JPH05138531A - 研磨装置 - Google Patents

研磨装置

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JPH05138531A
JPH05138531A JP30604791A JP30604791A JPH05138531A JP H05138531 A JPH05138531 A JP H05138531A JP 30604791 A JP30604791 A JP 30604791A JP 30604791 A JP30604791 A JP 30604791A JP H05138531 A JPH05138531 A JP H05138531A
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JP
Japan
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gloss
polishing
measured
work
metallic mold
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Withdrawn
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JP30604791A
Other languages
English (en)
Inventor
Kensuke Ide
健介 井手
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
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  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 金型研磨装置にて無駄なくかつ充分に研磨を
行なうようにする。 【構成】 研磨工具4付近の光沢を測定し、設定した光
沢と比較し、光沢が不充分ならば研磨続行を指令する構
成を備えたものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プレス金型等を研磨す
るロボット等の研磨装置に関する。
【0002】
【従来の技術とその課題】例えば、プレス金型を操作す
る時、まず型彫り機上で金型形状を削り出す。その後、
人手もしくはロボットにより研磨を行ない滑らかな表面
の金型とする。この場合、ロボットによる研磨を行なう
にあっては、図2に示す如きロボットが用いられる。す
なわち、図2において、制御装置1はロボット本体2の
各関節やアームの動きを制御して、予めプログラムされ
た経路上を移動し、同時に主軸モータ3により回転して
いる研磨工具4を移動させ金型5を研磨する。
【0003】従来の方式では、研磨後の金型表面粗さを
計測する手段を持たないため次の問題がある。 1)制御装置1内のプログラムに従って全工程を完了して
も所望の光沢が得られるまで研磨が行われたか保証でき
ない。 2)逆に既に所望の光沢が得られているにもかかわらず、
研磨を続行し無駄な時間を費やす可能性がある。
【0004】本発明は、上述の問題に鑑み、研磨の不足
や無駄を防止した研磨装置の提供を目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成する本
発明は、予めプログラムされた経路に沿って研磨工具を
移動させることにより研磨を行なう装置において、被研
磨物の光沢を測定する手段、所望の光沢を設定する手
段、上記測定した光沢と設定した光沢とを比較して所望
の光沢が得られるまで研磨を続行する手段を有すること
を特徴とする。
【0006】
【作用】設定した光沢になるまで研磨を行なうことがで
き、しかも設定した光沢になればその領域の研磨が終了
するので、過不足のない研磨が可能となる。
【0007】
【実施例】ここで、図1、図3、図4を参照して本発明
の実施例を説明する。図1は一実施例で、ロボット本体
2には、光沢測定器6が研磨面に向って備えられる。こ
の光沢測定器6は、反射面に対して互いに正反射方向と
なるよう対向して置かれる図3に示す投光器6aと受光
器6bより成る。この場合、研磨面は完全な平面ではな
いため投光器6aからの光は完全なスポット光ではな
く、一定の広がりを持つ光を用い、一方受光器6bもあ
る程度広い領域から集光できるようにする必要があり、
例えば2次元CCDカメラによる受光光量の積分値を求
めるなどの必要がある。光沢測定器6の光沢の測定に当
っては、光沢を受光量/投光量で定義付け、鏡面の場合
を1とする。図3において、反射面が鏡面に近くなる程
受光量β/投光量αが大きくなり1に近づく。
【0008】一方、光沢測定器7では、所望の光沢がオ
ペレータにより設定される。研磨続行指令器8では、光
沢測定器6による研磨工具先端近傍の金型表面の光沢を
取り込んでその平均値を求めると共に、光沢設定器7に
よる光沢と比較する。そして、光沢測定機6による光沢
が設定された光沢より小さい場合には、同一領域の研磨
をひき続き行なうように制御装置1に指令する。制御装
置1内では、研磨続行指令はソフトウェアとして組み込
まれ、研磨続行指令が出された場合はその領域の研磨を
続行し、出されない場合は研磨領域がソフトウェアに従
って移ることになる。
【0009】図4は研磨続行指令器8の動作を示す。す
なわち、測定データの入力と平均値の演算、測定値との
比較、設定値より小さい場合の研磨続行指令出力からな
るフローが実行される。
【0010】こうして、所望の光沢が得られるまで研磨
を続行するため一定品質の金型を無駄な時間なく製作で
きる。
【0011】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、研
磨を行ないながら、光沢を測定し、所望の光沢が得られ
るまで研磨を続行するため、高品質の金型を無人で無駄
時間なく製作できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の構成図。
【図2】従来例の構成図。
【図3】光沢測定の説明図。
【図4】研磨続行指令器によるフローチャート。
【符号の説明】
1 制御装置 2 ロボット本体 4 研磨工具 5 金型 6 光沢測定器 6a 投光器 6b 受光器 7 光沢設定器 8 研磨続行指令器

