JPS607725A - 電磁アラインメント装置 - Google Patents
電磁アラインメント装置Info
- Publication number
- JPS607725A JPS607725A JP59118399A JP11839984A JPS607725A JP S607725 A JPS607725 A JP S607725A JP 59118399 A JP59118399 A JP 59118399A JP 11839984 A JP11839984 A JP 11839984A JP S607725 A JPS607725 A JP S607725A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coil
- magnets
- magnet
- positioning device
- coil assemblies
- Prior art date
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- Granted
Links
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- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 21
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 21
- 230000000712 assembly Effects 0.000 claims description 19
- 238000000429 assembly Methods 0.000 claims description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 3
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 6
- 241000257465 Echinoidea Species 0.000 description 3
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、位置合わせ装置、例えば電磁位置合わせ装置
に関する。この装置は、多くの使用可能性の中で、特に
、マイクロ・リソグラフィー装置においてウェハの位置
合わせをするのに適している。
に関する。この装置は、多くの使用可能性の中で、特に
、マイクロ・リソグラフィー装置においてウェハの位置
合わせをするのに適している。
従来技術
るる物体を平面上における3つの自由度で運動させるに
は、直線訃よび/または回転運動をする6つのモータが
必要である。これらのモータは、それぞれ単一の軸合駆
動し、各軸は相互に重なった位置にある。
は、直線訃よび/または回転運動をする6つのモータが
必要である。これらのモータは、それぞれ単一の軸合駆
動し、各軸は相互に重なった位置にある。
発明の解決しようとする問題点
上述の装置は妥当な成果を収めている。これに対して本
発明は、この公知装置を改良して、新しい形式の可動装
置を提供することを目的としている。
発明は、この公知装置を改良して、新しい形式の可動装
置を提供することを目的としている。
問題全解決するため、の手段
本発明によればこの目的は、次のような特徴全有する電
磁位置合わせ装置によって達成される。ずなわち、この
電磁位置合わせ装置においては、少くとも3つの磁石が
設けられ、これらの磁石が、相互に間隔を置いてかつ実
質的に同一平面上に固定され、また同数のコイル・アセ
ンブリが設けられ、該コイル・アセンブリが前記磁石の
磁界と交差するように配置され、また該コイル・アセン
ブリを流れる電流を制御する装置が設けられ、また前記
コイル・アセンブリを結合して前記磁石に対して可動な
構造体を形成する部材が設けられ、さらに該構造体上で
物体を担持する部材が設げられている。さらに、前記コ
イルへ供給される電流を制御することによって前記構造
体が6つの自由度で運動できるように、前記コイル・ア
センブリが巻かれている。さらに、特許請求の範囲第6
項記載の発明によれば、4つのコイルが設す゛られ、そ
のコイルのうちの2つが相互に平行になるように巻かれ
る。第6のコイルおよび第4のコイルは、第1および第
2のコイル・アセンブリの巻回方向に直交するように巻
かれている。また本発明の実施例では、磁石は基板の上
に固定される。そして、コイル・アセンブリを相互に結
