JPS60177986A - レ−ザ加工装置 - Google Patents
レ−ザ加工装置Info
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- JPS60177986A JPS60177986A JP59032475A JP3247584A JPS60177986A JP S60177986 A JPS60177986 A JP S60177986A JP 59032475 A JP59032475 A JP 59032475A JP 3247584 A JP3247584 A JP 3247584A JP S60177986 A JPS60177986 A JP S60177986A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- fabric
- mirror
- laser beam
- processing device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/082—Scanning systems, i.e. devices involving movement of the laser beam relative to the laser head
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、レーザ加工装置にかかるものであり、特にレ
ーザビームの走査を行うことによって対象物例えば生地
、皮などを加工するレーザ加工装置に関するものである
。
ーザビームの走査を行うことによって対象物例えば生地
、皮などを加工するレーザ加工装置に関するものである
。
第1図には、従来のレーザ加工装置の一例が示されてい
る。この図において、裁断コンベヤ10の左方には、生
地を巻回した原反ロール12のセットされた延反装置1
4が配置されている。また、裁断コンベヤ10の右方に
は、裁断後のスクラップを収容処理するスクラップ処理
装置16が配置されている。加工の対象となる生地18
は、図の矢印F1の如く延反装置14から裁断コンベア
10上に送り出され、スクラップは矢印F2の如くスク
ラップ処理装置16に収容される。裁断コンベア10の
略中央付近には、レーザヘッド20を走査するための駆
動機構22が配置されている。この駆動機構22は、第
1の駆動体24と、第2の駆動体26とによって構成さ
れている。第1の駆動体24は、裁断コンベヤ10の両
側部に一組設けられており、これに対して第2の駆動体
26が矢印F3方向に移動可能に架設されている。すな
わち第2の駆動体26は、第1の駆動体24によって矢
印F6の方向に駆動される。この矢印F3の方向は、生
地18の表面に想定される座標軸Xに一致する。
る。この図において、裁断コンベヤ10の左方には、生
地を巻回した原反ロール12のセットされた延反装置1
4が配置されている。また、裁断コンベヤ10の右方に
は、裁断後のスクラップを収容処理するスクラップ処理
装置16が配置されている。加工の対象となる生地18
は、図の矢印F1の如く延反装置14から裁断コンベア
10上に送り出され、スクラップは矢印F2の如くスク
ラップ処理装置16に収容される。裁断コンベア10の
略中央付近には、レーザヘッド20を走査するための駆
動機構22が配置されている。この駆動機構22は、第
1の駆動体24と、第2の駆動体26とによって構成さ
れている。第1の駆動体24は、裁断コンベヤ10の両
側部に一組設けられており、これに対して第2の駆動体
26が矢印F3方向に移動可能に架設されている。すな
わち第2の駆動体26は、第1の駆動体24によって矢
印F6の方向に駆動される。この矢印F3の方向は、生
地18の表面に想定される座標軸Xに一致する。
第2の駆動体26には、キャリッジ28が装着されてお
り、このキャリッジ28は、第2の駆動体26によって
図の矢印F4の方向に駆動される。
り、このキャリッジ28は、第2の駆動体26によって
図の矢印F4の方向に駆動される。
この矢印F4の方向は、生地18の表面に想定される座
標軸Yに一致する。キャリッジ28には、レーザヘッド
20が固着されている。すなわち、レーザヘッド20は
、第1の駆動体24によって座標軸Xの方向に走査され
、第2の駆動体26によって座標軸Yの方向に走査され
る。
標軸Yに一致する。キャリッジ28には、レーザヘッド
20が固着されている。すなわち、レーザヘッド20は
、第1の駆動体24によって座標軸Xの方向に走査され
、第2の駆動体26によって座標軸Yの方向に走査され
る。
更に、裁断コンベヤ10の近辺には、レーザ発振器30
が配置されており、前述した第2の駆動体26には、プ
