JPH05149498A - 水素処理で使用した使用済み水素の再利用方法 - Google Patents
水素処理で使用した使用済み水素の再利用方法Info
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- JPH05149498A JPH05149498A JP3339840A JP33984091A JPH05149498A JP H05149498 A JPH05149498 A JP H05149498A JP 3339840 A JP3339840 A JP 3339840A JP 33984091 A JP33984091 A JP 33984091A JP H05149498 A JPH05149498 A JP H05149498A
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- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/30—Hydrogen technology
- Y02E60/32—Hydrogen storage
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- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 水素処理で使用した使用済み水素ガスを外部
に放出せずに有効に再利用する方法を提供する。 【構成】 水素吸蔵合金貯蔵装置４に貯蔵してある水素
ガスを使用して、原料に水素ガスを吸収させたのち放出
させる水素処理を施し、上記放出された使用済みの水素
ガスを再び水素吸蔵合金貯蔵装置４に吸蔵し、この吸蔵
した水素ガスを再び放出させて上記水素処理に再利用す
る水素処理で使用した使用済み水素の再利用方法。
に放出せずに有効に再利用する方法を提供する。 【構成】 水素吸蔵合金貯蔵装置４に貯蔵してある水素
ガスを使用して、原料に水素ガスを吸収させたのち放出
させる水素処理を施し、上記放出された使用済みの水素
ガスを再び水素吸蔵合金貯蔵装置４に吸蔵し、この吸蔵
した水素ガスを再び放出させて上記水素処理に再利用す
る水素処理で使用した使用済み水素の再利用方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、原料に水素ガスを吸
収させたのち放出させる水素処理を施し、上記放出され
た使用済みの水素ガスを水素吸蔵合金貯蔵装置に吸蔵
し、この吸蔵した水素ガスを再び放出させて上記水素処
理に再利用する使用済み水素の再利用方法に関するもの
である。
収させたのち放出させる水素処理を施し、上記放出され
た使用済みの水素ガスを水素吸蔵合金貯蔵装置に吸蔵
し、この吸蔵した水素ガスを再び放出させて上記水素処
理に再利用する使用済み水素の再利用方法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】従来、水素処理を利用する方法として、
Ｙを含む希土類元素（以下、Ｒで示す）とＦｅとＢを主
成分とする原料合金を水素ガス雰囲気中または水素ガス
と不活性ガス雰囲気中に保持して上記原料合金に水素ガ
スを吸収させたのち、この水素ガスを放出させ、上記原
料合金中に微細な強磁性相の集合組織を生成させる水素
処理を行い、ついで粉砕または解砕などの方法により希
土類−Ｆｅ−Ｂ系合金磁石粉末を製造する方法（例え
ば、特開昭２−４９０１号公報参照）、さらに、Ｔｉ−
６％Ａｌ−４％Ｖなどに代表されるＴｉ系合金に水素ガ
スを吸収させてβ単相化し粒成長させたのち、脱水素に
より再びα＋β相化し、α＋β相の粗大組織を有する構
造部材を製造する方法（例えば、特開昭３−１３０３５
３号公報参照）などが知られている。
Ｙを含む希土類元素（以下、Ｒで示す）とＦｅとＢを主