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 予めプログラムされた経路に沿って研磨
    工具を移動させることにより研磨を行なう装置におい
    て、被研磨物の光沢を測定する手段、所望の光沢を設定
    する手段、上記測定した光沢と設定した光沢とを比較し
    て所望の光沢が得られるまで研磨を続行する手段を有す
    ることを特徴とする研磨装置。
JP30604791A 1991-11-21 1991-11-21 研磨装置 Withdrawn JPH05138531A (ja)

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Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5964643A (en) * 1995-03-28 1999-10-12 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for in-situ monitoring of chemical mechanical polishing operations
US6537133B1 (en) 1995-03-28 2003-03-25 Applied Materials, Inc. Method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations
US6676717B1 (en) 1995-03-28 2004-01-13 Applied Materials Inc Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations
US6719818B1 (en) 1995-03-28 2004-04-13 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations
US6849152B2 (en) 1992-12-28 2005-02-01 Applied Materials, Inc. In-situ real-time monitoring technique and apparatus for endpoint detection of thin films during chemical/mechanical polishing planarization
US6876454B1 (en) 1995-03-28 2005-04-05 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations
US6910944B2 (en) 1995-03-28 2005-06-28 Applied Materials, Inc. Method of forming a transparent window in a polishing pad
US6994607B2 (en) 2001-12-28 2006-02-07 Applied Materials, Inc. Polishing pad with window
US7037403B1 (en) 1992-12-28 2006-05-02 Applied Materials Inc. In-situ real-time monitoring technique and apparatus for detection of thin films during chemical/mechanical polishing planarization
US7086929B2 (en) 1999-01-25 2006-08-08 Applied Materials Endpoint detection with multiple light beams
US7118457B2 (en) 2000-05-19 2006-10-10 Applied Materials, Inc. Method of forming a polishing pad for endpoint detection
US7264536B2 (en) 2003-09-23 2007-09-04 Applied Materials, Inc. Polishing pad with window
US7374477B2 (en) 2002-02-06 2008-05-20 Applied Materials, Inc. Polishing pads useful for endpoint detection in chemical mechanical polishing
US7677959B2 (en) 1999-09-14 2010-03-16 Applied Materials, Inc. Multilayer polishing pad and method of making
US7731566B2 (en) 1995-03-28 2010-06-08 Applied Materials, Inc. Substrate polishing metrology using interference signals
JP2015157349A (ja) * 2014-01-23 2015-09-03 三菱重工業株式会社 押込量調整装置、及び押込量調整装置を備えた研磨装置
JP2016155202A (ja) * 2015-02-25 2016-09-01 三菱重工業株式会社 研磨装置及び研磨方法
WO2018235430A1 (ja) * 2017-06-21 2018-12-27 株式会社大気社 自動研磨システム
WO2019198313A1 (ja) * 2018-04-13 2019-10-17 株式会社大気社 自動研磨システム