リズムないしはミラーからなる光学手段32が配置され
ている。また、レーザ発振器30には、導光手段34が
設けられている。この導光手段34から出たレーザ光は
、光路L1を通過して光学手段32に入射し、ここで光
路が変更された後光路L2を通過してレーザヘッド20
に達する。光路L1の方向は、光学手段32の移動方向
すなわち第2の駆動体26の矢印F3の移動方向に一致
する。また、光路L2の方向は、レーザヘッド20の移
動方向すなわちキャリッジ28の矢印F4の移動方向に
一致する。従って、レーザヘッド20がこのように移動
しても、レーザ発振器30から出力されるレーザ光は良
好にレーザヘッド20に達することができる。
が配置されており、前述した第2の駆動体26には、プ
リズムないしはミラーからなる光学手段32が配置され
ている。また、レーザ発振器30には、導光手段34が
設けられている。この導光手段34から出たレーザ光は
、光路L1を通過して光学手段32に入射し、ここで光
路が変更された後光路L2を通過してレーザヘッド20
に達する。光路L1の方向は、光学手段32の移動方向
すなわち第2の駆動体26の矢印F3の移動方向に一致
する。また、光路L2の方向は、レーザヘッド20の移
動方向すなわちキャリッジ28の矢印F4の移動方向に
一致する。従って、レーザヘッド20がこのように移動
しても、レーザ発振器30から出力されるレーザ光は良
好にレーザヘッド20に達することができる。
次に、上記従来例の動作について説明すると、生地18
は、裁断コンベヤ10の動作とともに移送され、レーザ
ヘッド20の部分を通過する。レーザヘッド20は、駆
動機構22によって走査移動され、これに伴ってレーザ
光か生地18上で一定パターンを描きながら走査が行な
われることとなる。
は、裁断コンベヤ10の動作とともに移送され、レーザ
ヘッド20の部分を通過する。レーザヘッド20は、駆
動機構22によって走査移動され、これに伴ってレーザ
光か生地18上で一定パターンを描きながら走査が行な
われることとなる。
しかしながら、以上のような従来のレーザ加工装置にお
いては、駆動機構22の大きさは、裁断するパターンの
大きさに比例して大きくなり、配置スペースも充分とる
必要が生ずる。このため、レーザ加工装置特に裁断コン
ベヤ10の長さが大となる。また、駆動機構22の動作
に伴う騒音あるいは振動も相当大とならざるを得ない。
いては、駆動機構22の大きさは、裁断するパターンの
大きさに比例して大きくなり、配置スペースも充分とる
必要が生ずる。このため、レーザ加工装置特に裁断コン
ベヤ10の長さが大となる。また、駆動機構22の動作
に伴う騒音あるいは振動も相当大とならざるを得ない。
更に、レーザヘッド20の移動範囲は、裁断パターンと
一致するため、高速で裁断加工を行うことが困難である
という不都合もある。
一致するため、高速で裁断加工を行うことが困難である
という不都合もある。
〔発明の概要]
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、高速
で所定の加工を行うことができるとともに、騒音あるい
は振動を低減し得るレーザ加工装置を提供することをそ
の目的とし、被加工物に対してレーザ光を照射する光学
手段であるミラーが、第1及び第2の軸を中心として所
定のパターンを描くようにするとともに焦点が合うよう
に制御するようにしたレーザ加工装置によって前記目的
を達成しようとするものである。
で所定の加工を行うことができるとともに、騒音あるい
は振動を低減し得るレーザ加工装置を提供することをそ
の目的とし、被加工物に対してレーザ光を照射する光学
手段であるミラーが、第1及び第2の軸を中心として所
定のパターンを描くようにするとともに焦点が合うよう
に制御するようにしたレーザ加工装置によって前記目的
を達成しようとするものである。
以下、本発明にかかるレーザ加工装置を第2図ないし第
5図に示す実施例に基づいて詳細に説明する。
5図に示す実施例に基づいて詳細に説明する。
第2図には、本発明にかかるレーザ加工装置の一実施例
が示されており、この装置の正面から見た概略の構成が
第3図に示されている。これら第2図及び第3図におい
て、加工対象の生地100が支持される支持台であるス
ラットコンベヤ102の左方には、生地100の延反装
置104が配置されている。この延反装置104には、
生地100が巻回された原反ロール106に巻回された
生地100は、延反装置104によってスラットコンベ
ヤ102上に送り出されるようになっている。スラット
コンベヤ102の右方には、スクラップ処理装置108
が配置されており、加工終了後の残余のスクラップが収
容されるようになっている。
が示されており、この装置の正面から見た概略の構成が
