JPH05144208A - 浮動ヘツドスライダ - Google Patents
浮動ヘツドスライダInfo
- Publication number
- JPH05144208A JPH05144208A JP30446891A JP30446891A JPH05144208A JP H05144208 A JPH05144208 A JP H05144208A JP 30446891 A JP30446891 A JP 30446891A JP 30446891 A JP30446891 A JP 30446891A JP H05144208 A JPH05144208 A JP H05144208A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slider
- bearing rail
- floating
- gas bearing
- head slider
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明の目的は、磁気ディスク装置等で用いら
れている浮動ヘッドスライダにおいて、浮上の動作特性
が良好で耐摺動信頼性に優れかつ、高精度で量産性に適
したスライダを提供することにある。 【構成】図１に示すようにスライダ本体１の端部には、
電磁変換素子２が形成されており、気体軸受レール３が
スライダ本体１に固着されている。
れている浮動ヘッドスライダにおいて、浮上の動作特性
が良好で耐摺動信頼性に優れかつ、高精度で量産性に適
したスライダを提供することにある。 【構成】図１に示すようにスライダ本体１の端部には、
電磁変換素子２が形成されており、気体軸受レール３が
スライダ本体１に固着されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク装置等に
用いる浮動型磁気ヘッドに関し、とくに微小浮上すきま
で安定した浮上特性および信頼性を得るのに適した浮動
ヘッドスライダに関する。
用いる浮動型磁気ヘッドに関し、とくに微小浮上すきま
で安定した浮上特性および信頼性を得るのに適した浮動
ヘッドスライダに関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置は、記録媒体である磁
気ディスクを回転させ、磁気ヘッドと磁気ディスク間の
空気の粘性によって発生する動圧を利用して磁気ヘッド
を一定の隙間で浮上させて記録再生を行なっている。最
近ではディスクが回転停止しているときはヘッドとディ
スクが接触しており、ディスクの回転にともないヘッド
が浮上するいわゆるコンタクト・スタート・ストップ方
式（以下ＣＳＳ方式と略す）が主流となっている。この
ＣＳＳ方式の浮動型ヘッドの気体軸受レールは気体流入
側のテーパー部と平坦部を有し、スライダレール長手方
向に直線形上を有するいわゆるテーパフラット型スライ
ダが主流である。更に最近では特開昭62-231481に示さ
れているように、浮上特性改善のために、スライダレー
ルの形状を気体流出側や中央部を狭くしたいわゆる負圧
スライダが紹介されている。
気ディスクを回転させ、磁気ヘッドと磁気ディスク間の
空気の粘性によって発生する動圧を利用して磁気ヘッド
を一定の隙間で浮上させて記録再生を行なっている。最
近ではディスクが回転停止しているときはヘッドとディ
スクが接触しており、ディスクの回転にともないヘッド
が浮上するいわゆるコンタクト・スタート・ストップ方
式（以下ＣＳＳ方式と略す）が主流となっている。この
ＣＳＳ方式の浮動型ヘッドの気体軸受レールは気体流入
側のテーパー部と平坦部を有し、スライダレール長手方
向に直線形上を有するいわゆるテーパフラット型スライ
ダが主流である。更に最近では特開昭62-231481に示さ
れているように、浮上特性改善のために、スライダレー
ルの形状を気体流出側や中央部を狭くしたいわゆる負圧
スライダが紹介されている。
【０００３】また、従来、スライダ材料として、MnZn，
NiZn等のフェライトを用いたモノリシックヘッドが主流
であったが、最近では高記録密度、高周波磁気特性向上
のためAl2O3・TiC等のセラミック基板上にフォトリソ法
等の半導体プロセスを用いて電磁変換素子を形成した薄