成分とする原料合金を水素ガス雰囲気中または水素ガス
と不活性ガス雰囲気中に保持して上記原料合金に水素ガ
スを吸収させたのち、この水素ガスを放出させ、上記原
料合金中に微細な強磁性相の集合組織を生成させる水素
処理を行い、ついで粉砕または解砕などの方法により希
土類−Ｆｅ−Ｂ系合金磁石粉末を製造する方法（例え
ば、特開昭２−４９０１号公報参照）、さらに、Ｔｉ−
６％Ａｌ−４％Ｖなどに代表されるＴｉ系合金に水素ガ
スを吸収させてβ単相化し粒成長させたのち、脱水素に
より再びα＋β相化し、α＋β相の粗大組織を有する構
造部材を製造する方法（例えば、特開昭３−１３０３５
３号公報参照）などが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これら方法で
用いる水素ガスは、一般に、水素ガスボンベまたは液化
水素タンクの水素ガスを使用するために、高圧ガス取締
法の規制を受け、そのためにその取扱いが不便であり、
上記水素処理で使用された使用済みの水素ガスは空気ま
たは不活性ガスにより希釈されるために工業用水素ガス
としてそのまま再利用することはできず、再利用すると
してもフィルターなどを通したのち液化分離装置を通し
て水素を精製し、純度を高めて使用しなければならない
ところからコストがかかりすぎ、したがって、一度使用
した水素ガスはそのまま大気中に放出するかまたは燃焼
せざるをえなかった。
用いる水素ガスは、一般に、水素ガスボンベまたは液化
水素タンクの水素ガスを使用するために、高圧ガス取締
法の規制を受け、そのためにその取扱いが不便であり、
上記水素処理で使用された使用済みの水素ガスは空気ま
たは不活性ガスにより希釈されるために工業用水素ガス
としてそのまま再利用することはできず、再利用すると
してもフィルターなどを通したのち液化分離装置を通し
て水素を精製し、純度を高めて使用しなければならない
ところからコストがかかりすぎ、したがって、一度使用
した水素ガスはそのまま大気中に放出するかまたは燃焼
せざるをえなかった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
かかる観点から、高圧ガス取締法の規制を受けることな
く水素ガスを使用することができ、さらに使用済み水素
を再利用して水素を有効利用すべく研究を行なった結
果、水素処理に水素吸蔵合金貯蔵装置の水素ガスを用
い、上記水素処理終了後放出された使用済みの水素ガス
を水素吸蔵合金貯蔵装置に吸蔵させ、再び放出させて得
られた水素は高純度水素であるところから工業用水素ガ
スとしてそのまま上記水素処理に再利用することができ
るという知見を得たのである。
かかる観点から、高圧ガス取締法の規制を受けることな
く水素ガスを使用することができ、さらに使用済み水素
を再利用して水素を有効利用すべく研究を行なった結
果、水素処理に水素吸蔵合金貯蔵装置の水素ガスを用
い、上記水素処理終了後放出された使用済みの水素ガス
を水素吸蔵合金貯蔵装置に吸蔵させ、再び放出させて得
られた水素は高純度水素であるところから工業用水素ガ
スとしてそのまま上記水素処理に再利用することができ
るという知見を得たのである。
【０００５】この発明は、かかる知見に基づいて成され
たものであって、水素吸蔵合金貯蔵装置に貯蔵してある
水素ガスを使用して、原料に水素ガスを吸収させたのち
放出させる水素処理を施し、上記放出された使用済みの
水素ガスを再び水素吸蔵合金貯蔵装置に吸蔵し、この吸
蔵した水素ガスを再び放出させて上記水素処理に再利用
する使用済み水素の再利用方法に特徴を有するものであ
る。
たものであって、水素吸蔵合金貯蔵装置に貯蔵してある
水素ガスを使用して、原料に水素ガスを吸収させたのち
放出させる水素処理を施し、上記放出された使用済みの
水素ガスを再び水素吸蔵合金貯蔵装置に吸蔵し、この吸
蔵した水素ガスを再び放出させて上記水素処理に再利用