第3図に示されている。これら第2図及び第3図におい
て、加工対象の生地100が支持される支持台であるス
ラットコンベヤ102の左方には、生地100の延反装
置104が配置されている。この延反装置104には、
生地100が巻回された原反ロール106に巻回された
生地100は、延反装置104によってスラットコンベ
ヤ102上に送り出されるようになっている。スラット
コンベヤ102の右方には、スクラップ処理装置108
が配置されており、加工終了後の残余のスクラップが収
容されるようになっている。
スラットコンベヤ102の中央付近適宜位置には、略コ
字状のフレーム110が配置されており、更にフレーム
110の水平部の略中央には、レーザヘッド112が固
定されている。このレーザヘッド112は、例えばシン
バル状に構成された第1のミラー駆動部114、第2の
ミラー駆動部116及び集光手段118を各々含んでい
る。レーザヘッド112の光学系の一例は、第4図に示
されている。この図に示すように、レーザ光は、図の一
点鎖線の如く凸面鏡120、凹面鏡122から成るビー
ム拡大手段を介してビーム径が拡大された後集光手段1
18であるレンズ124に入射し、更にはミラー126
によって反射され、生地100に入射するようになって
いる。
字状のフレーム110が配置されており、更にフレーム
110の水平部の略中央には、レーザヘッド112が固
定されている。このレーザヘッド112は、例えばシン
バル状に構成された第1のミラー駆動部114、第2の
ミラー駆動部116及び集光手段118を各々含んでい
る。レーザヘッド112の光学系の一例は、第4図に示
されている。この図に示すように、レーザ光は、図の一
点鎖線の如く凸面鏡120、凹面鏡122から成るビー
ム拡大手段を介してビーム径が拡大された後集光手段1
18であるレンズ124に入射し、更にはミラー126
によって反射され、生地100に入射するようになって
いる。
第1のミラー駆動部114は、ミラー126を、軸PX
を中心として第3図の矢印FA又は第4図の矢印FBの
如く揺動駆動するものであり、この軸PXは、集光手段
118のレンズ124の光軸と一致している、 第2のミラー駆動部116は、ミラー126を、軸PY
を中心として第3図の矢印FC又は第4図の矢印FDの
如く揺動するものである。
を中心として第3図の矢印FA又は第4図の矢印FBの
如く揺動駆動するものであり、この軸PXは、集光手段
118のレンズ124の光軸と一致している、 第2のミラー駆動部116は、ミラー126を、軸PY
を中心として第3図の矢印FC又は第4図の矢印FDの
如く揺動するものである。
すなわち、レーザ光RB(第2図診照)は、凸面鏡12
0、凹面鏡122及びレンズ124によって焦点が生地
100上となるように合わせられるとともに、第1のミ
ラー駆動部114によって生地100上に想定される座
標X方向に走査され、第2のミラー駆動部116によっ
て生地100上に想定される座標Y方向に走査されるよ
うになっている。
0、凹面鏡122及びレンズ124によって焦点が生地
100上となるように合わせられるとともに、第1のミ
ラー駆動部114によって生地100上に想定される座
標X方向に走査され、第2のミラー駆動部116によっ
て生地100上に想定される座標Y方向に走査されるよ
うになっている。
なお、凸面鏡120及び凹面鏡122から成るビーム拡
大手段は、生地100上におけるレーザ光RBのスポッ
ト径dを絞るためのものである。
大手段は、生地100上におけるレーザ光RBのスポッ
ト径dを絞るためのものである。
すなわち、スポット径dは、レンズ124の焦点距離F
ルンズ124に入射するレーザ光のビーム径D、定数k
に対して d=kF/D で表わされる。従って、焦点距離Fを大きくとる場合で
あっても、スポット径dを一定にしようとすると、ビー
ム径DもFに比例して大きくする必要がある。本発明に
おいては、レンズ124の焦点距離Fを大きくし、レー
ザヘッド112と生地100との距離を大とする方がミ
ラー126の揺動の程度を小さくすることができるため
、かかるビーム拡大手段を含む方が好ましい。
ルンズ124に入射するレーザ光のビーム径D、定数k
に対して d=kF/D で表わされる。従って、焦点距離Fを大きくとる場合で
あっても、スポット径dを一定にしようとすると、ビー
ム径DもFに比例して大きくする必要がある。本発明に
おいては、レンズ124の焦点距離Fを大きくし、レー
ザヘッド112と生地100との距離を大とする方がミ
ラー126の揺動の程度を小さくすることができるため
、かかるビーム拡大手段を含む方が好ましい。
次に、スラットコンベヤ102あるいは延反装置104
の近辺には、レーザ発振器128が配置されており、更
