JPH05151527A - 磁気ヘツドの製造方法及び磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法及び磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPH05151527A JPH05151527A JP3312790A JP31279091A JPH05151527A JP H05151527 A JPH05151527 A JP H05151527A JP 3312790 A JP3312790 A JP 3312790A JP 31279091 A JP31279091 A JP 31279091A JP H05151527 A JPH05151527 A JP H05151527A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic head
- thin film
- core
- magnetic
- parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は磁気ヘッドの製造方法及び磁気ヘッ
ドに関し、磁気ヘッドの性能を損なうことがなく、製造
工程を効率化することができる磁気ヘッドの製造方法及
び磁気ヘッドを実現することを目的とする。 【構成】 成膜工程は、コア１のトラック幅規制溝２の
底部の上方を覆うマスク１０を介しておこない、マスク
１０で覆われた部分を除いた部分に薄膜４を形成した後
マスク１０を取り外してコア半体６とする。接合工程
は、コア半体６の薄膜４が形成された突出部３の先端面
をギャップ部Ｇとし一対のコア半体６のそれぞれをギャ
ップ部Ｇを介して相互に接合して磁気ヘッドブロック９
とする。切断工程は、磁気ヘッドブロック９のトラック
幅規制溝２の部分を切断して個々の磁気ヘッドとする。
ドに関し、磁気ヘッドの性能を損なうことがなく、製造
工程を効率化することができる磁気ヘッドの製造方法及
び磁気ヘッドを実現することを目的とする。 【構成】 成膜工程は、コア１のトラック幅規制溝２の
底部の上方を覆うマスク１０を介しておこない、マスク
１０で覆われた部分を除いた部分に薄膜４を形成した後
マスク１０を取り外してコア半体６とする。接合工程
は、コア半体６の薄膜４が形成された突出部３の先端面
をギャップ部Ｇとし一対のコア半体６のそれぞれをギャ
ップ部Ｇを介して相互に接合して磁気ヘッドブロック９
とする。切断工程は、磁気ヘッドブロック９のトラック
幅規制溝２の部分を切断して個々の磁気ヘッドとする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ヘッドの製造方法及
び磁気ヘッドに係り、特に複合型磁気ヘッドに適した磁
気ヘッドの製造方法及び磁気ヘッドに関する。
び磁気ヘッドに係り、特に複合型磁気ヘッドに適した磁
気ヘッドの製造方法及び磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】図９は従来の一例の複合型磁気ヘッドの
製造方法における成膜工程を示す。同図（Ａ）は酸化物
磁性体製（例えばフェライト）の同図の左右に長い角柱
状のブロックの同図の上面にトラック幅規制溝２及び突
出部３が交互に形成された状態のコア１を示す。図９
（Ｂ）は同図（Ａ）のコア１の同図の上面に上方向Ｈか
らスパッタ又は蒸着等によって金属磁性体（例えばＦｅ
−Ａｌ−Ｓｉ合金）製の薄膜４を形成した状態を示す。
又上記金属磁性体製の薄膜４の上にギャップ材として非
磁性体（例えばＳｉＯ2 ）製の薄膜を更に形成する。更
に薄膜４及び非磁性体製の薄膜が形成されたコア１の図
９（Ｂ）の上面に図示せぬ同図の左右方向に延びるコイ
ル巻回溝５を形成し一のコア半体６とする。
製造方法における成膜工程を示す。同図（Ａ）は酸化物
磁性体製（例えばフェライト）の同図の左右に長い角柱
状のブロックの同図の上面にトラック幅規制溝２及び突
出部３が交互に形成された状態のコア１を示す。図９
（Ｂ）は同図（Ａ）のコア１の同図の上面に上方向Ｈか
らスパッタ又は蒸着等によって金属磁性体（例えばＦｅ
−Ａｌ−Ｓｉ合金）製の薄膜４を形成した状態を示す。