する使用済み水素の再利用方法に特徴を有するものであ
る。
【０００６】上記水素処理において、水素ガスの吸収量
と脱水素量とはほぼ等量の水素の出入りであるために、
水素吸蔵合金貯蔵装置に吸蔵し再び放出させる水素ガス
量は次回の運転時の水素ガス量とほぼ等しく、そのため
に新たな水素ガスの供給はほとんど必要なく、水素ガス
漏れなどのために消失することがあったとしてもその量
は微量であり、上記微量の消失水素ガスの不足量は補充
すればよい。
と脱水素量とはほぼ等量の水素の出入りであるために、
水素吸蔵合金貯蔵装置に吸蔵し再び放出させる水素ガス
量は次回の運転時の水素ガス量とほぼ等しく、そのため
に新たな水素ガスの供給はほとんど必要なく、水素ガス
漏れなどのために消失することがあったとしてもその量
は微量であり、上記微量の消失水素ガスの不足量は補充
すればよい。
【０００７】この発明で使用する水素吸蔵合金貯蔵装置
は、例えば、特開昭５５−１２６１９８号公報にも記載
されている公知の水素吸蔵合金貯蔵装置を使用すること
ができる。この装置は、密閉容器内に一定の間隔をおい
て平行に固定された２枚の多孔板と、上記２枚の多孔板
の外側に、それぞれの多孔板と間隔をおいて設けた加熱
冷却部とからなり、上記多孔板と加熱冷却部との間に形
成した空間に水素貯蔵合金を充填してなるものであり、
上記水素貯蔵合金に貯蔵された水素は、上記加熱冷却部
を加熱または冷却することにより放出または吸蔵され
る。
は、例えば、特開昭５５−１２６１９８号公報にも記載
されている公知の水素吸蔵合金貯蔵装置を使用すること
ができる。この装置は、密閉容器内に一定の間隔をおい
て平行に固定された２枚の多孔板と、上記２枚の多孔板
の外側に、それぞれの多孔板と間隔をおいて設けた加熱
冷却部とからなり、上記多孔板と加熱冷却部との間に形
成した空間に水素貯蔵合金を充填してなるものであり、
上記水素貯蔵合金に貯蔵された水素は、上記加熱冷却部
を加熱または冷却することにより放出または吸蔵され
る。
【０００８】つぎに、この発明の使用済み水素の再利用
方法を図面に基づいて具体的に説明する。図１は、この
発明の使用済み水素の再利用方法で使用する装置の概略
図である。図１において、１は水素処理炉、２は真空排
気装置、３はフィルター、４は水素吸蔵合金貯蔵装置、
５、６、７はバルブ、８はパイプである。これらバルブ
５、６、７は、放出された使用済みの水素ガスの逆流を
防止し、かつ水素ガスの圧力と流量を調節する役目を果
たす。
方法を図面に基づいて具体的に説明する。図１は、この
発明の使用済み水素の再利用方法で使用する装置の概略
図である。図１において、１は水素処理炉、２は真空排
気装置、３はフィルター、４は水素吸蔵合金貯蔵装置、
５、６、７はバルブ、８はパイプである。これらバルブ
５、６、７は、放出された使用済みの水素ガスの逆流を
防止し、かつ水素ガスの圧力と流量を調節する役目を果
たす。
【０００９】真空排気装置２は、水素処理を行う原料に
よって省くことができ、図２にその概略図を示す。この
場合、水素処理炉１内で水素を吸蔵した原料の脱水素
は、水素吸蔵合金貯蔵装置４の水素吸蔵圧との差を利用
して行う。すなわち、原料の水素吸蔵能力よりも水素吸
蔵合金貯蔵装置４の水素吸収力が強い場合には水素吸蔵
合金貯蔵装置４の水素吸収により水素処理炉１内を負圧
にすることができ水素処理炉１内の原料の脱水素を行う
ことができるのである。図２において、１は水素処理
炉、３はフィルター、４は水素吸蔵合金貯蔵装置、５、
６、７はバルブ、８はパイプであり、これらバルブ５、
６、７は、放出された使用済みの水素ガスの逆流を防止
し、かつ水素ガスの圧力と流量を調節する役目を果たす
ことは図１と同じである。
よって省くことができ、図２にその概略図を示す。この
場合、水素処理炉１内で水素を吸蔵した原料の脱水素
は、水素吸蔵合金貯蔵装置４の水素吸蔵圧との差を利用