に、フレーム110の一方の肩110Aには、プリズム
、ミラーなどから成る光学手段130が配置固定されて
いる。レーザ発振器128と光学手段130の間にはオ
プティカルファイバなどから成る伝送体132が設けら
れており、光学手段130と集光手段118の間には同
様の伝送体134が設けられている。すなわち、伝送体
132,134及び光学手段130によってレーザ発振
器128によって出力されるレーザ光をレーザヘッド1
12に導く伝送手段が構成されている。
の近辺には、レーザ発振器128が配置されており、更
に、フレーム110の一方の肩110Aには、プリズム
、ミラーなどから成る光学手段130が配置固定されて
いる。レーザ発振器128と光学手段130の間にはオ
プティカルファイバなどから成る伝送体132が設けら
れており、光学手段130と集光手段118の間には同
様の伝送体134が設けられている。すなわち、伝送体
132,134及び光学手段130によってレーザ発振
器128によって出力されるレーザ光をレーザヘッド1
12に導く伝送手段が構成されている。
次に、スラットコンベア102は、一部が円弧状にわん
曲しており、これによって加工わん曲部102Aが形成
されている。この加工わn曲部102Aは、ミラー12
6の軸PXの回転中心を中心点とした半径Rの円周の一
部となるように構成されている(第3図参照)。このた
め、第1のミラー駆動部114によりミラー126を軸
PXに対して回転することによってレーザ光RBを座標
軸X方向に走査する場合にあっては、ミラー126と生
地100との光学的距離が変化しないため、焦点がずれ
るおそれがない。
曲しており、これによって加工わん曲部102Aが形成
されている。この加工わn曲部102Aは、ミラー12
6の軸PXの回転中心を中心点とした半径Rの円周の一
部となるように構成されている(第3図参照)。このた
め、第1のミラー駆動部114によりミラー126を軸
PXに対して回転することによってレーザ光RBを座標
軸X方向に走査する場合にあっては、ミラー126と生
地100との光学的距離が変化しないため、焦点がずれ
るおそれがない。
次に、第2図に示すように、スラットコンベヤ102の
側部であってスクラップ処理装置16の近辺には、加工
制御装置200が配置されており、その構成例は第5図
に示されている。
側部であってスクラップ処理装置16の近辺には、加工
制御装置200が配置されており、その構成例は第5図
に示されている。
この第5図において、加工制御装置200は、生産管理
、パターンメーキング、グレーディングあるいはマーキ
ングの処理を行う前段の処理装置300と、その他の直
接的な加工処理を行う後段の処理装置400とによって
構成されている。処理装置300には、紙テープなどの
データ入力手段202が接続されている。
、パターンメーキング、グレーディングあるいはマーキ
ングの処理を行う前段の処理装置300と、その他の直
接的な加工処理を行う後段の処理装置400とによって
構成されている。処理装置300には、紙テープなどの
データ入力手段202が接続されている。
処理装置300は、生産管理部302、パターンメーキ
ング・グレーディング部(以下単に「PG部」と略称す
る)304及びマーキング部306によって構成されて
いる。これらのうち、生産管理部302は、加工作業全
体の生産数量、種類など生産管理に必要々データを基礎
として加工処理を指令する機能を有する。PG部304
では、生産管理部302から入力されるデータに基づい
て、パターンメーキング及びグレーディングの作業を行
い、具体的なパターンに関するデータを算定する。パタ
ーンメーキングとは、具体的な加工のパターンの作成で
あり、グレーディングとは、標準のパターンから各サイ
ズに応じたバクエーションのパターンを作成することで
ある。このPG部304のデータは、マーキング部30
6に入力される。マーキング部306では、入力された
データに基づいて、パターンを生地100上に歩留りよ
く配列する処理が行なわれる。このマーキング部306
のデータは、後段の処理装置400に入力される。処理
装置400では、マーキング部306から入力されるデ
ータに基づいてレーザ光の走査が行なわれ、生地100
の裁断加工が行なわれる。
ング・グレーディング部(以下単に「PG部」と略称す
る)304及びマーキング部306によって構成されて
いる。これらのうち、生産管理部302は、加工作業全
体の生産数量、種類など生産管理に必要々データを基礎
として加工処理を指令する機能を有する。PG部304
では、生産管理部302から入力されるデータに基づい
て、パターンメーキング及びグレーディングの作業を行
い、具体的なパターンに関するデータを算定する。パタ