又上記金属磁性体製の薄膜４の上にギャップ材として非
磁性体（例えばＳｉＯ2 ）製の薄膜を更に形成する。更
に薄膜４及び非磁性体製の薄膜が形成されたコア１の図
９（Ｂ）の上面に図示せぬ同図の左右方向に延びるコイ
ル巻回溝５を形成し一のコア半体６とする。
【０００３】又、図示せぬコア１’をコア１の同図の上
面に対して面対称にトラック幅規制溝２’及び突出部
３’を形成し、更に同様に金属磁性体製の薄膜４’、非
磁性体製の薄膜及びコイル巻回溝５’をそれぞれ形成し
て他のコア半体６’とする。更に上記コア半体６、６’
の前記突出部３、３’の先端面を相互に対面させて当接
させた状態でトラック幅規制溝２、２’に溶融ガラス７
を充填することによって相互に接合して磁気ヘッドブロ
ック９とする。
面に対して面対称にトラック幅規制溝２’及び突出部
３’を形成し、更に同様に金属磁性体製の薄膜４’、非
磁性体製の薄膜及びコイル巻回溝５’をそれぞれ形成し
て他のコア半体６’とする。更に上記コア半体６、６’
の前記突出部３、３’の先端面を相互に対面させて当接
させた状態でトラック幅規制溝２、２’に溶融ガラス７
を充填することによって相互に接合して磁気ヘッドブロ
ック９とする。
【０００４】更に上記磁気ヘッドブロック９を図９
（Ｂ）の手前の面Ｓ上の線Ａ1 、Ａ2 に沿って同図の奥
行き方向Ｄ方向にＡ1 、Ａ2 の間を切断して個々の磁気
ヘッド８とする（チップスライス）。図１０（Ａ）、
（Ｂ）はそれぞれ磁気ヘッド８の図９（Ｂ）の手前から
奥行き方向Ｄに見た平面図及び同図の右側から左方向Ｗ
に見た側面図を示す。図１０（Ａ）中、コア半体６、
６’のそれぞれの突出部３、３’のそれぞれの先端面が
相互に当接された部分がギャップ部Ｇとされる。図１０
（Ａ）中の同図の上下端面Ｃ及び同図（Ｂ）の手前の端
面Ｃはそれぞれ前述のごとく磁気ヘッドブロック９を図
９（Ｂ）のＡ線に沿ってチップスライスした際の切断面
である。
（Ｂ）の手前の面Ｓ上の線Ａ1 、Ａ2 に沿って同図の奥
行き方向Ｄ方向にＡ1 、Ａ2 の間を切断して個々の磁気
ヘッド８とする（チップスライス）。図１０（Ａ）、
（Ｂ）はそれぞれ磁気ヘッド８の図９（Ｂ）の手前から
奥行き方向Ｄに見た平面図及び同図の右側から左方向Ｗ
に見た側面図を示す。図１０（Ａ）中、コア半体６、
６’のそれぞれの突出部３、３’のそれぞれの先端面が
相互に当接された部分がギャップ部Ｇとされる。図１０
（Ａ）中の同図の上下端面Ｃ及び同図（Ｂ）の手前の端
面Ｃはそれぞれ前述のごとく磁気ヘッドブロック９を図
９（Ｂ）のＡ線に沿ってチップスライスした際の切断面
である。
【０００５】図１１、図１２、図１３及び図１４は上記
磁気ヘッドと略同様な構成を有する磁気ヘッド８ａの製
造方法を示す。図９及び図１０にて示した構成と実質的
に同一構成部分には同一符号を付し、その説明を省略す
る。図１１はコア１にまず同図中の右側の表面に同図の
奥行き方向Ｗに延びるコイル巻回溝５が形成された状態
を示す。図１２は、コア１の上記表面に同図の上下方向
Ｄに延びるトラック幅規制溝２と突出部３が複数交互に
等間隔に形成され、更に金属磁性体製の薄膜４が形成さ
れた状態のコア半体６を示す。図１２の状態のコア半体
６の同図の右側の表面に更に非磁性体の薄膜が形成され
る。
磁気ヘッドと略同様な構成を有する磁気ヘッド８ａの製
造方法を示す。図９及び図１０にて示した構成と実質的
に同一構成部分には同一符号を付し、その説明を省略す
る。図１１はコア１にまず同図中の右側の表面に同図の
奥行き方向Ｗに延びるコイル巻回溝５が形成された状態
を示す。図１２は、コア１の上記表面に同図の上下方向
Ｄに延びるトラック幅規制溝２と突出部３が複数交互に
等間隔に形成され、更に金属磁性体製の薄膜４が形成さ
れた状態のコア半体６を示す。図１２の状態のコア半体
６の同図の右側の表面に更に非磁性体の薄膜が形成され
る。
【０００６】図１３は、コア半体６と、このコア半体６
の図１２の右側の表面に対して面対称に形成された他の
コア半体６’とを突出部３及び３’のそれぞれの先端面
を相互に対面させて当接させた状態でトラック幅規制溝
２、２’に溶融ガラス７を充填して相互に接合し、磁気