して行う。すなわち、原料の水素吸蔵能力よりも水素吸
蔵合金貯蔵装置４の水素吸収力が強い場合には水素吸蔵
合金貯蔵装置４の水素吸収により水素処理炉１内を負圧
にすることができ水素処理炉１内の原料の脱水素を行う
ことができるのである。図２において、１は水素処理
炉、３はフィルター、４は水素吸蔵合金貯蔵装置、５、
６、７はバルブ、８はパイプであり、これらバルブ５、
６、７は、放出された使用済みの水素ガスの逆流を防止
し、かつ水素ガスの圧力と流量を調節する役目を果たす
ことは図１と同じである。
【００１０】図１および図２において、水素ガスを充填
した水素吸蔵合金貯蔵装置４の水素ガスを放出し、同時
に、バルブ７を解放することにより水素ガスを水素処理
炉１に供給し、水素処理炉１において、原料に水素ガス
を吸収させたのち脱水素させる水素処理を施し、上記脱
水素により放出された使用済みの水素ガスをパイプ８を
通して真空排気装置２により、あるいは直接水素吸蔵合
金貯蔵装置４で吸引する。
した水素吸蔵合金貯蔵装置４の水素ガスを放出し、同時
に、バルブ７を解放することにより水素ガスを水素処理
炉１に供給し、水素処理炉１において、原料に水素ガス
を吸収させたのち脱水素させる水素処理を施し、上記脱
水素により放出された使用済みの水素ガスをパイプ８を
通して真空排気装置２により、あるいは直接水素吸蔵合
金貯蔵装置４で吸引する。
【００１１】この原料から脱水素により放出された使用
済みの水素ガスには原料などから放出される酸素、水分
など微量の不純ガスや塵、埃などが混入しているのでフ
ィルター３を通して不純ガス、塵、埃などをトラップ除
去して再び水素吸蔵合金貯蔵装置４に供給する。上記水
素吸蔵合金貯蔵装置４に内蔵されている水素吸蔵合金
は、上記脱水素ガスを十分に吸蔵することができる容量
を有することが必要である。
済みの水素ガスには原料などから放出される酸素、水分
など微量の不純ガスや塵、埃などが混入しているのでフ
ィルター３を通して不純ガス、塵、埃などをトラップ除
去して再び水素吸蔵合金貯蔵装置４に供給する。上記水
素吸蔵合金貯蔵装置４に内蔵されている水素吸蔵合金
は、上記脱水素ガスを十分に吸蔵することができる容量
を有することが必要である。
【００１２】
【実施例】この発明を実施例に基づいて具体的に説明す
る。 実施例１ プラズマアーク溶解炉にて溶解し、鋳造して作製したＮ
ｄ：１２．５ａｔ％、Ｃｏ：１１．６ａｔ％、Ｂ：６．
０ａｔ％、Ｚｒ：０．１ａｔ％、Ｇａ：０．４ａｔ％、
残部：Ｆｅからなる成分組成の合金のインゴットを１１
３０℃、２０時間、Ａｒ雰囲気中で均質化処理した。
る。 実施例１ プラズマアーク溶解炉にて溶解し、鋳造して作製したＮ
ｄ：１２．５ａｔ％、Ｃｏ：１１．６ａｔ％、Ｂ：６．
０ａｔ％、Ｚｒ：０．１ａｔ％、Ｇａ：０．４ａｔ％、
残部：Ｆｅからなる成分組成の合金のインゴットを１１
３０℃、２０時間、Ａｒ雰囲気中で均質化処理した。
【００１３】一方、図１に示されるように、水素処理炉
１、真空排気装置２、フィルター３、および水素吸蔵合
金貯蔵装置４をバルブ５、６、７を介してパイプ８で接
続し、上記均質化処理したインゴットを水素処理炉１に
装入し、水素処理炉１内を１気圧に保持するように水素
吸蔵合金を７０℃に加熱して水素ガスを水素吸蔵合金貯
蔵装置４から供給し、上記均質化処理したインゴットを
室温から８３０℃まで昇温し、さらにこの雰囲気中で８
３０℃に３時間保持することにより水素ガスを吸収させ
水素処理を施した。
１、真空排気装置２、フィルター３、および水素吸蔵合
金貯蔵装置４をバルブ５、６、７を介してパイプ８で接
続し、上記均質化処理したインゴットを水素処理炉１に
装入し、水素処理炉１内を１気圧に保持するように水素
吸蔵合金を７０℃に加熱して水素ガスを水素吸蔵合金貯
蔵装置４から供給し、上記均質化処理したインゴットを
室温から８３０℃まで昇温し、さらにこの雰囲気中で８