合する部材は、上部結合板と下部結合板とを有し、2つ
の結合板の間にコイルが配置される。また下部結合板を
基板上で支承する支承部材が設(・すられる。本発明の
さらに別の実施例では、各磁石は正三角形を構成するよ
うに配置される。4つの磁石を用いる例では、各磁石は
正方形に配置される。
磁位置合わせ装置によって達成される。ずなわち、この
電磁位置合わせ装置においては、少くとも3つの磁石が
設けられ、これらの磁石が、相互に間隔を置いてかつ実
質的に同一平面上に固定され、また同数のコイル・アセ
ンブリが設けられ、該コイル・アセンブリが前記磁石の
磁界と交差するように配置され、また該コイル・アセン
ブリを流れる電流を制御する装置が設けられ、また前記
コイル・アセンブリを結合して前記磁石に対して可動な
構造体を形成する部材が設けられ、さらに該構造体上で
物体を担持する部材が設げられている。さらに、前記コ
イルへ供給される電流を制御することによって前記構造
体が6つの自由度で運動できるように、前記コイル・ア
センブリが巻かれている。さらに、特許請求の範囲第6
項記載の発明によれば、4つのコイルが設す゛られ、そ
のコイルのうちの2つが相互に平行になるように巻かれ
る。第6のコイルおよび第4のコイルは、第1および第
2のコイル・アセンブリの巻回方向に直交するように巻
かれている。また本発明の実施例では、磁石は基板の上
に固定される。そして、コイル・アセンブリを相互に結
合する部材は、上部結合板と下部結合板とを有し、2つ
の結合板の間にコイルが配置される。また下部結合板を
基板上で支承する支承部材が設(・すられる。本発明の
さらに別の実施例では、各磁石は正三角形を構成するよ
うに配置される。4つの磁石を用いる例では、各磁石は
正方形に配置される。
実施例
次に図面を参照しながら実施例について本発明の詳細な
説明する。
説明する。
第1図は、本発明による電磁位置合わせ装置の実施例を
示す斜視図である。基板10の上には、第1の磁石12
、第2の磁石14、および第3のa石16が固定されて
いる。これらの磁石は相互に間隔を置いて配置され、実
質的に同一平面上にある。オた各磁石の磁界は、第1図
、第6図のZ方向に延びている。6つのコイルアセンブ
リ18,20.22は、それぞれ、この磁界と交差する
ように配置されている。
示す斜視図である。基板10の上には、第1の磁石12
、第2の磁石14、および第3のa石16が固定されて
いる。これらの磁石は相互に間隔を置いて配置され、実
質的に同一平面上にある。オた各磁石の磁界は、第1図
、第6図のZ方向に延びている。6つのコイルアセンブ
リ18,20.22は、それぞれ、この磁界と交差する
ように配置されている。
第1図および第2図から分るように、3つのコイル・ア
センブリ′!f−結合して1つの構造体を形成する部材
が設けられている。第1図に25で示すこの部材は、各
磁石に対して可動となっている。図示の実施例では、結
合部材25は上部結合板24および下部結合板26から
成っている。下部結合板は、適当な支承部材、例えば空
気パッドまたはベアリング28によって支承されている
。
センブリ′!f−結合して1つの構造体を形成する部材
が設けられている。第1図に25で示すこの部材は、各
磁石に対して可動となっている。図示の実施例では、結
合部材25は上部結合板24および下部結合板26から
成っている。下部結合板は、適当な支承部材、例えば空
気パッドまたはベアリング28によって支承されている
。
上部結合板24は、ウエノ・・マウント30を担持して
いる。第1のコイルには第1のリード線32および第2
のリード線34が設げられている。同じように、第2の
コイル20は第1リード線36、第2リード線38を有
し、第6のコイル22は第1リード線40および第2リ
ード線42を有している。各リード線に供給される電流
は、制御装置44によって制御される。
いる。第1のコイルには第1のリード線32および第2
のリード線34が設げられている。同じように、第2の
コイル20は第1リード線36、第2リード線38を有
し、第6のコイル22は第1リード線40および第2リ
ード線42を有している。各リード線に供給される電流
は、制御装置44によって制御される。
この位置合わせ装置は次のように動作する。
まず、第6図す、cに示すように、制御装置44の制御
下で第1のコイル18および第2のコイル20にX方向
の電流が流れるとする。そうすれば、2つのコイルの各
々にY方向のブJ力≦カロわる。第1および第2のコイ
ルで電流が反対方向に流れれば、合成された力も反対方