ーンメーキングとは、具体的な加工のパターンの作成で
あり、グレーディングとは、標準のパターンから各サイ
ズに応じたバクエーションのパターンを作成することで
ある。このPG部304のデータは、マーキング部30
6に入力される。マーキング部306では、入力された
データに基づいて、パターンを生地100上に歩留りよ
く配列する処理が行なわれる。このマーキング部306
のデータは、後段の処理装置400に入力される。処理
装置400では、マーキング部306から入力されるデ
ータに基づいてレーザ光の走査が行なわれ、生地100
の裁断加工が行なわれる。
次に、後段の処理装置400について説明する。
この処理装置400は、裁断制御部402を中心に構成
されており、裁断制御部402は、発振器走査盤404
、ヘッド駆動走査盤406及びサーボコントローラ40
8に各々接続されている。また、裁断制御部402は、
延反装置104、スクラップ処理装置108及びコンベ
ヤ駆動装置410にも各々接続されている。これらのう
ち、発振器操作盤404は、レーザ発振器128に接続
されており、これによってレーザ発振器128のレーザ
発振動作が制御される。発振器操作盤404は、裁断制
御部402による指令の他、オペレータのマニアルによ
る操作によっても動作するようになっている。
されており、裁断制御部402は、発振器走査盤404
、ヘッド駆動走査盤406及びサーボコントローラ40
8に各々接続されている。また、裁断制御部402は、
延反装置104、スクラップ処理装置108及びコンベ
ヤ駆動装置410にも各々接続されている。これらのう
ち、発振器操作盤404は、レーザ発振器128に接続
されており、これによってレーザ発振器128のレーザ
発振動作が制御される。発振器操作盤404は、裁断制
御部402による指令の他、オペレータのマニアルによ
る操作によっても動作するようになっている。
ヘッド駆動操作盤406は、ヘッド駆動装置412に接
続されている。このヘッド駆動装置412には、第1の
ミラー駆動部114、第2のミラー駆動部116及び焦
点調整部414が含まれている。焦点調整部414は、
第4図に示すレンズ124を、光軸方向に移動せしめ、
これによって、レーザ光RBの走査時におけるY方向(
第2図参照)の焦点ずれが調整されるようになっている
。なお、ヘッド駆動操作盤406も裁断制御部402に
よる指令の他、オペレータのマニアルによる操作によっ
ても動作するようになっている。
続されている。このヘッド駆動装置412には、第1の
ミラー駆動部114、第2のミラー駆動部116及び焦
点調整部414が含まれている。焦点調整部414は、
第4図に示すレンズ124を、光軸方向に移動せしめ、
これによって、レーザ光RBの走査時におけるY方向(
第2図参照)の焦点ずれが調整されるようになっている
。なお、ヘッド駆動操作盤406も裁断制御部402に
よる指令の他、オペレータのマニアルによる操作によっ
ても動作するようになっている。
サーボコントローラ408は、ヘッド駆動装置412に
接続されている。すなわち、ヘッド駆動装置412は、
ヘッド駆動操作盤406及びサーボコントローラ408
から入力されるデータに基づいて駆動され、レーザ光R
Bの走査が制御されるようになっている。
接続されている。すなわち、ヘッド駆動装置412は、
ヘッド駆動操作盤406及びサーボコントローラ408
から入力されるデータに基づいて駆動され、レーザ光R
Bの走査が制御されるようになっている。
コンベヤ駆動装置410は、スラットコンベヤ102を
駆動するためのものである。このコンベヤ駆動装置41
0、延反装置104及びスクラップ処理装置108は、
裁断制御部402の指令に基づき、一定の対応をもって
動作し、生地100が加工の程度に応じてスラットコン
ベヤ102上に送り出されるようになっている。
駆動するためのものである。このコンベヤ駆動装置41
0、延反装置104及びスクラップ処理装置108は、
裁断制御部402の指令に基づき、一定の対応をもって
動作し、生地100が加工の程度に応じてスラットコン
ベヤ102上に送り出されるようになっている。
次に、上記実施例の全体的動作について説明する。
まず、処理装置300から入力されるデータに基づき裁
断制御部402は延反装置104及びコンベヤ駆動装置
410を動作させ、これによってスラットコンベヤ10
2上に原反ロール106から生地100が送り出される
。
断制御部402は延反装置104及びコンベヤ駆動装置
410を動作させ、これによってスラットコンベヤ10
2上に原反ロール106から生地100が送り出される
。
他方、裁断制御部402から発振器操作盤404に動作
指令が出力され、レーザ発振器128が発振動作を開始
し、レーザ光は伝送体132,134を介してレーザヘ