膜ヘッドが採用されている。
NiZn等のフェライトを用いたモノリシックヘッドが主流
であったが、最近では高記録密度、高周波磁気特性向上
のためAl2O3・TiC等のセラミック基板上にフォトリソ法
等の半導体プロセスを用いて電磁変換素子を形成した薄
膜ヘッドが採用されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】一方、高記録密度化に
対応するため、ヘッド浮上量は年々低下してきており、
現在ではテーパフラット型スライダで0.2μm以下のもの
が実用化されており、将来的には0.1μm以下になると予
想されている。このような極低浮上領域では、浮上安定
性，浮上量が周速に依存しにくいという点から負圧スラ
イダが有効と考えられている。しかし、上述した負圧ス
ライダの気体軸受レール部を加工する場合、従来の正圧
スライダと異なり形状が複雑なため、機械加工では困難
であり、ドライエッチング等による方法が取られている
が、気体軸受レールの間は気体軸受作用を発生させない
ために十分に深くする必要がある。実際にはレール形状
にもよるが10〜60μm必要である。さらに、ヘッドとデ
ィスクの間に塵埃が侵入する可能性を考慮すると、溝は
深いほど良い。しかし、これをドライエッチングで行う
には時間を要し、また精度が悪く量産性という点では問
題となっている。
対応するため、ヘッド浮上量は年々低下してきており、
現在ではテーパフラット型スライダで0.2μm以下のもの
が実用化されており、将来的には0.1μm以下になると予
想されている。このような極低浮上領域では、浮上安定
性，浮上量が周速に依存しにくいという点から負圧スラ
イダが有効と考えられている。しかし、上述した負圧ス
ライダの気体軸受レール部を加工する場合、従来の正圧
スライダと異なり形状が複雑なため、機械加工では困難
であり、ドライエッチング等による方法が取られている
が、気体軸受レールの間は気体軸受作用を発生させない
ために十分に深くする必要がある。実際にはレール形状
にもよるが10〜60μm必要である。さらに、ヘッドとデ
ィスクの間に塵埃が侵入する可能性を考慮すると、溝は
深いほど良い。しかし、これをドライエッチングで行う
には時間を要し、また精度が悪く量産性という点では問
題となっている。
【０００５】また、ヘッド浮上量の低下に伴い、前述の
CSS時や、定常浮上時の塵埃介在時の接触等、耐摺動性
の点では厳しくなってきており、ディスクの保護膜やス
ライダの摩耗が問題となってくる。そのため、スライダ
材の選定においてはディスクの保護膜や保護膜表面の潤
滑剤の材料との相性を考慮することが重要になってきて
おり、電磁変換素子の形成工程や加工工程等の量産性と
相反する場合が増えてきた。
CSS時や、定常浮上時の塵埃介在時の接触等、耐摺動性
の点では厳しくなってきており、ディスクの保護膜やス
ライダの摩耗が問題となってくる。そのため、スライダ
材の選定においてはディスクの保護膜や保護膜表面の潤
滑剤の材料との相性を考慮することが重要になってきて
おり、電磁変換素子の形成工程や加工工程等の量産性と
相反する場合が増えてきた。
【０００６】本発明の目的は、浮上の動作特性が良好で
かつ耐摺動信頼性に優れた、高精度で量産性の良い浮動
ヘッドスライダを提供することにある。
かつ耐摺動信頼性に優れた、高精度で量産性の良い浮動
ヘッドスライダを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的は、電磁変換素
子部を有するスライダ本体と、気体軸受レールとを機械
加工で別々に形成して、接着することにより達成され
る。
子部を有するスライダ本体と、気体軸受レールとを機械
加工で別々に形成して、接着することにより達成され
る。
【０００８】さらに、もう一つの課題に関しては、スラ
イダ本体と気体軸受レールの材料を異なったものにする
ことにより達成される。
イダ本体と気体軸受レールの材料を異なったものにする
ことにより達成される。
【０００９】
【作用】本発明によれば電磁変換素子を形成したスライ
ダ本体と、ヘッドに浮上力を発生させる気体軸受けレー
ル部を機械加工で別々に形成して接着するため、マスク
処理、エッチング等の複雑かつ時間を要する工程がいら