３０℃に３時間保持することにより水素ガスを吸収させ
水素処理を施した。
【００１４】引き続いてバルブ５を開くと同時に上記８
３０℃に保持しながらバルブ７を閉めて水素ガスの供給
を停止し、真空排気装置２により水素処理炉１内の水素
ガスを排出し、１×１０-1Torr以下まで脱水素を行い、
排出された水素ガスは、フィルター３を通して塵、埃な
どを除去し、水素吸蔵合金貯蔵装置４に供給し水素吸蔵
合金を１０℃に冷却して再び水素ガスを貯蔵した。
３０℃に保持しながらバルブ７を閉めて水素ガスの供給
を停止し、真空排気装置２により水素処理炉１内の水素
ガスを排出し、１×１０-1Torr以下まで脱水素を行い、
排出された水素ガスは、フィルター３を通して塵、埃な
どを除去し、水素吸蔵合金貯蔵装置４に供給し水素吸蔵
合金を１０℃に冷却して再び水素ガスを貯蔵した。
【００１５】この実施例で用いた水素処理炉１は、外熱
式カンタル線ヒータを有する真空菅状炉を用い、水素吸
蔵合金貯蔵装置４には、原子比でＬａＮｉ4.7 Ａｌ0.3
組成の水素吸蔵合金を内蔵し、水素貯蔵量が１５Ｎｍ3
の容量の水素吸蔵合金貯蔵装置を用いた。
式カンタル線ヒータを有する真空菅状炉を用い、水素吸
蔵合金貯蔵装置４には、原子比でＬａＮｉ4.7 Ａｌ0.3
組成の水素吸蔵合金を内蔵し、水素貯蔵量が１５Ｎｍ3
の容量の水素吸蔵合金貯蔵装置を用いた。
【００１６】水素吸蔵合金貯蔵装置４に再び貯蔵された
水素ガスは、水素吸蔵合金貯蔵装置４に内蔵されている
水素吸蔵合金を７０℃に加熱することにより貯蔵した水
素ガスを再び排出し再利用した。かかる水素処理サイク
ルを１０回行ったが、消失した水素ガス量は０．０５Ｎ
ｍ3 であった。
水素ガスは、水素吸蔵合金貯蔵装置４に内蔵されている
水素吸蔵合金を７０℃に加熱することにより貯蔵した水
素ガスを再び排出し再利用した。かかる水素処理サイク
ルを１０回行ったが、消失した水素ガス量は０．０５Ｎ
ｍ3 であった。
【００１７】従来例１ 水素ガス供給源として水素ガスボンベ（図示せず）を用
い、この水素ガスボンベと水素処理炉１とをパイプで接
続し、実施例１と同じ条件で水素処理を１０回行った
が、消失した水素ガス量は５６．６Ｎｍ3 であった。
い、この水素ガスボンベと水素処理炉１とをパイプで接
続し、実施例１と同じ条件で水素処理を１０回行った
が、消失した水素ガス量は５６．６Ｎｍ3 であった。
【００１８】実施例２ Ｔｉ−６wt％Ａｌ−４wt％Ｖの組成を有し、平均粒径：
１２０μｍのＴｉ合金粉末を用意し、上記Ｔｉ合金粉末
を温度：７５０℃、２０００気圧、３時間保持の条件で
熱間静水圧プレスを行い、所定形状の構造部材を作製し
た。
１２０μｍのＴｉ合金粉末を用意し、上記Ｔｉ合金粉末
を温度：７５０℃、２０００気圧、３時間保持の条件で
熱間静水圧プレスを行い、所定形状の構造部材を作製し
た。
【００１９】水素処理炉１として、内熱式グラファイト
ヒータを有する真空ボックス炉を用い、水素吸蔵合金貯
蔵装置４には、原子比で（Ｌａ0.9 Ｍｍ0.1 ）Ｎｉ4.5
Ａｌ 0.5 （ただし、Ｍｍは、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄな
どの希土類元素）組成の水素吸蔵合金を内蔵し、水素貯
蔵量が１５Ｎｍ3 の容量の水素吸蔵合金貯蔵装置を用い
るほかは、実施例１と同じ装置を用いた。
ヒータを有する真空ボックス炉を用い、水素吸蔵合金貯
蔵装置４には、原子比で（Ｌａ0.9 Ｍｍ0.1 ）Ｎｉ4.5
Ａｌ 0.5 （ただし、Ｍｍは、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄな
どの希土類元素）組成の水素吸蔵合金を内蔵し、水素貯
蔵量が１５Ｎｍ3 の容量の水素吸蔵合金貯蔵装置を用い
るほかは、実施例１と同じ装置を用いた。
【００２０】水素吸蔵合金貯蔵装置４内の水素吸蔵合金