向にノノロ4りる。また、コイル18と20が相互に逆
極性の電流で励磁されれば、Z軸のまわ9にトルり75
E生じる。同じように、第6のコイル2275E励磁さ
れれば、第6図dに示すようにX方向のカニb≦発生す
る。電流が逆方向に流れitば、力の向きは逆になる。
下で第1のコイル18および第2のコイル20にX方向
の電流が流れるとする。そうすれば、2つのコイルの各
々にY方向のブJ力≦カロわる。第1および第2のコイ
ルで電流が反対方向に流れれば、合成された力も反対方
向にノノロ4りる。また、コイル18と20が相互に逆
極性の電流で励磁されれば、Z軸のまわ9にトルり75
E生じる。同じように、第6のコイル2275E励磁さ
れれば、第6図dに示すようにX方向のカニb≦発生す
る。電流が逆方向に流れitば、力の向きは逆になる。
つま9、供給される電流およびその方向を制御装置44
で制御することによって、結合部材25の運動、従って
ホルり30内のウニ・・の動きを、6つの自由度で正確
にIll II ’1−ることかできる。6つの自由度
とil、X方1ili]とY方向、それにZ軸のまわシ
の回転である。
で制御することによって、結合部材25の運動、従って
ホルり30内のウニ・・の動きを、6つの自由度で正確
にIll II ’1−ることかできる。6つの自由度
とil、X方1ili]とY方向、それにZ軸のまわシ
の回転である。
第4図aおよびbの実施例では、位置合1りせ装置の安
定性をよシ大きくするために、4つの磁石および4つの
コイル・アセンゾ1J75玉(吏用されている。この装
置は、基板46の上に取付けられている。また第1の磁
石48、第2の磁石50、第6の磁石52、第4の磁石
54も相互に間隔を置いて基板46上に固定されている
。
定性をよシ大きくするために、4つの磁石および4つの
コイル・アセンゾ1J75玉(吏用されている。この装
置は、基板46の上に取付けられている。また第1の磁
石48、第2の磁石50、第6の磁石52、第4の磁石
54も相互に間隔を置いて基板46上に固定されている
。
これらの磁石はすべて、実質的に同じ平面上にある。そ
して、その磁界がZ方向に延びるように構成されている
。
して、その磁界がZ方向に延びるように構成されている
。
第1のコイル・アセンブリ56、第2のコイル・アセン
フ!758 、第3のコイル・アセンブリ60および第
4のコイル・アセンブリ62は、それぞれ、上述の磁界
と交差するように配置されている。また第4図の実施例
でも、4つのコイル・アセンブリを結合して1つの構造
体にする部材が設けられている。こ′の部材には参照番
号64が付され、4つの磁石および基板46に対して可
動となっている。第4図aの実;m flJでも、結合
部材は上部結合板66および下音賃結合板68から成っ
ている。下部結合板68は、空気パッドまたはベアリン
グ70等である適当な支承部材の上に載置されている。
フ!758 、第3のコイル・アセンブリ60および第
4のコイル・アセンブリ62は、それぞれ、上述の磁界
と交差するように配置されている。また第4図の実施例
でも、4つのコイル・アセンブリを結合して1つの構造
体にする部材が設けられている。こ′の部材には参照番
号64が付され、4つの磁石および基板46に対して可
動となっている。第4図aの実;m flJでも、結合
部材は上部結合板66および下音賃結合板68から成っ
ている。下部結合板68は、空気パッドまたはベアリン
グ70等である適当な支承部材の上に載置されている。
マイクロリングラフィ装置でウェハを位置合わせするた
めに用いられている時は、上部結合板66にウェハマウ
ント30が載置される。4つのコイル・アセン−7’す
4B、50,52.54の各々に、71〜78で示すリ
ード線が2本ずつ設けられる。リード線は第4図すに示
すように制御装置80に接続される。制御装置80は、
各コイルに加える電流の流れおよびその方向を制御する
。
めに用いられている時は、上部結合板66にウェハマウ
ント30が載置される。4つのコイル・アセン−7’す
4B、50,52.54の各々に、71〜78で示すリ
ード線が2本ずつ設けられる。リード線は第4図すに示
すように制御装置80に接続される。制御装置80は、
各コイルに加える電流の流れおよびその方向を制御する
。
第4図の位置合わせ装置は次のように動作する。第1の
コイル56の電流と第2のコイル58の電流が両にX方
向へ流れた場合、2つのコイルの各々にY方向の力が働
く。第1コイルおよび第2コイルを流れる電流の方向が
逆になると、合成力の向ぎも反対になる。第6のコイル