ず短時間で精度の良い浮動スライダを完成することが出
来る。
ダ本体と、ヘッドに浮上力を発生させる気体軸受けレー
ル部を機械加工で別々に形成して接着するため、マスク
処理、エッチング等の複雑かつ時間を要する工程がいら
ず短時間で精度の良い浮動スライダを完成することが出
来る。
【００１０】また、スライダ本体と気体軸受けレール部
の材質を線膨張係数の差による反りあるいは密着力低下
が許容できる範囲内で自由に組み合わせられるため、デ
ィスクの保護膜、潤滑膜材料やディスク装置の動作条件
にあい、かつ、加工性、量産性に適したスライダ材を得
ることができる。
の材質を線膨張係数の差による反りあるいは密着力低下
が許容できる範囲内で自由に組み合わせられるため、デ
ィスクの保護膜、潤滑膜材料やディスク装置の動作条件
にあい、かつ、加工性、量産性に適したスライダ材を得
ることができる。
【００１１】
【実施例】以下本発明の一実施例を図面を用いて説明す
る。図１は本発明によるスライダの斜視図である。Al2O
3・TiCのスライダ本体１の端部には、半導体プロセスに
より電磁変換素子２が形成されている。３が気体軸受け
レールで、スライダ本体１にガラス溶着により固着され
ている。３の気体軸受けレールの形状はスライダの浮上
設計にあわせて自由に変えることができる。図１の
(ａ)，(ｂ)は負圧スライダの例であり、(ｃ)は従来の正
圧スライダの例である。
る。図１は本発明によるスライダの斜視図である。Al2O
3・TiCのスライダ本体１の端部には、半導体プロセスに
より電磁変換素子２が形成されている。３が気体軸受け
レールで、スライダ本体１にガラス溶着により固着され
ている。３の気体軸受けレールの形状はスライダの浮上
設計にあわせて自由に変えることができる。図１の
(ａ)，(ｂ)は負圧スライダの例であり、(ｃ)は従来の正
圧スライダの例である。
【００１２】以下に上記スライダの製造方法を図２で説
明する。Al2O3・TiCの基板４上にアルミナ下地膜、パー
マロイ磁性膜、アルミナ保護膜をメッキ、スパッタ成
膜、ホトリソグラフィ、ドライエッチング等の半導体プ
ロセスを用いて積層し、電磁変換素子２を形成する。次
に素子が形成された基板を５のブロック状に切断し、溝
部加工を行ない６のような形状にする。次に個々のチッ
プ毎に切断してスライダ本体１が出来上がる。次に別に
機械加工で形成された気体軸受けレール３をスライダ本
体１にガラス溶着する。つぎに、浮上面（気体軸受けレ
ール部及びスライダ本体の電磁変換素子部）を所定の寸
法になるまで同時に研磨する。ここで、素子部、保護膜
及び気体軸受レール部は各々材料が異なるため、加工に
よる段差が生じやすい。また、気体軸受けレール部及び
スライダ本体の接着による変形が生じる可能性がある。
そこで、加工段差及び変形が生じにくいような各々の材
料選定、寸法設計及び加工条件の設定が必要である。以
上の工程で本発明のスライダが完成する。ここで、基板
４はAl2O3・TiCである必要は無く、たとえばSiO2,ZrO2等
他の材料の中から、適宜素子形成のプロセス、量産性に
適した材料を選ぶことができる。また、気体軸受けレー
ル３は基板４と同じ材料でも異なる材料でも良い。耐摺
動性の点から、磁気ディスクの保護膜、潤滑剤料あるい
は磁気ディスクの動作条件に適した材料を選ぶことがで
きる。例えば、Al2O3・TiC，SiO2 ZrO2，カーボン等があ
げられる。
明する。Al2O3・TiCの基板４上にアルミナ下地膜、パー
マロイ磁性膜、アルミナ保護膜をメッキ、スパッタ成
膜、ホトリソグラフィ、ドライエッチング等の半導体プ
ロセスを用いて積層し、電磁変換素子２を形成する。次
に素子が形成された基板を５のブロック状に切断し、溝
部加工を行ない６のような形状にする。次に個々のチッ
プ毎に切断してスライダ本体１が出来上がる。次に別に
機械加工で形成された気体軸受けレール３をスライダ本
体１にガラス溶着する。つぎに、浮上面（気体軸受けレ
ール部及びスライダ本体の電磁変換素子部）を所定の寸
法になるまで同時に研磨する。ここで、素子部、保護膜
及び気体軸受レール部は各々材料が異なるため、加工に
よる段差が生じやすい。また、気体軸受けレール部及び
スライダ本体の接着による変形が生じる可能性がある。
