JPH05160056A - 熱処理炉 - Google Patents
熱処理炉Info
- Publication number
- JPH05160056A JPH05160056A JP31828791A JP31828791A JPH05160056A JP H05160056 A JPH05160056 A JP H05160056A JP 31828791 A JP31828791 A JP 31828791A JP 31828791 A JP31828791 A JP 31828791A JP H05160056 A JPH05160056 A JP H05160056A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- furnace
- difference
- output signal
- thermal treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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Abstract
(57)【要約】
【目的】温度制御部の信号と炉内温度との追従性を高め
ることによって熱処理炉の炉内温度の均一性及び再現性
向上を図る。 【構成】熱電対３の熱出力信号を記憶するメモリー機能
を備えた温度比較機６を有し、マシンコントローラー５
によりあらかじめセットされた熱出力信号と温度比較機
６内に記憶された温度プロファイルとを比較し、その差
分の出力信号を温度制御機４によりヒーター１に印加す
る機能と、さらにある所定時間前の炉内温度と現時点の
炉内温度との差分を加重印加する機能とを有する。
ることによって熱処理炉の炉内温度の均一性及び再現性
向上を図る。 【構成】熱電対３の熱出力信号を記憶するメモリー機能
を備えた温度比較機６を有し、マシンコントローラー５
によりあらかじめセットされた熱出力信号と温度比較機
６内に記憶された温度プロファイルとを比較し、その差
分の出力信号を温度制御機４によりヒーター１に印加す
る機能と、さらにある所定時間前の炉内温度と現時点の
炉内温度との差分を加重印加する機能とを有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の製造に使用
する半導体基板加熱用の熱処理炉に関する。
する半導体基板加熱用の熱処理炉に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の熱処理炉は、図４の構成図に示す
ように、マシンコントローラー５と温度制御機４を有
し、マシンコントローラー５に設定された時間と温度プ
ロファイルの相関の値と温度測定用熱電対３からフィー
ドバックされた炉内温度プロファイルとの差を取り、そ
の差分又はその差分にある係数をかけた値を補正するの
に必要な出力をマシンコントローラー５から温度制御機
４に指示し、ヒーター１の出力を調整する機構となって
いる。
ように、マシンコントローラー５と温度制御機４を有
し、マシンコントローラー５に設定された時間と温度プ
ロファイルの相関の値と温度測定用熱電対３からフィー
ドバックされた炉内温度プロファイルとの差を取り、そ
の差分又はその差分にある係数をかけた値を補正するの
に必要な出力をマシンコントローラー５から温度制御機
４に指示し、ヒーター１の出力を調整する機構となって
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この従来の熱処理炉で
は、温度制御を炉内部の温度測定値とマシンコントロー
ラーの設定値と用いて実施する機構となっている。従っ
て、温度制御部が温度出力の調整を行ってから、実際に
炉内の温度が変化する迄の時間が考慮されておらず、温
度制御部の信号と炉内温度との追従が極めて悪いという
欠点がある。その結果、温度がコントローラーの設定値
から大きく高温度にずれるオーバーシュート現象や低温
度にずれるアンダーシュート現象が発生し、ウェハーに
大きな熱ストレスが発生する。これは、ウェハー反りと
か結晶欠陥を生ずる原因となり、歩留り低下の一因とな
っている。
は、温度制御を炉内部の温度測定値とマシンコントロー
ラーの設定値と用いて実施する機構となっている。従っ
て、温度制御部が温度出力の調整を行ってから、実際に
炉内の温度が変化する迄の時間が考慮されておらず、温
度制御部の信号と炉内温度との追従が極めて悪いという
欠点がある。その結果、温度がコントローラーの設定値
から大きく高温度にずれるオーバーシュート現象や低温
度にずれるアンダーシュート現象が発生し、ウェハーに
大きな熱ストレスが発生する。これは、ウェハー反りと
か結晶欠陥を生ずる原因となり、歩留り低下の一因とな
っている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の熱処理炉は、温
度メモリー機能を有し、又、タイム・ディレイ・コント
ロール機能を有している。これらの機能を用いることに
より、従来の炉内温度と設定温度の差をコントロールす
る方式から、「温度制御出力一定時の炉内温度プロファ
イルのメモリー値」と「設定温度」との差をコントロー
ルし、同時に、前記温度メモリー値と炉内温度との差
を、ある所定のタイム・ディレイを加味して加重コント
ロールする機能を有する。
度メモリー機能を有し、又、タイム・ディレイ・コント
ロール機能を有している。これらの機能を用いることに
より、従来の炉内温度と設定温度の差をコントロールす
る方式から、「温度制御出力一定時の炉内温度プロファ
イルのメモリー値」と「設定温度」との差をコントロー
ルし、同時に、前記温度メモリー値と炉内温度との差
を、ある所定のタイム・ディレイを加味して加重コント
ロールする機能を有する。
【０００５】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図１は本発明の一実施例の熱処理炉の構造を示して
いる。ヒーター１の内部に石英炉芯管２が入れられ、そ
の炉芯管２内に温度測定用の熱電対３がセットされてい
る。この熱電対３の電気出力信号を記憶する機構を有す
る温度比較機６を有し、マシンコントローラー５により
あらかじめセットされた熱出力信号と、過去に経験記憶
された温度比較機６内の温度プロファイル（図２）とを
比較し、その差分を調整する出力信号を温度制御機４に
よりヒーター１に印加する。又、炉内温度を温度比較機
６内に時経列的に記憶する機構をも有し、ある所定時間
前の炉内温度と現時点の炉内温度の差分を、上記調整出
力信号にある加重を加えて付加することによってさらに
微妙に温度を調整する機構を有している。
る。図１は本発明の一実施例の熱処理炉の構造を示して