60および第4のコイル62の電流がY方向へ流れれば
、両コイルにはX方向への力が加わる。電流の流れが逆
になると、反対方向の合成力が加わる。またコイル56
.58が相互に逆極性の電流で励磁され、および/また
はコイル60.62が相互に逆極性の電流で励磁されれ
ば、Z軸のまわつにトルクが生じる。コイル56.58
により発生ずるトルクとコイル60,62によシ発生す
るトルクとは、電流の方向に応じて相互に加算され、あ
るいは減算される。従って、制御装置80に制御されて
加わる電流およびその方向に依存して、結合部材64の
運動が、つまシホルダ79内のウェハの動きが、X方向
、Y方向、およびZ軸のまわフの回転運動という3つの
自由度で正確に制御される。
コイル56の電流と第2のコイル58の電流が両にX方
向へ流れた場合、2つのコイルの各々にY方向の力が働
く。第1コイルおよび第2コイルを流れる電流の方向が
逆になると、合成力の向ぎも反対になる。第6のコイル
60および第4のコイル62の電流がY方向へ流れれば
、両コイルにはX方向への力が加わる。電流の流れが逆
になると、反対方向の合成力が加わる。またコイル56
.58が相互に逆極性の電流で励磁され、および/また
はコイル60.62が相互に逆極性の電流で励磁されれ
ば、Z軸のまわつにトルクが生じる。コイル56.58
により発生ずるトルクとコイル60,62によシ発生す
るトルクとは、電流の方向に応じて相互に加算され、あ
るいは減算される。従って、制御装置80に制御されて
加わる電流およびその方向に依存して、結合部材64の
運動が、つまシホルダ79内のウェハの動きが、X方向
、Y方向、およびZ軸のまわフの回転運動という3つの
自由度で正確に制御される。
また第4図の実施例では、結合部材64上に載置された
物体またはウェハの位置を検出するために、適当なセン
サを使用することができる。この場合、センサ82はX
方狗におけるウェハの位置を検出し、センサ84はY方
向の、センサ86はZ方向の位置を検出する。これらの
センサの信号は制御装置80へ入力される。
物体またはウェハの位置を検出するために、適当なセン
サを使用することができる。この場合、センサ82はX
方狗におけるウェハの位置を検出し、センサ84はY方
向の、センサ86はZ方向の位置を検出する。これらの
センサの信号は制御装置80へ入力される。
以上の説明から明らかなように、本発明は改良された電
磁位置合わせ装置全提供し、この装置は前述の目的を効
果的に達成できる。
磁位置合わせ装置全提供し、この装置は前述の目的を効
果的に達成できる。
当然のことだが、上述の実施例は説明のために開示した
に過ぎず、本発明の思想を逸脱することなく種々変形し
て実施できる。
に過ぎず、本発明の思想を逸脱することなく種々変形し
て実施できる。
発明の効果
本発明によれば、6つの直線および/または回転モータ
を使用せずに、X、Y、Zの方向の位置調整をよシ簡単
な構成の電磁位置合わせ装置で実施することができる。
を使用せずに、X、Y、Zの方向の位置調整をよシ簡単
な構成の電磁位置合わせ装置で実施することができる。
第1図は本発明による電磁位置合わせ装置の第1の実施
例の斜視図、第2図は直線2−2に沿った第1図の装置
の断面図、第6図は第1図の装置に作用する力を示すベ
クトル図、第4図は本発明による電磁位置合わせ装置の
別の実施例の斜視図である。 10.46・・基板、12,14,16,48.50,
52.54・・・磁石、1B、24,22.56,58
,60.62・・・コイル・アセンブリ、24.66・
・・、上部結合板、25.64・・・結合部材、26.
68・・・下部結合板、28.70・・支承部材、30
.79・・・ウニ・・マウント、32.34,36,3
8,40,42,71.72、73. 74. 75.
76、77、78 ・・・ 1ノード線、44.80
・・・制御装置、82,84゜86・・・センサ。
例の斜視図、第2図は直線2−2に沿った第1図の装置
の断面図、第6図は第1図の装置に作用する力を示すベ
クトル図、第4図は本発明による電磁位置合わせ装置の
別の実施例の斜視図である。 10.46・・基板、12,14,16,48.50,
52.54・・・磁石、1B、24,22.56,58
,60.62・・・コイル・アセンブリ、24.66・
・・、上部結合板、25.64・・・結合部材、26.
68・・・下部結合板、28.70・・支承部材、30
.79・・・ウニ・・マウント、32.34,36,3
8,40,42,71.72、73. 74. 75.