ヘッドブロック９とした状態を示す。図１４は、更にこ
の磁気ヘッドブロック９が図１３の上面Ｓ上の線Ａに沿
って同図の下方向Ｄに切断され磁気ヘッド８ａとされた
状態を示す。
の図１２の右側の表面に対して面対称に形成された他の
コア半体６’とを突出部３及び３’のそれぞれの先端面
を相互に対面させて当接させた状態でトラック幅規制溝
２、２’に溶融ガラス７を充填して相互に接合し、磁気
ヘッドブロック９とした状態を示す。図１４は、更にこ
の磁気ヘッドブロック９が図１３の上面Ｓ上の線Ａに沿
って同図の下方向Ｄに切断され磁気ヘッド８ａとされた
状態を示す。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかるに上記従来の磁
気ヘッドの製造方法では、チップスライス時にコア１、
１’表面に形成されている薄膜４、４’をコア１、１’
とともに切断する必要がある。ところがコア１、１’に
対して蒸着されただけの薄膜４、４’はチップスライス
時にコア１、１’の表面から剥離する場合がある。この
剥離によって薄膜４、４’が損傷されると磁気ヘッドの
使用時に所定の磁気回路が形成されず、磁気ヘッド８の
性能が低下してしまうという問題点があった。
気ヘッドの製造方法では、チップスライス時にコア１、
１’表面に形成されている薄膜４、４’をコア１、１’
とともに切断する必要がある。ところがコア１、１’に
対して蒸着されただけの薄膜４、４’はチップスライス
時にコア１、１’の表面から剥離する場合がある。この
剥離によって薄膜４、４’が損傷されると磁気ヘッドの
使用時に所定の磁気回路が形成されず、磁気ヘッド８の
性能が低下してしまうという問題点があった。
【０００８】又、チップスライスの加工条件選定、即ち
切断のためのバイスの材質、形状選定、バイスの回転速
度の設定等の際に、被切断材料としてコア１、１’及び
溶融ガラス７の他に薄膜４、４’及び非磁性体製の薄膜
を考慮する必要があり、加工条件選定作業が繁雑となる
という問題点があった。
切断のためのバイスの材質、形状選定、バイスの回転速
度の設定等の際に、被切断材料としてコア１、１’及び
溶融ガラス７の他に薄膜４、４’及び非磁性体製の薄膜
を考慮する必要があり、加工条件選定作業が繁雑となる
という問題点があった。
【０００９】本発明は上記の課題に鑑みてなされたもの
であり、チップスライスによる磁気ヘッド８の性能低下
を防止するとともに、加工条件選定作業を容易にするこ
とができる磁気ヘッドの製造方法及び磁気ヘッドを提供
することを目的とする。
であり、チップスライスによる磁気ヘッド８の性能低下
を防止するとともに、加工条件選定作業を容易にするこ
とができる磁気ヘッドの製造方法及び磁気ヘッドを提供
することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、成膜工程はコ
アを所定の間隔毎にマスクで覆った後に成膜しその後マ
スクを取り外し、切断工程はコアの薄膜が形成されてい
ない部分を切断する。
アを所定の間隔毎にマスクで覆った後に成膜しその後マ
スクを取り外し、切断工程はコアの薄膜が形成されてい
ない部分を切断する。
【００１１】
【作用】薄膜を切断することなく磁気ヘッドブロックを
切断して磁気ヘッドとすることができる。
切断して磁気ヘッドとすることができる。
【００１２】
【実施例】図１は本発明になる磁気ヘッドの製造方法の
一実施例の複合型磁気ヘッドの製造方法における成膜工
程を示す。複合型磁気ヘッドとは酸化物磁性体製のコア
の上に金属磁性体製の薄膜を形成したものである。この
金属磁性体はコアを構成する酸化物磁性体に比して透磁
率が高いため、ギャップ部に隣接させて金属磁性体の薄
膜を形成することによって磁気ヘッドの性能を向上させ
ることができる。
一実施例の複合型磁気ヘッドの製造方法における成膜工
程を示す。複合型磁気ヘッドとは酸化物磁性体製のコア
の上に金属磁性体製の薄膜を形成したものである。この
金属磁性体はコアを構成する酸化物磁性体に比して透磁
率が高いため、ギャップ部に隣接させて金属磁性体の薄
膜を形成することによって磁気ヘッドの性能を向上させ
ることができる。
【００１３】なお、図９及び図１０にて説明した従来の