ッド112に達する。レーザ光は、前述したビーム拡大
手段及びレンズ124を通過するとともに、ミラー12
6によって生地100上に焦点が合うように反射される
。
指令が出力され、レーザ発振器128が発振動作を開始
し、レーザ光は伝送体132,134を介してレーザヘ
ッド112に達する。レーザ光は、前述したビーム拡大
手段及びレンズ124を通過するとともに、ミラー12
6によって生地100上に焦点が合うように反射される
。
このとき、裁断制御部402からヘッド駆動操作盤40
6及びサーボコントローラ408に各々動作指令が出力
され、ヘッド駆動装置412が駆動される。すなわち、
第1及び第2のミラー駆動部114,116によってミ
ラー126が軸PXPYを中心として揺動し、前段の処
理装置300によりめられたパターン及びマーキングに
従ってレーザ光RBが生地100上で走査される(第2
図参照)。また、焦点調整部414によってレンズ12
4が、レーザ光RBの走査に対応しつつ光軸方向に移動
し、該レンズ124と生地100との光学的距離が一定
となるように制御される。
6及びサーボコントローラ408に各々動作指令が出力
され、ヘッド駆動装置412が駆動される。すなわち、
第1及び第2のミラー駆動部114,116によってミ
ラー126が軸PXPYを中心として揺動し、前段の処
理装置300によりめられたパターン及びマーキングに
従ってレーザ光RBが生地100上で走査される(第2
図参照)。また、焦点調整部414によってレンズ12
4が、レーザ光RBの走査に対応しつつ光軸方向に移動
し、該レンズ124と生地100との光学的距離が一定
となるように制御される。
これによって生地100は、焦点が合った状態において
すなわちレーザ光RHのスポット径が最小の状態で裁断
されることとなる。
すなわちレーザ光RHのスポット径が最小の状態で裁断
されることとなる。
以上の動作により生地100が裁断され、生地100は
、スラットコンベヤ102によってスクラップ処理装置
108の方向に送られる。このとき、裁断制御部402
の動作指令に基づいてスクラップ処理装置108が駆動
される。裁断された生地100A,100B、は、オペ
レータによってスラットコンベヤ102上から収集され
、スクラップは、スクラップ処理装置108内に収容さ
れる。
、スラットコンベヤ102によってスクラップ処理装置
108の方向に送られる。このとき、裁断制御部402
の動作指令に基づいてスクラップ処理装置108が駆動
される。裁断された生地100A,100B、は、オペ
レータによってスラットコンベヤ102上から収集され
、スクラップは、スクラップ処理装置108内に収容さ
れる。
なお、上記実施例では、第1及び第2のミラー駆動部1
14,116によってレーザ光RBを直交する座標軸X
,Y方向に走査することとしたが、レーザ光RBを平面
的ないしは2次元的に操作できれば十分である。
14,116によってレーザ光RBを直交する座標軸X
,Y方向に走査することとしたが、レーザ光RBを平面
的ないしは2次元的に操作できれば十分である。
また、上記実施例では、生地100を座標軸Xの方向に
わん曲させたが、これをY方向にわん曲させるようにし
てもよい。この場合には、焦点調整部414によるレン
ズ124の移動制御をX方向に対応するようにする。更
に生地100を第1図に示すようにわん曲させない場合
には、X,Y方向のレーザ光RBの走査に対応するよう
にレンズ124の移動制御を行うようにする。
わん曲させたが、これをY方向にわん曲させるようにし
てもよい。この場合には、焦点調整部414によるレン
ズ124の移動制御をX方向に対応するようにする。更
に生地100を第1図に示すようにわん曲させない場合
には、X,Y方向のレーザ光RBの走査に対応するよう
にレンズ124の移動制御を行うようにする。
更に、加工対象物としては、生地、皮等の他、金属,プ
ラスチックなどでもよいが、上記実施例では、可とう性
のあるものが好ましいことはいうまでもない。このよう
な性質を有しない場合には、スラットコンベヤ102を
第1図に示すように平坦に構成することとなる。更に、
加工対象物が比較的小面積のものであるときは、直接ス
ラットコンベヤ102上に載せるようにする。
ラスチックなどでもよいが、上記実施例では、可とう性
のあるものが好ましいことはいうまでもない。このよう
な性質を有しない場合には、スラットコンベヤ102を
第1図に示すように平坦に構成することとなる。更に、
加工対象物が比較的小面積のものであるときは、直接ス
ラットコンベヤ102上に載せるようにする。
以上説明したように、本発明によるレーザ加工装置によ
れば、被加工物に対してレーザ光を照射する光学手段を