76、77、78 ・・・ 1ノード線、44.80
・・・制御装置、82,84゜86・・・センサ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 電磁位置合わせ装置において、 6つの磁石が設けられ、相互に間隔を置いて該6つの磁
石を固定する部材が設けられ、6つのコイル・アセンブ
リが設けられ、該コイル・アセンブリが前記磁石の磁界
と交差するように配置され、また該コイル・アセンゾ’
J ’If流れる電流を制御する装置が設けられ、前記
コイル・アセンブリを結合して前記磁石に対して可動な
構造体を形成する部材が設けられ、さらに該構造体上で
物体を担持する部材が設けられ、 前記コイルへ供給される電流を制御することによって前
記構造体が3つの自由度で運動できるように、前記コイ
ル・アセンブリが巻かれている、 ことを特徴とする電磁位置合わせ装置。 26つの磁石が設けられ、相互に間隔を置いて、かつ実
質的に同一平面上に該6つの磁石を固定する部材が設け
られ、 6つのコイル・アセンブリが設けられ、該コイル・アセ
ンブリが前記磁石の磁界と交差するように配置され、 前記コイル・アセンブリを結合して前記磁石に対して可
動な構造体を形成する部材が設けられ、さらに該構造体
上で物体を担持する部材が設けられ、 前記コイル・アセンブリのうち2つが、実質的に相互に
平行になるように巻かれておシ、第6のコイル・アセン
ブリが、第1および第2のコイル・アセングリの巻方向
に対して実質的に直交するように巻かれておシ、前記コ
イル・アセングリの電流の流れおよび方向を制御する装
置が設けられている、特許請求範囲第1項記載の電磁位
置合わせ装置。 3、磁石を固定する部材が基板から成る特許請求の範囲
第2項記載の電磁位置合わせ装置。 4.6つのコイル・アセンブリを結合する部材が上部結
合板と下部結合板とを有し、該上部結合板と乍部結合板
との間にコイルが配置され、また基、板上で下部結合板
を支承する支承部材が設けられている特許請求の範囲第
6項記載の電磁位置合わせ装置。 5.6つの磁石が正三角形を構成するように配置されて
いる特許請求の範囲第2項記載の電磁位置合わせ装置。 6、電磁位置合わせ装置において、4つの磁石が設けら
れ、相互に間隔を置いて、かつ実質的に同一平面上に該
4つの磁石を固定する部材が設げられ、 4つのコイル・アセンブリが設けられ、該コイル・アセ
ンブリが前記磁石の磁界と交差するように配置され、 前記4つのコイル・アセンブリを結合して前記磁石に対
して可動な構造体を形成する部材が設けられ、さらに該
、構造体上で物体を担持する部材が設り″られ、 前記コイル・アセンブリのうち2つが、実質的に相互に
平行になるように巻かれており、他の2つのコイル・ア
センブリが、第1および第2のコイル・アセンブリの巻
方向に対して実質的に直交するように巻かれておシ、前
記コイル・アセンブリの電流の流れおよび方向を制御す
る装置が設けられている、ことを特徴とする電磁位置合
わせ装置。 Z 磁石を固定する部材が基板から成る特許請求の範囲
第6項記載の電磁位置合わせ装置。 8、4つのコイル・アセンブリを結合する部材が上部結
合板と下部結合板とを有し、該上部結合板と下部結合板
との間に壬イルが配置され、また基板上で下部結合板を
支承する支承部材が設けられている特許請求の範囲第7
項記載の電磁位置合わせ装置。 94つの磁石が正方形を構成するように自装置されてい
る特許請求の範囲第2項記載の電磁位置合わせ装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US502998 | 1983-06-10 | ||
US06/502,998 US4506205A (en) | 1983-06-10 | 1983-06-10 | Electro-magnetic alignment apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS607725A true JPS607725A (ja) | 1985-01-16 |
JPH0586846B2 JPH0586846B2 (ja) | 1993-12-14 |
Family
ID=24000338
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59118399A Granted JPS607725A (ja) | 1983-06-10 | 1984-06-11 | 電磁アラインメント装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4506205A (ja) |
EP (1) | EP0128433B1 (ja) |
JP (1) | JPS607725A (ja) |
CA (1) | CA1217224A (ja) |
DE (1) | DE3477698D1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60223119A (ja) * | 1984-04-20 | 1985-11-07 | Hitachi Ltd | 2軸方向非接触駆動形精密移動台 |
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