複合型磁気ヘッドの製造方法で示した構成と同一構成部
分には同一符号を付す。図１（Ａ）は酸化物磁性体製
（例えばフェライト）の同図の左右に延びた角柱状のブ
ロックの同図の上面に、同図の奥行き方向に延びるトラ
ック幅規制溝２が等間隔に形成された状態のコア１を示
す。なお、コア１の同図の上面のうち、トラック幅規制
溝２以外の突出した部分を突出部３と称す。
複合型磁気ヘッドの製造方法で示した構成と同一構成部
分には同一符号を付す。図１（Ａ）は酸化物磁性体製
（例えばフェライト）の同図の左右に延びた角柱状のブ
ロックの同図の上面に、同図の奥行き方向に延びるトラ
ック幅規制溝２が等間隔に形成された状態のコア１を示
す。なお、コア１の同図の上面のうち、トラック幅規制
溝２以外の突出した部分を突出部３と称す。
【００１４】図１（Ｂ）は同図（Ａ）のコア１の同図の
上面に上方向Ｈからスパッタ又は蒸着等によって金属磁
性体（例えばＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金）製の薄膜４を形成
した（前記成膜工程）状態を示す。ただし従来の方法と
は異なり、トラック幅規制溝２の同図の底部に薄膜が形
成されないようにその部分の同図の上方に同図の奥行き
方向Ｄに延びた直方体のマスク１０が配設されている。
上面に上方向Ｈからスパッタ又は蒸着等によって金属磁
性体（例えばＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金）製の薄膜４を形成
した（前記成膜工程）状態を示す。ただし従来の方法と
は異なり、トラック幅規制溝２の同図の底部に薄膜が形
成されないようにその部分の同図の上方に同図の奥行き
方向Ｄに延びた直方体のマスク１０が配設されている。
【００１５】上記マスク１０は、上記金属磁性体製の薄
膜４の上にギャップ材として非磁性体（例えばＳｉ
Ｏ2 ）製の薄膜がスパッタ又は蒸着等によって形成され
る際にも配設されたままとされる。したがってマスク１
０によって覆われた同図の下方の投影面のトラック幅規
制溝２の底部（同図中、マスク１０の各角から下方に延
ばされた縦の破線との交点を頂点とした長方形によって
仕切られた部分）には金属磁性体製の薄膜４及び非磁性
体の薄膜が形成されない。
膜４の上にギャップ材として非磁性体（例えばＳｉ
Ｏ2 ）製の薄膜がスパッタ又は蒸着等によって形成され
る際にも配設されたままとされる。したがってマスク１
０によって覆われた同図の下方の投影面のトラック幅規
制溝２の底部（同図中、マスク１０の各角から下方に延
ばされた縦の破線との交点を頂点とした長方形によって
仕切られた部分）には金属磁性体製の薄膜４及び非磁性
体の薄膜が形成されない。
【００１６】薄膜４及び非磁性体製の薄膜が形成された
コア１の図１（Ｂ）の同図の上面に同図の左右方向Ｗに
延びる図示せぬコイル巻回溝５が形成されコア半体６と
される。
コア１の図１（Ｂ）の同図の上面に同図の左右方向Ｗに
延びる図示せぬコイル巻回溝５が形成されコア半体６と
される。
【００１７】又、コア１の図１の上方の表面に対して面
対称となるように他のコア１’にトラック幅規制溝２’
及び突出部３’が形成され、更に同様に金属磁性体製の
薄膜４’、非磁性体製の薄膜及びコイル巻回溝５’がそ
れぞれ形成され他のコア半体６’とされる。更にコア半
体６、６’の前記突出部３、３’の先端面を相互に対面
して当接させた状態でトラック幅規制溝２、２’に溶融
ガラス７を充填することによって相互に接合し磁気ヘッ
ドブロック９とする（前記接合工程）。
対称となるように他のコア１’にトラック幅規制溝２’
及び突出部３’が形成され、更に同様に金属磁性体製の
薄膜４’、非磁性体製の薄膜及びコイル巻回溝５’がそ
れぞれ形成され他のコア半体６’とされる。更にコア半
体６、６’の前記突出部３、３’の先端面を相互に対面
して当接させた状態でトラック幅規制溝２、２’に溶融
ガラス７を充填することによって相互に接合し磁気ヘッ
ドブロック９とする（前記接合工程）。
【００１８】更に上記磁気ヘッドブロック９を図１
（Ｂ）の手前の面Ｓ上の線Ａ1 、Ａ2 に沿って同図の奥
行き方向Ｄ方向にＡ1 、Ａ2 の間を切断して個々の磁気