、所定の軸を中心として揺動せしめるとともに、かかる
動作を加工パターンに基づいて制御しつつ行うこととし
たので、高速でシャープな加工を行うことができるとと
もに、騒音あるいは振動が低減されるという効果がある
。
れば、被加工物に対してレーザ光を照射する光学手段を
、所定の軸を中心として揺動せしめるとともに、かかる
動作を加工パターンに基づいて制御しつつ行うこととし
たので、高速でシャープな加工を行うことができるとと
もに、騒音あるいは振動が低減されるという効果がある
。
第1図は従来のレーザ加工装置の一例を示す斜視図、第
2図は本発明にかかるレーザ加工装置の一実施例を示す
斜視図、第3図は第2図に示す装置の簡略化した正面図
、第4図はレーザヘッドの構成例を示す説明図、第5図
は加工制御装置の一実施例を示すブロック図である。 図において、100は生地、102はスラットコンベヤ
、112はレーザヘッド、114,116はミラー駆動
部、118は集光手段、120は凸面鏡、122は凹面
鏡、124はレンズ、126はミラー、128はレーザ
発振器、102Aはわん曲部、200は加工制御装置、
PX,PYは軸、RBはレーザ光である。なお、各図中
同一符号は、同一又は相当部分を示すものとする。 出願人 工業技術院長 川 1)裕 部手続補正書(自
発) 昭和t7年 と月 4日 特許庁長官 殿 1、事件の表示 特願昭59−32475号2、 発明
の名称 レーザ加工装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 明細書の「発明の詳細な説明」の欄並びに図面。 5 補正の内容 (1)明細書第8頁第3行目の「シンバル」を「ジンバ
ル」と補正する。 (2)明細書第10頁第9行目ないし第10行目の「オ
プティカルファイバ」を「ブリ、イカ;\ミラーあるい
はオプチカルファイバー」と補正する。 (3)図面の第2図を別紙補正図面のとおり補正する。 以上
2図は本発明にかかるレーザ加工装置の一実施例を示す
斜視図、第3図は第2図に示す装置の簡略化した正面図
、第4図はレーザヘッドの構成例を示す説明図、第5図
は加工制御装置の一実施例を示すブロック図である。 図において、100は生地、102はスラットコンベヤ
、112はレーザヘッド、114,116はミラー駆動
部、118は集光手段、120は凸面鏡、122は凹面
鏡、124はレンズ、126はミラー、128はレーザ
発振器、102Aはわん曲部、200は加工制御装置、
PX,PYは軸、RBはレーザ光である。なお、各図中
同一符号は、同一又は相当部分を示すものとする。 出願人 工業技術院長 川 1)裕 部手続補正書(自
発) 昭和t7年 と月 4日 特許庁長官 殿 1、事件の表示 特願昭59−32475号2、 発明
の名称 レーザ加工装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 明細書の「発明の詳細な説明」の欄並びに図面。 5 補正の内容 (1)明細書第8頁第3行目の「シンバル」を「ジンバ
ル」と補正する。 (2)明細書第10頁第9行目ないし第10行目の「オ
プティカルファイバ」を「ブリ、イカ;\ミラーあるい
はオプチカルファイバー」と補正する。 (3)図面の第2図を別紙補正図面のとおり補正する。 以上
Claims (3)
- (1)支持台上に支持された被加工物に対し、レーザ光
を2次元的に走査しつつ照射することによって被加工物
を加工するレーザ加工装置において、該装置はレーザ光
源から出力されるレーザ光を被加工物に対して集光照射
する光学手段を含み、該光学手段はレーザ光の集光を行
う集光手段と、レーザ光の反射を行う反射手段とを含み
、該反射手段は第1及び第2の軸に対する揺動手段を備
え、かつ、第1又は第2の軸の一方は、前記集光手段の
光軸と一致し、被加工物上においてレーザ光が焦点を調
整しつつ所定のパターンを描くように制御する制御手段
を有することを特徴とするレーザ加工装置。 - (2)前記集光手段は、レーザ光の径を拡大するビーム
拡大手段を含む集光手段である特許請求の範囲第1項記
載のレーザ加工装置。 - (3)前記支持台は前記第1又は第2の軸の中心に対す
る円弧を形成するわん曲部を含む支持台であり、前記制
御手段は、該支持台のわん曲部のわん曲方向と直交する
方向に対してレーザ光の焦点を調整する制御手段である