を８０℃に加熱することにより貯蔵した水素ガスを放出
し、水素処理炉１内を１気圧の水素ガス雰囲気に保持
し、水素処理炉１内に装入したＴｉ合金構造部材を８５
０℃まで昇温し、さらにこの雰囲気中で８５０℃に１時
間保持することにより水素ガスを吸収させＴｉ合金構造
部材の組織をβ単相化し、ついで、真空排気装置２を作
動させることにより水素処理炉１内を１×１０-4torr以
下まで真空とし、脱水素を行い組織をα＋β相化する水
素処理を施した。
を８０℃に加熱することにより貯蔵した水素ガスを放出
し、水素処理炉１内を１気圧の水素ガス雰囲気に保持
し、水素処理炉１内に装入したＴｉ合金構造部材を８５
０℃まで昇温し、さらにこの雰囲気中で８５０℃に１時
間保持することにより水素ガスを吸収させＴｉ合金構造
部材の組織をβ単相化し、ついで、真空排気装置２を作
動させることにより水素処理炉１内を１×１０-4torr以
下まで真空とし、脱水素を行い組織をα＋β相化する水
素処理を施した。
【００２１】真空排気装置２により吸引排出された水素
ガスは、フィルター３を通してそこに含まれる吸引され
た金属微粒子を除去し、再び水素吸蔵合金貯蔵装置４に
送られ、水素吸蔵合金を１０℃に冷却することにより水
素吸蔵合金貯蔵装置４に水素ガスを貯蔵した。かかる水
素処理を２０回行ったが、消失した水素ガス量は０．１
Ｎｍ3 であった。
ガスは、フィルター３を通してそこに含まれる吸引され
た金属微粒子を除去し、再び水素吸蔵合金貯蔵装置４に
送られ、水素吸蔵合金を１０℃に冷却することにより水
素吸蔵合金貯蔵装置４に水素ガスを貯蔵した。かかる水
素処理を２０回行ったが、消失した水素ガス量は０．１
Ｎｍ3 であった。
【００２２】従来例２ 水素ガス供給源として水素ガスボンベ（図示せず）を用
い、この水素ガスボンベと水素処理炉とをパイプで接続
し、実施例２と同じ条件で水素処理を２０回行ったが、
消失した水素ガス量は２６．６Ｎｍ3 であった。
い、この水素ガスボンベと水素処理炉とをパイプで接続
し、実施例２と同じ条件で水素処理を２０回行ったが、
消失した水素ガス量は２６．６Ｎｍ3 であった。
【００２３】実施例３ ＺｒＣｏ合金を用意した。一方、水素処理炉１として、
外熱式シリコニットヒータを有する真空ボックス炉を用
い、水素吸蔵合金貯蔵装置４には、原子比で（Ｌａ0.7
Ｍｍ0.3 ）Ｎｉ3.2 Ｃｏ0.5 Ｍｎ0.7 Ａｌ0.6 （ただ
し、Ｍｍは、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄなどの希土類元
素）組成の水素吸蔵合金を内蔵し、水素貯蔵量が１５Ｎ
ｍ3 の容量の水素吸蔵合金貯蔵装置を用い、この場合、
真空排気装置を省きバルブ５とフィルター３をパイプ８
で接続した図２に示される装置を用いた。
外熱式シリコニットヒータを有する真空ボックス炉を用
い、水素吸蔵合金貯蔵装置４には、原子比で（Ｌａ0.7
Ｍｍ0.3 ）Ｎｉ3.2 Ｃｏ0.5 Ｍｎ0.7 Ａｌ0.6 （ただ
し、Ｍｍは、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄなどの希土類元
素）組成の水素吸蔵合金を内蔵し、水素貯蔵量が１５Ｎ
ｍ3 の容量の水素吸蔵合金貯蔵装置を用い、この場合、
真空排気装置を省きバルブ５とフィルター３をパイプ８
で接続した図２に示される装置を用いた。
【００２４】水素吸蔵合金貯蔵装置４内の水素吸蔵合金
を２００℃に加熱することにより貯蔵した水素ガスを放
出し、水素処理炉１内を６気圧の水素ガス雰囲気に保持
し、水素処理炉１内に装入したＺｒＣｏ合金を１５０℃
まで昇温し、さらにこの雰囲気中で１５０℃に０．５時
間保持することにより水素ガスを吸収させ３０℃まで降
温し、３０℃で２時間保持して水素化粉砕を行った。
を２００℃に加熱することにより貯蔵した水素ガスを放