いる。ヒーター１の内部に石英炉芯管２が入れられ、そ
の炉芯管２内に温度測定用の熱電対３がセットされてい
る。この熱電対３の電気出力信号を記憶する機構を有す
る温度比較機６を有し、マシンコントローラー５により
あらかじめセットされた熱出力信号と、過去に経験記憶
された温度比較機６内の温度プロファイル（図２）とを
比較し、その差分を調整する出力信号を温度制御機４に
よりヒーター１に印加する。又、炉内温度を温度比較機
６内に時経列的に記憶する機構をも有し、ある所定時間
前の炉内温度と現時点の炉内温度の差分を、上記調整出
力信号にある加重を加えて付加することによってさらに
微妙に温度を調整する機構を有している。
【０００６】これらを用いることにより、図２に示すよ
うに出力一定時の炉内温度プロファイル７と所定の温度
プロファイル８の差分９を印加することにより、炉内温
度の追従性を向上すると共に、図３に示すようにある所
定時間前の実温と出力一定時の所定の温度プロファイル
との差分を加重印加することにより、ウェハーローディ
ング枚数による温度変化の出力差分１０を調整する。こ
れらにより、熱処理炉内の温度プロファイルをローディ
ング枚数によらずいつも所定の温度プロファイルに近い
ものとすることが出来る。また、図４中の実線と破線は
熱処理炉のローディング枚数による温度プロファイルの
差分の補正を示しており、この場合はローディング枚数
が少なかった場合を示している。実線は、所定の温度プ
ロファイルと実温度プロファイルとの差を補正するため
の出力付加値であり、破線は、２分間の炉内実温度と所
定の温度プロファイルとの差分を補正した場合の出力付
加値である。
うに出力一定時の炉内温度プロファイル７と所定の温度
プロファイル８の差分９を印加することにより、炉内温
度の追従性を向上すると共に、図３に示すようにある所
定時間前の実温と出力一定時の所定の温度プロファイル
との差分を加重印加することにより、ウェハーローディ
ング枚数による温度変化の出力差分１０を調整する。こ
れらにより、熱処理炉内の温度プロファイルをローディ
ング枚数によらずいつも所定の温度プロファイルに近い
ものとすることが出来る。また、図４中の実線と破線は
熱処理炉のローディング枚数による温度プロファイルの
差分の補正を示しており、この場合はローディング枚数
が少なかった場合を示している。実線は、所定の温度プ
ロファイルと実温度プロファイルとの差を補正するため
の出力付加値であり、破線は、２分間の炉内実温度と所
定の温度プロファイルとの差分を補正した場合の出力付
加値である。
【０００７】
【発明の効果】以上説明したように本発明は熱処理炉の
炉内温度の記憶機構を有しており、この機構を用いるこ
とにより、所定の温度プロファイルと出力一定時の炉内
温度プロファイルとの差分を出力に追加印加する機能
と、さらに、ある所定時間前の炉内温度と現時点の炉内
温度との差分を加重し、追加印加する機能を有してい
る。これら２重の温度調整機能を用いて、ウェハーロー
ディング枚数によらず所定の温度プロファイルによる半
導体ウェハーの熱処理を安定して行うことができる効果
を有する。
炉内温度の記憶機構を有しており、この機構を用いるこ
とにより、所定の温度プロファイルと出力一定時の炉内
温度プロファイルとの差分を出力に追加印加する機能
と、さらに、ある所定時間前の炉内温度と現時点の炉内
温度との差分を加重し、追加印加する機能を有してい
る。これら２重の温度調整機能を用いて、ウェハーロー
ディング枚数によらず所定の温度プロファイルによる半
導体ウェハーの熱処理を安定して行うことができる効果
を有する。
【図１】本発明の一実施例の熱処理炉の構成図である。
【図２】出力一定時の炉内温度プロファイルを示す図で
ある。
ある。
【図３】本発明の一実施例の温度出力差分の補正を示す
図である。
図である。
【図４】従来の熱処理炉の構成図である。
１ ヒーター ２ 炉芯管 ３ 温度測定用熱電対 ４ 温度制御機 ５ マシンコントローラー ６ 温度比較機
Claims (1)
- 【請求項１】 半導体装置製造用の熱処理炉において、
加熱出力を一定としたときの時間の炉内温度との相関の
値を記憶する温度メモリー機能と、「上記温度メモリ
ー」と「所定時間と炉内温度プロファイルとの相関の
値」との差分を所定時間先取りして加熱する機能と、上
記温度メモリーと炉内温度プロファイルの所定時間前の
値とを比較し、その差分を前記先取りした加熱量に追加
する機能とを有することを特徴とする熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31828791A JPH05160056A (ja) | 1991-12-03 | 1991-12-03 | 熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31828791A JPH05160056A (ja) | 1991-12-03 | 1991-12-03 | 熱処理炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05160056A true JPH05160056A (ja) | 1993-06-25 |
Family
ID=18097522
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31828791A Withdrawn JPH05160056A (ja) | 1991-12-03 | 1991-12-03 | 熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05160056A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010056568A (ja) * | 2009-11-30 | 2010-03-11 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体製造装置、半導体製造装置における表示方法及び異常処理方法 |
-
1991
- 1991-12-03 JP JP31828791A patent/JPH05160056A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010056568A (ja) * | 2009-11-30 | 2010-03-11 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体製造装置、半導体製造装置における表示方法及び異常処理方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990311 |