Cited By (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7569119B2 (en) 1992-12-28 2009-08-04 Applied Materials, Inc. In-situ real-time monitoring technique and apparatus for detection of thin films during chemical/mechanical polishing planarization
US7024063B2 (en) 1992-12-28 2006-04-04 Applied Materials Inc. In-situ real-time monitoring technique and apparatus for endpoint detection of thin films during chemical/mechanical polishing planarization
US7582183B2 (en) 1992-12-28 2009-09-01 Applied Materials, Inc. Apparatus for detection of thin films during chemical/mechanical polishing planarization
US7037403B1 (en) 1992-12-28 2006-05-02 Applied Materials Inc. In-situ real-time monitoring technique and apparatus for detection of thin films during chemical/mechanical polishing planarization
US6849152B2 (en) 1992-12-28 2005-02-01 Applied Materials, Inc. In-situ real-time monitoring technique and apparatus for endpoint detection of thin films during chemical/mechanical polishing planarization
US6719818B1 (en) 1995-03-28 2004-04-13 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations
US7841926B2 (en) 1995-03-28 2010-11-30 Applied Materials, Inc. Substrate polishing metrology using interference signals
US6875078B2 (en) 1995-03-28 2005-04-05 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations
US6910944B2 (en) 1995-03-28 2005-06-28 Applied Materials, Inc. Method of forming a transparent window in a polishing pad
US6876454B1 (en) 1995-03-28 2005-04-05 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations
US8556679B2 (en) 1995-03-28 2013-10-15 Applied Materials, Inc. Substrate polishing metrology using interference signals
US6860791B2 (en) 1995-03-28 2005-03-01 Applied Materials, Inc. Polishing pad for in-situ endpoint detection
US5964643A (en) * 1995-03-28 1999-10-12 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for in-situ monitoring of chemical mechanical polishing operations
US8506356B2 (en) 1995-03-28 2013-08-13 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations
US7118450B2 (en) 1995-03-28 2006-10-10 Applied Materials, Inc. Polishing pad with window and method of fabricating a window in a polishing pad
US8092274B2 (en) 1995-03-28 2012-01-10 Applied Materials, Inc. Substrate polishing metrology using interference signals
US7775852B2 (en) 1995-03-28 2010-08-17 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations
US7255629B2 (en) 1995-03-28 2007-08-14 Applied Materials, Inc. Polishing assembly with a window
US7731566B2 (en) 1995-03-28 2010-06-08 Applied Materials, Inc. Substrate polishing metrology using interference signals
US6676717B1 (en) 1995-03-28 2004-01-13 Applied Materials Inc Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations
US7011565B2 (en) 1995-03-28 2006-03-14 Applied Materials, Inc. Forming a transparent window in a polishing pad for a chemical mechanical polishing apparatus
US6537133B1 (en) 1995-03-28 2003-03-25 Applied Materials, Inc. Method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations
US7086929B2 (en) 1999-01-25 2006-08-08 Applied Materials Endpoint detection with multiple light beams
US7677959B2 (en) 1999-09-14 2010-03-16 Applied Materials, Inc. Multilayer polishing pad and method of making
US9333621B2 (en) 2000-05-19 2016-05-10 Applied Materials, Inc. Polishing pad for endpoint detection and related methods
US7118457B2 (en) 2000-05-19 2006-10-10 Applied Materials, Inc. Method of forming a polishing pad for endpoint detection
US8485862B2 (en) 2000-05-19 2013-07-16 Applied Materials, Inc. Polishing pad for endpoint detection and related methods
US7429207B2 (en) 2000-05-19 2008-09-30 Applied Materials, Inc. System for endpoint detection with polishing pad
US7198544B2 (en) 2001-12-28 2007-04-03 Applied Materials, Inc. Polishing pad with window
US6994607B2 (en) 2001-12-28 2006-02-07 Applied Materials, Inc. Polishing pad with window
US7374477B2 (en) 2002-02-06 2008-05-20 Applied Materials, Inc. Polishing pads useful for endpoint detection in chemical mechanical polishing
US8858298B2 (en) 2002-07-24 2014-10-14 Applied Materials, Inc. Polishing pad with two-section window having recess
US7547243B2 (en) 2003-09-23 2009-06-16 Applied Materials, Inc. Method of making and apparatus having polishing pad with window
US7264536B2 (en) 2003-09-23 2007-09-04 Applied Materials, Inc. Polishing pad with window
JP2015157349A (ja) * 2014-01-23 2015-09-03 三菱重工業株式会社 押込量調整装置、及び押込量調整装置を備えた研磨装置
JP2016155202A (ja) * 2015-02-25 2016-09-01 三菱重工業株式会社 研磨装置及び研磨方法
WO2018235430A1 (ja) * 2017-06-21 2018-12-27 株式会社大気社 自動研磨システム
JP2019005825A (ja) * 2017-06-21 2019-01-17 株式会社大気社 自動研磨システム
US11717937B2 (en) 2017-06-21 2023-08-08 Taikisha Ltd. Automatic polishing system
WO2019198313A1 (ja) * 2018-04-13 2019-10-17 株式会社大気社 自動研磨システム
JP2019181636A (ja) * 2018-04-13 2019-10-24 株式会社大気社 自動研磨システム
CN110612178A (zh) * 2018-04-13 2019-12-24 株式会社大气社 自动研磨系统
CN110612178B (zh) * 2018-04-13 2021-09-03 株式会社大气社 自动研磨系统
US11660723B2 (en) 2018-04-13 2023-05-30 Taikisha Ltd. Automatic polishing system

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