特許請求の範囲第1項又は第2項記載のレーザ加工装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59032475A JPS60177986A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | レ−ザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59032475A JPS60177986A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | レ−ザ加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60177986A true JPS60177986A (ja) | 1985-09-11 |
JPH0243594B2 JPH0243594B2 (ja) | 1990-09-28 |
Family
ID=12360000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59032475A Granted JPS60177986A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | レ−ザ加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60177986A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02107433A (ja) * | 1988-09-07 | 1990-04-19 | Lpf Verpakkingen Bv | 包装材料に刻み目を付与する方法 |
CN112620980A (zh) * | 2021-01-22 | 2021-04-09 | 何元健 | 一种亚克力板激光切割装置 |
EP3907317A1 (en) * | 2020-05-08 | 2021-11-10 | Jeanología, S.L. | Device and process for the laser treatment of trousers, comprising two mannequins |
CN116079243A (zh) * | 2023-04-06 | 2023-05-09 | 科大乾延科技有限公司 | 一种元宇宙全系显示控制系统及其控制方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4830492U (ja) * | 1971-08-17 | 1973-04-13 | ||
JPS51135492A (en) * | 1975-05-20 | 1976-11-24 | Mitsubishi Electric Corp | Laser material processing unit |
JPS52127391U (ja) * | 1976-03-25 | 1977-09-28 | ||
JPS52141695U (ja) * | 1976-04-22 | 1977-10-27 |
-
1984
- 1984-02-24 JP JP59032475A patent/JPS60177986A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4830492U (ja) * | 1971-08-17 | 1973-04-13 | ||
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EP3907317A1 (en) * | 2020-05-08 | 2021-11-10 | Jeanología, S.L. | Device and process for the laser treatment of trousers, comprising two mannequins |
US12030141B2 (en) | 2020-05-08 | 2024-07-09 | Jeanologia, S. L. | Device and process for the laser treatment of trousers, comprising two mannequins |
CN112620980A (zh) * | 2021-01-22 | 2021-04-09 | 何元健 | 一种亚克力板激光切割装置 |
CN116079243A (zh) * | 2023-04-06 | 2023-05-09 | 科大乾延科技有限公司 | 一种元宇宙全系显示控制系统及其控制方法 |
CN116079243B (zh) * | 2023-04-06 | 2023-08-25 | 科大乾延科技有限公司 | 一种基于激光雕刻的显示控制系统 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0243594B2 (ja) | 1990-09-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |