング、２３……ハウジング、２４…
…直進軸受、２５……緩衝材。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 四角筒状で少なくとも長手の溝を形成したＹ
軸用スライド軸を２つ所定の間隔を形成して平行
にその両端を基台上に設置し、四角筒状で、上下
および左右の４つの内面に給気孔または給気孔を
形成して静圧軸受を形成し、両側に給気孔または
給気孔を形成したスライドパツドを前記スライド
軸の長手の溝内に突出させた２つのＹ軸用移動テ
ーブル部材の各々を前記Ｙ軸用スライド軸の各々
に摺動自在に嵌合させ、前記各Ｙ軸用スライド軸
内に緩衝材で支持された各ハウジングに設けられ
た各Ｙ軸用リニアコイルと該各ハウジングに設け
られた直進軸受によつて前記各Ｙ軸用スライド軸
の軸方向に直進可能に支持された各Ｙ軸用リニア
部材上に前記各Ｙ軸用リニアコイルに対向させて
設置された各Ｙ軸用マグネツトとで前記各Ｙ軸用
スライド軸内に各Ｙ軸用リニアモータを形成し、
前記各Ｙ軸用移動テーブル部材に突出したスライ
ドパツドの両側に対向させて挾み付ける対向プレ
ートを前記各Ｙ軸用リニアモータのＹ軸用リニア
部材上に植設して前記スライドパツドと対向プレ
ートにより静圧軸受による各Ｙ軸用非接触継手を
形成し、前記各Ｙ軸用スライド軸内に設けられた
前記各Ｙ軸用リニアモータにより前記各Ｙ軸用リ
ニア部材及びＹ軸用非接触継手を介して前記各Ｙ
軸用移動テーブル部材を前記各Ｙ軸用スライド軸
に静圧軸受で案内して前記各Ｙ軸用スライド軸の
軸方向に移動させるように構成した２つのＹ軸用
非接触駆動形精密移動機構を設け、更に四角筒状
で少なくとも長手の溝を形成したＸ軸用スライド
軸をその両端を、前記各Ｙ軸用非接触駆動形精密
移動機構のＹ軸用移動テーブル部材上に、該Ｙ軸
用移動テーブル部材を跨がせて設置し、四角筒状
で、上下および左右の４つの内面に給気孔または
給気孔を形成して静圧軸受を形成し、両側に給気
孔または給気孔を形成したスライドパツドを前記
Ｘ軸用スライド軸の長手の溝内に突出させたＸ軸
用移動テーブル部材を前記Ｘ軸用スライド軸に摺
動自在に嵌合させ、前記Ｘ軸用スライド軸内に緩
衝材で支持されたハウジングに設けられたＸ軸用
リニアコイルと該ハウジングに設けられた直進軸
受によつて前記Ｘ軸用スライド軸の軸方向に直進
可能に支持されたＸ軸用リニア部材上に前記Ｘ軸
用リニアコイルに対向させて設置されたＸ軸用マ
グネツトとで前記Ｘ軸用スライド軸内にＸ軸用リ
ニアモータを形成し、前記Ｘ軸用移動テーブル部
材に突出したスライドパツドの両側に対向させて
挾み付ける対向プレートを前記Ｘ軸用リニアモー
タのＸ軸用リニア部材上に植設して前記スライド
パツドと対向プレートにより静圧軸受によるＸ軸
用非接触継手を形成し、前記Ｘ軸用スライド軸内
に設けられた前記Ｘ軸用リニアモータにより前記
Ｘ軸用リニア部材及びＸ軸用非接触継手を介して
前記Ｘ軸用移動テーブル部材を前記Ｘ軸用スライ
ド軸に静圧軸受で案内して前記Ｘ軸用スライド軸
の軸方向に移動させるように構成したＸ軸用非接
触駆動形精密移動機構を設けたことを特徴とする
２軸方向非接触駆動形精密移動台。 ２ 前記Ｘ軸およびＹ軸用スライド軸、並びに前
記Ｘ軸およびＹ軸用移動テーブル部材をセラミツ
ク材で形成したことを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の２軸方向非接触駆動形精密移動台。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59078434A JPS60223119A (ja) | 1984-04-20 | 1984-04-20 | ２軸方向非接触駆動形精密移動台 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59078434A JPS60223119A (ja) | 1984-04-20 | 1984-04-20 | ２軸方向非接触駆動形精密移動台 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60223119A JPS60223119A (ja) | 1985-11-07 |
| JPH0516167B2 true JPH0516167B2 (ja) | 1993-03-03 |
Family
ID=13661933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59078434A Granted JPS60223119A (ja) | 1984-04-20 | 1984-04-20 | ２軸方向非接触駆動形精密移動台 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60223119A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61278913A (ja) * | 1985-06-04 | 1986-12-09 | Ntn Toyo Bearing Co Ltd | 磁気浮上式位置決め装置 |
| JPS63283835A (ja) * | 1987-05-13 | 1988-11-21 | Yaskawa Electric Mfg Co Ltd | リニア移動装置 |
| JP4586088B2 (ja) | 2008-08-19 | 2010-11-24 | ファナック株式会社 | 往復直線駆動装置 |
| CN102887341A (zh) * | 2011-07-22 | 2013-01-23 | 大银微系统股份有限公司 | 悬臂式平台的横梁预拉模组 |
| CN104370061B (zh) * | 2014-11-12 | 2017-04-05 | 深圳博美柯自动化设备有限公司 | 一种齿型带传动的平面循环装置 |
| CN106670955B (zh) * | 2016-12-21 | 2018-11-09 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 一种无旋转终结点的化学机械研磨装置 |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS56114012A (en) * | 1980-02-13 | 1981-09-08 | Telmec Co Ltd | Precise positioning device |
| JPS57206926A (en) * | 1981-06-16 | 1982-12-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Positioning method for stage |
| JPS607725A (ja) * | 1983-06-10 | 1985-01-16 | エスヴィージー・リトグラフィー・システムズ・インコーポレイテッド | 電磁アラインメント装置 |
| JPS607727A (ja) * | 1983-06-10 | 1985-01-16 | エスヴィージー・リトグラフィー・システムズ・インコーポレイテッド | 電磁アラインメント装置 |
| JPS607724A (ja) * | 1983-06-10 | 1985-01-16 | エスヴィージー・リトグラフィー・システムズ・インコーポレイテッド | 電磁アラインメント装置 |
| JPS607726A (ja) * | 1983-06-10 | 1985-01-16 | エスヴィージー・リトグラフィー・システムズ・インコーポレイテッド | 電磁アラインメント装置 |
| JPS609726A (ja) * | 1983-06-29 | 1985-01-18 | Masahiko Kamimori | 可撓性管状体の製造法及びその装置 |
| JPS609727A (ja) * | 1983-06-29 | 1985-01-18 | Japan Steel Works Ltd:The | 改良型二軸混練押出機 |
-
1984
- 1984-04-20 JP JP59078434A patent/JPS60223119A/ja active Granted
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5617341A (en) * | 1979-07-23 | 1981-02-19 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Alignment stage for step and repeat exposure |
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| JPS607725A (ja) * | 1983-06-10 | 1985-01-16 | エスヴィージー・リトグラフィー・システムズ・インコーポレイテッド | 電磁アラインメント装置 |
| JPS607727A (ja) * | 1983-06-10 | 1985-01-16 | エスヴィージー・リトグラフィー・システムズ・インコーポレイテッド | 電磁アラインメント装置 |
| JPS607724A (ja) * | 1983-06-10 | 1985-01-16 | エスヴィージー・リトグラフィー・システムズ・インコーポレイテッド | 電磁アラインメント装置 |
| JPS607726A (ja) * | 1983-06-10 | 1985-01-16 | エスヴィージー・リトグラフィー・システムズ・インコーポレイテッド | 電磁アラインメント装置 |
| JPS609726A (ja) * | 1983-06-29 | 1985-01-18 | Masahiko Kamimori | 可撓性管状体の製造法及びその装置 |
| JPS609727A (ja) * | 1983-06-29 | 1985-01-18 | Japan Steel Works Ltd:The | 改良型二軸混練押出機 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60223119A (ja) | 1985-11-07 |
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