ヘッド１１とする（チップスライス、前記切断工程）。
図２（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ磁気ヘッド１１の図１
（Ｂ）の手前から奥行き方向Ｄに見た平面図及び同図の
右側から左方向Ｗに見た側面図を示す。図２（Ａ）中、
コア半体６、６’のそれぞれの突出部３、３’のそれぞ
れの先端面が当接された部分がギャップ部Ｇとされる。
図２（Ａ）中の同図の上下端面Ｃ及び同図（Ｂ）の手前
の端面Ｃはそれぞれ前述のごとく磁気ヘッドブロックを
図１（Ｂ）のＡ線に沿ってチップスライスした際の切断
面である。
（Ｂ）の手前の面Ｓ上の線Ａ1 、Ａ2 に沿って同図の奥
行き方向Ｄ方向にＡ1 、Ａ2 の間を切断して個々の磁気
ヘッド１１とする（チップスライス、前記切断工程）。
図２（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ磁気ヘッド１１の図１
（Ｂ）の手前から奥行き方向Ｄに見た平面図及び同図の
右側から左方向Ｗに見た側面図を示す。図２（Ａ）中、
コア半体６、６’のそれぞれの突出部３、３’のそれぞ
れの先端面が当接された部分がギャップ部Ｇとされる。
図２（Ａ）中の同図の上下端面Ｃ及び同図（Ｂ）の手前
の端面Ｃはそれぞれ前述のごとく磁気ヘッドブロックを
図１（Ｂ）のＡ線に沿ってチップスライスした際の切断
面である。
【００１９】図３、図４、図５、図６及び図７は前記磁
気ヘッド１１と略同様な構成を有する磁気ヘッド１１ａ
の製造方法を示す。図１及び図２にて示した構成と実質
的に同一構成部分には同一符号を付し、その説明を省略
する。図３はコア１にまず同図の右側の表面に同図の奥
行き方向Ｗに延びるコイル巻回溝５が形成された状態を
示す。図４は、コア１の同図の下方、即ち図３、図５の
前記右側の表面に対向する方向Ｈから金属磁性体（例え
ばＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金）製のスパッタターゲット２０
を使用してスパッタ又は蒸着によって上記金属磁性体製
の薄膜４を形成する方法を示す。トラック幅規制溝２が
形成される部分に薄膜が形成されないようにその部分の
図４の下方に同図の奥行き方向Ｄに延びた直方体のマス
ク１０が配設されている。
気ヘッド１１と略同様な構成を有する磁気ヘッド１１ａ
の製造方法を示す。図１及び図２にて示した構成と実質
的に同一構成部分には同一符号を付し、その説明を省略
する。図３はコア１にまず同図の右側の表面に同図の奥
行き方向Ｗに延びるコイル巻回溝５が形成された状態を
示す。図４は、コア１の同図の下方、即ち図３、図５の
前記右側の表面に対向する方向Ｈから金属磁性体（例え
ばＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金）製のスパッタターゲット２０
を使用してスパッタ又は蒸着によって上記金属磁性体製
の薄膜４を形成する方法を示す。トラック幅規制溝２が
形成される部分に薄膜が形成されないようにその部分の
図４の下方に同図の奥行き方向Ｄに延びた直方体のマス
ク１０が配設されている。
【００２０】図５はコア１の同図の右側の表面に金属磁
性体製の薄膜４が形成された状態のコア半体６を示す。
図５に示すごとく、前記マスク１０によって覆われてい
た部分、即ちトラック幅規制溝２が形成される部分を除
いて同図の奥行き方向Ｗに等間隔に金属磁性体製の薄膜
４が形成されている。図５の状態のコア半体の同図の右
側の表面に更に非磁性体の薄膜が形成される。
性体製の薄膜４が形成された状態のコア半体６を示す。
図５に示すごとく、前記マスク１０によって覆われてい
た部分、即ちトラック幅規制溝２が形成される部分を除
いて同図の奥行き方向Ｗに等間隔に金属磁性体製の薄膜
４が形成されている。図５の状態のコア半体の同図の右
側の表面に更に非磁性体の薄膜が形成される。
【００２１】前記マスク１０は、上記金属磁性体製の薄
膜４の上にギャップ材として上記非磁性体（例えばＳｉ
Ｏ2 ）製の薄膜がスパッタ又は蒸着によって形成される
際にも配設したままとする。したがってマスク１０によ
って覆われた図５の左側の投影面のトラック幅規制溝２