そこで、加工段差及び変形が生じにくいような各々の材
料選定、寸法設計及び加工条件の設定が必要である。以
上の工程で本発明のスライダが完成する。ここで、基板
４はAl2O3・TiCである必要は無く、たとえばSiO2,ZrO2等
他の材料の中から、適宜素子形成のプロセス、量産性に
適した材料を選ぶことができる。また、気体軸受けレー
ル３は基板４と同じ材料でも異なる材料でも良い。耐摺
動性の点から、磁気ディスクの保護膜、潤滑剤料あるい
は磁気ディスクの動作条件に適した材料を選ぶことがで
きる。例えば、Al2O3・TiC，SiO2 ZrO2，カーボン等があ
げられる。
【００１３】
【発明の効果】本発明によれば電磁変換素子を形成した
スライダ本体と、ヘッドに浮上力を発生させる気体軸受
けレール部を機械加工で別々に形成して接着するため、
マスク処理、エッチング等の複雑かつ時間を要する工程
がいらず短時間で完成することが出来る。
スライダ本体と、ヘッドに浮上力を発生させる気体軸受
けレール部を機械加工で別々に形成して接着するため、
マスク処理、エッチング等の複雑かつ時間を要する工程
がいらず短時間で完成することが出来る。
【００１４】また、スライダ本体と気体軸受けレール部
の材質を線膨張係数の差による反りが許容できる範囲内
で自由に組み合わせられるため、ディスクの保護膜、潤
滑膜材料やディスク装置の動作条件にあったスライダ材
を得ることができる。
の材質を線膨張係数の差による反りが許容できる範囲内
で自由に組み合わせられるため、ディスクの保護膜、潤
滑膜材料やディスク装置の動作条件にあったスライダ材
を得ることができる。
【００１５】またこの反りを逆に利用することにより、
気体軸受けレール中央部を凸にした、いわゆるクラウン
を持たせることも可能である。
気体軸受けレール中央部を凸にした、いわゆるクラウン
を持たせることも可能である。
【図１】（ａ），（ｂ）は本発明の負圧スライダ、
（ｃ）は従来の正圧スライダの斜視図である。
（ｃ）は従来の正圧スライダの斜視図である。
【図２】本発明の１実施例の製造方法を示す図である。
１…スライダ本体 ２…電磁変換素子 ３…気体軸受けレール部 ４…素子形成基板 ５…基板切断後のブロック ６…溝部加工後のブロック ７…気体流入テーパ部
Claims (2)
- 【請求項１】磁気ディスク装置等に用いられる浮動型磁
気ヘッドスライダにおいて、電磁変換素子部を有するス
ライダ本体と、磁気ディスクの回転による気体流によっ
て発生する圧力でスライダ本体を浮上させる気体軸受レ
ールが、別々の部材から成ることを特徴とする浮動ヘッ
ドスライダ。 - 【請求項２】前記スライダ本体と気体軸受けレールの材
料が異なることを特徴とする請求項１記載の浮動ヘッド
スライダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30446891A JPH05144208A (ja) | 1991-11-20 | 1991-11-20 | 浮動ヘツドスライダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30446891A JPH05144208A (ja) | 1991-11-20 | 1991-11-20 | 浮動ヘツドスライダ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05144208A true JPH05144208A (ja) | 1993-06-11 |
Family
ID=17933384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30446891A Pending JPH05144208A (ja) | 1991-11-20 | 1991-11-20 | 浮動ヘツドスライダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05144208A (ja) |
-
1991
- 1991-11-20 JP JP30446891A patent/JPH05144208A/ja active Pending
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