出し、水素処理炉１内を６気圧の水素ガス雰囲気に保持
し、水素処理炉１内に装入したＺｒＣｏ合金を１５０℃
まで昇温し、さらにこの雰囲気中で１５０℃に０．５時
間保持することにより水素ガスを吸収させ３０℃まで降
温し、３０℃で２時間保持して水素化粉砕を行った。
【００２５】引き続いて、２００℃に昇温し、ＺｒＣｏ
合金から水素ガスを放出させ、水素吸蔵合金貯蔵装置４
との水素ガス圧力差を利用して水素処理炉１内を１×１
０-1torr以下まで真空とし、脱水素を行った。この場
合、水素吸蔵合金貯蔵装置４の水素ガス吸収能力は２０
０℃におけるＺｒＣｏ合金の水素ガス吸蔵能力よりも極
めて大きいことから水素ガス圧力差が発生し、この水素
ガス圧力差を利用して水素処理炉１内の脱水素を行うこ
とができた。
合金から水素ガスを放出させ、水素吸蔵合金貯蔵装置４
との水素ガス圧力差を利用して水素処理炉１内を１×１
０-1torr以下まで真空とし、脱水素を行った。この場
合、水素吸蔵合金貯蔵装置４の水素ガス吸収能力は２０
０℃におけるＺｒＣｏ合金の水素ガス吸蔵能力よりも極
めて大きいことから水素ガス圧力差が発生し、この水素
ガス圧力差を利用して水素処理炉１内の脱水素を行うこ
とができた。
【００２６】水素処理炉１より放出された水素ガスは、
フィルター３を通してそこに含まれる吸引された金属微
粒子を除去し、再び水素吸蔵合金貯蔵装置４に送られ、
水素吸蔵合金を１０℃に冷却することにより水素吸蔵合
金貯蔵装置４に貯蔵した。かかる水素処理を２０回行っ
たが、消失した水素ガス量は０．２Ｎｍ3 であった。
フィルター３を通してそこに含まれる吸引された金属微
粒子を除去し、再び水素吸蔵合金貯蔵装置４に送られ、
水素吸蔵合金を１０℃に冷却することにより水素吸蔵合
金貯蔵装置４に貯蔵した。かかる水素処理を２０回行っ
たが、消失した水素ガス量は０．２Ｎｍ3 であった。
【００２７】従来例３ 水素ガス供給源として水素ガスボンベ（図示せず）を用
い、この水素ガスボンベと水素処理炉とをパイプで接続
し、実施例３と同じ条件で水素処理を２０回行ったが、
消失した水素ガス量は３１．５Ｎｍ3 であった。
い、この水素ガスボンベと水素処理炉とをパイプで接続
し、実施例３と同じ条件で水素処理を２０回行ったが、
消失した水素ガス量は３１．５Ｎｍ3 であった。
【００２８】
【発明の効果】上記実施例および従来例を対比すると、
従来は水素ガスを大量に消費していたが、この発明の方
法は、水素ガスをほとんど消費しないことが分かる。水
素ガスを消耗することがあってもこの消耗水素ガスは適
宜に補給すれば良い。
従来は水素ガスを大量に消費していたが、この発明の方
法は、水素ガスをほとんど消費しないことが分かる。水
素ガスを消耗することがあってもこの消耗水素ガスは適
宜に補給すれば良い。
【００２９】上述のように、この発明によると、使用し
た水素ガスを外部に放出しないために水素ガスを有効に
再利用することができ、安全性も高く、その取扱いも極
めて簡単であるなどのすぐれた効果を奏するものであ
る。なお、この発明は、上記実施例に示された合金の水
素処理に限定されるものではない。
た水素ガスを外部に放出しないために水素ガスを有効に
再利用することができ、安全性も高く、その取扱いも極
めて簡単であるなどのすぐれた効果を奏するものであ
る。なお、この発明は、上記実施例に示された合金の水
素処理に限定されるものではない。
【図１】この発明の使用済み水素の再利用方法を実施す
るための装置の概略図である。
るための装置の概略図である。
【図２】この発明の使用済み水素の再利用方法を実施す
るための他の装置の概略図である。
るための他の装置の概略図である。
１ 水素処理炉、 ２ 真空排気装置、 ３ フィルター、 ４ 水素吸蔵合金貯蔵装置、 ５、６、７ バルブ、 ８ パイプ
Claims (1)
- 【請求項１】 水素吸蔵合金貯蔵装置に貯蔵してある水