が形成される部分には金属磁性体製の薄膜４及び非磁性
体の薄膜が形成されない。
膜４の上にギャップ材として上記非磁性体（例えばＳｉ
Ｏ2 ）製の薄膜がスパッタ又は蒸着によって形成される
際にも配設したままとする。したがってマスク１０によ
って覆われた図５の左側の投影面のトラック幅規制溝２
が形成される部分には金属磁性体製の薄膜４及び非磁性
体の薄膜が形成されない。
【００２２】図６は、コア１の同図の右側の表面のう
ち、前述のごとく金属磁性体製の薄膜４及び図示せぬ非
磁性体製の薄膜が形成されずコア１が露出した部分に同
図の上下方向Ｄに延びるトラック幅規制溝２が形成され
たコア半体６を示す。コア１の同図の右側の表面のうち
上記トラック幅規制溝２が形成されていない部分は突出
部４と称される。
ち、前述のごとく金属磁性体製の薄膜４及び図示せぬ非
磁性体製の薄膜が形成されずコア１が露出した部分に同
図の上下方向Ｄに延びるトラック幅規制溝２が形成され
たコア半体６を示す。コア１の同図の右側の表面のうち
上記トラック幅規制溝２が形成されていない部分は突出
部４と称される。
【００２３】図７は、図６に示す状態のコア半体６と、
このコア半体６の同図の右側の表面に対して面対称に形
成された他のコア半体６’とが突出部３及び３’のそれ
ぞれの先端面が相互に対面されて当接された状態でトラ
ック幅規制溝２、２’に溶融ガラス７が充填されること
によって相互に接合して磁気ヘッドブロック９とされた
状態を示す。図８は、更にこの磁気ヘッドブロック９が
図７の上面Ｓ上の線Ａに沿って同図の下方向Ｄに切断さ
れ個々の磁気ヘッド１１ａとされた状態を示す。
このコア半体６の同図の右側の表面に対して面対称に形
成された他のコア半体６’とが突出部３及び３’のそれ
ぞれの先端面が相互に対面されて当接された状態でトラ
ック幅規制溝２、２’に溶融ガラス７が充填されること
によって相互に接合して磁気ヘッドブロック９とされた
状態を示す。図８は、更にこの磁気ヘッドブロック９が
図７の上面Ｓ上の線Ａに沿って同図の下方向Ｄに切断さ
れ個々の磁気ヘッド１１ａとされた状態を示す。
【００２４】このように成膜工程にてトラック幅規制溝
２の部分に薄膜が形成されないようにしたため、切断工
程において薄膜が形成されていない部分を切断してチッ
プスライスできる。したがってチップスライスの際に薄
膜が剥離することがなく、金属磁性体製の薄膜４、４’
及び非磁性体製の薄膜が損傷されることがない。よって
磁気ヘッド１１、１１ａの性能が損なわれることがな
い。
２の部分に薄膜が形成されないようにしたため、切断工
程において薄膜が形成されていない部分を切断してチッ
プスライスできる。したがってチップスライスの際に薄
膜が剥離することがなく、金属磁性体製の薄膜４、４’
及び非磁性体製の薄膜が損傷されることがない。よって
磁気ヘッド１１、１１ａの性能が損なわれることがな
い。
【００２５】又、チップスライスの加工条件（切断用バ
イスの材質、形状、回転速度等）選定においても従来に
比して金属磁性体製の薄膜４、４’及び非磁性体製の薄
膜を考慮する必要がないため加工条件選定が容易であ
る。
イスの材質、形状、回転速度等）選定においても従来に
比して金属磁性体製の薄膜４、４’及び非磁性体製の薄
膜を考慮する必要がないため加工条件選定が容易であ
る。
【００２６】なお、本発明は複合型磁気ヘッドに限ら
ず、薄膜を使用した他の種類の磁気ヘッドにも適用でき
ることはもちろんである。
ず、薄膜を使用した他の種類の磁気ヘッドにも適用でき
ることはもちろんである。
【００２７】
【発明の効果】上述の如く本発明によれば、薄膜を切断
することなく磁気ヘッドブロックを切断して個々の磁気
ヘッドとすることができるため、切断工程において薄膜
が剥離されることがなく磁気ヘッドの性能を損なうこと
がないとともに、切断工程の加工条件選定が容易となり
製造効率を向上させることができる。
することなく磁気ヘッドブロックを切断して個々の磁気
ヘッドとすることができるため、切断工程において薄膜
が剥離されることがなく磁気ヘッドの性能を損なうこと
がないとともに、切断工程の加工条件選定が容易となり
製造効率を向上させることができる。
【図１】本発明になる磁気ヘッドの製造方法の第１実施
例の成膜工程を示す斜視図である。
例の成膜工程を示す斜視図である。
【図２】本発明になる磁気ヘッドの第１実施例の図であ
る。
る。
【図３】本発明になる磁気ヘッドの製造方法の第２実施
例を示す斜視図（その１）である。
例を示す斜視図（その１）である。
【図４】本発明になる磁気ヘッドの製造方法の第２実施
例の成膜工程を示す平面図である。
例の成膜工程を示す平面図である。
【図５】本発明になる磁気ヘッドの製造方法の第２実施
例を示す斜視図（その２）である。
例を示す斜視図（その２）である。
【図６】本発明になる磁気ヘッドの製造方法の第２実施
例を示す斜視図（その３）である。
例を示す斜視図（その３）である。
【図７】本発明になる磁気ヘッドの製造方法の第２実施
例を示す斜視図（その４）である。
例を示す斜視図（その４）である。
【図８】本発明になる磁気ヘッドの第２実施例の斜視図
である。
である。
【図９】従来の磁気ヘッドの製造方法の一例の成膜工程
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図１０】従来の磁気ヘッドの一例の図である。
【図１１】従来の磁気ヘッドの製造方法の他例を示す斜
視図（その１）である。
視図（その１）である。
【図１２】従来の磁気ヘッドの製造方法の他例を示す斜
視図（その２）である。
視図（その２）である。
【図１３】従来の磁気ヘッドの製造方法の他例を示す斜
視図（その３）である。
視図（その３）である。
【図１４】従来の磁気ヘッドの他例の斜視図である。
１、１’ コア ２、２’ トラック幅規制溝 ３、３’ 突出部 ４、４’ 金属磁性体製の薄膜 ５、５’ コイル巻回溝 ６、６’ コア半体 ７ 溶融ガラス ９ 磁気ヘッドブロック １０ マスク １１、１１ａ 磁気ヘッド Ｇ ギャップ部
Claims (2)
- 【請求項１】 コアの表面に薄膜を形成してコア半体と
する成膜工程と、一対の該コア半体のそれぞれを複数の
ギャップ部を介して相互に接合して磁気ヘッドブロック
とする接合工程と、該磁気ヘッドブロックを該複数のギ
ャップ部のそれぞれが分離されるように切断して個々の
磁気ヘッドとする切断工程とを含む磁気ヘッドの製造方
法において、 前記成膜工程は、前記コアを所定の幅分覆う一又は複数
のマスクを介しておこない、該マスクで覆われた部分を
除いた部分に前記薄膜を形成した後該マスクを取り外し
てコア半体とし、 前記接合工程は、該コア半体の該成膜工程で該薄膜が形
成された部分のうちの少なくとも一部分をギャップ部と
し一対の該コア半体のそれぞれを該ギャップ部を介して
相互に接合して磁気ヘッドブロックとし、 前記切断工程は、該磁気ヘッドブロックの該成膜工程で
該薄膜が形成されなかった所定の幅の部分を切断して個
々の磁気ヘッドとすることを特徴とする磁気ヘッドの製
造方法。 - 【請求項２】 前記切断工程によって切断された部分を
除いた部分に前記薄膜が形成されていることを特徴とす
る請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法によって製造さ
れた磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3312790A JPH05151527A (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | 磁気ヘツドの製造方法及び磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3312790A JPH05151527A (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | 磁気ヘツドの製造方法及び磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05151527A true JPH05151527A (ja) | 1993-06-18 |
Family
ID=18033440
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3312790A Pending JPH05151527A (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | 磁気ヘツドの製造方法及び磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05151527A (ja) |
-
1991
- 1991-11-27 JP JP3312790A patent/JPH05151527A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0125891B1 (en) | Composite type magnetic head and its manufacturing method | |
| US4774616A (en) | Magnetic head having an integrated recording and playback head and an erasure head | |
| JPH0345442B2 (ja) | ||
| JPH0554167B2 (ja) | ||
| JPH05151527A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法及び磁気ヘツド | |
| JP2633097B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| US5016341A (en) | A process for producing magnetic heads of the floating type | |
| JPH06314411A (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH0628617A (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH04113506A (ja) | 浮動型磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2669965B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2680750B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS62262209A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP3104185B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH064813A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0554314A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JP2594168B2 (ja) | 浮動型磁気ヘッド | |
| JPH0778863B2 (ja) | 固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法 | |
| JPH0214411A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS62298908A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS61280009A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS60173714A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS63108510A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH0589414A (ja) | 磁気ヘツドとその製造方法 | |
| JPS618710A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 |