素ガスを使用して、原料に水素ガスを吸収させたのち放
出させる水素処理を施し、上記放出された使用済みの水
素ガスを再び水素吸蔵合金貯蔵装置に吸蔵し、この吸蔵
した水素ガスを再び放出させて上記水素処理に再利用す
ることを特徴とする水素処理で使用した使用済み水素の
再利用方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3339840A JPH05149498A (ja) | 1991-11-28 | 1991-11-28 | 水素処理で使用した使用済み水素の再利用方法 |
| TW081109386A TW205572B (ja) | 1991-11-28 | 1992-11-24 | |
| US07/981,223 US5354040A (en) | 1991-11-28 | 1992-11-25 | Apparatus for closed cycle hydrogenation recovery and rehydrogenation |
| KR1019920022581A KR960010820B1 (ko) | 1991-11-28 | 1992-11-27 | 금속계 재료의 열처리장치 |
| EP92310876A EP0545644A1 (en) | 1991-11-28 | 1992-11-27 | Method for heat treating metallic materials and apparatus therefor |
| CN92114548A CN1035200C (zh) | 1991-11-28 | 1992-11-28 | 金属材料的热处理方法及其装置 |
| US08/246,076 US5505794A (en) | 1991-11-28 | 1994-05-19 | Method for heat treating metallic materials and apparatus therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3339840A JPH05149498A (ja) | 1991-11-28 | 1991-11-28 | 水素処理で使用した使用済み水素の再利用方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05149498A true JPH05149498A (ja) | 1993-06-15 |
Family
ID=18331316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3339840A Pending JPH05149498A (ja) | 1991-11-28 | 1991-11-28 | 水素処理で使用した使用済み水素の再利用方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05149498A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001241599A (ja) * | 2000-02-25 | 2001-09-07 | Japan Metals & Chem Co Ltd | 水素回収・貯蔵容器 |
-
1991
- 1991-11-28 JP JP3339840A patent/JPH05149498A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001241599A (ja) * | 2000-02-25 | 2001-09-07 | Japan Metals & Chem Co Ltd | 水素回収・貯蔵容器 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19990706 |