JPH05138346A - 真空アーク処理装置 - Google Patents
真空アーク処理装置Info
- Publication number
- JPH05138346A JPH05138346A JP30041091A JP30041091A JPH05138346A JP H05138346 A JPH05138346 A JP H05138346A JP 30041091 A JP30041091 A JP 30041091A JP 30041091 A JP30041091 A JP 30041091A JP H05138346 A JPH05138346 A JP H05138346A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 特にコスト高になることなく、真空アークの
点火を有効に行う。 【構成】 真空アーク電源７の正極に接続された陽極４
と連続して移動する被処理材料からなる陰極１を有し、
陽極４と陰極１の間に直流アーク放電を生起させる、真
空アーク処理装置において、接触子８を陰極１の側面に
間欠的に接触させて真空アークを点火し、また、ＣＰＵ
１０１は、モータ１２およびモータドライバ１６を介し
て、接触子８の回転数を制御する。
点火を有効に行う。 【構成】 真空アーク電源７の正極に接続された陽極４
と連続して移動する被処理材料からなる陰極１を有し、
陽極４と陰極１の間に直流アーク放電を生起させる、真
空アーク処理装置において、接触子８を陰極１の側面に
間欠的に接触させて真空アークを点火し、また、ＣＰＵ
１０１は、モータ１２およびモータドライバ１６を介し
て、接触子８の回転数を制御する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空中で陽極と陰極の
間に直流アーク放電を生起させて処理を行う真空アーク
処理装置に関する。
間に直流アーク放電を生起させて処理を行う真空アーク
処理装置に関する。
【０００２】
【従来技術】真空アーク技術は、電気回路部品である真
空遮断機に広く用いられている技術である。近年、真空
アークを材料プロセスに応用する試みが行われている。
応用例としては、蒸着，イオンプレーティング，および
酸化被膜の除去（デスケール）などである。
空遮断機に広く用いられている技術である。近年、真空
アークを材料プロセスに応用する試みが行われている。
応用例としては、蒸着，イオンプレーティング，および
酸化被膜の除去（デスケール）などである。
【０００３】真空アーク処理装置では、真空アーク電極
間にアークを点火させるが、この点火方法としては、両
電極を接触させた状態で電流を流しておき、その後、両
電極を引き離すという機械的引き離し方法や、陰極表面
を局所的に加熱する方法がとられていた。
間にアークを点火させるが、この点火方法としては、両
電極を接触させた状態で電流を流しておき、その後、両
電極を引き離すという機械的引き離し方法や、陰極表面
を局所的に加熱する方法がとられていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、機械的引き離
し方法を使用して、被処理物となる板の表面を陰極と
し、この陰極と真空アーク電極あるいは補助電極を接触
させた後引き離す場合には、板表面の性状が悪化してし
まうという問題を生じる。また、この方法では間欠的に
何度も接触させて点火することは困難である。
し方法を使用して、被処理物となる板の表面を陰極と
し、この陰極と真空アーク電極あるいは補助電極を接触
させた後引き離す場合には、板表面の性状が悪化してし
まうという問題を生じる。また、この方法では間欠的に
何度も接触させて点火することは困難である。
【０００５】一方、陰極表面を局所的に加熱する方法で
は、加熱源がレーザー，プラズマ，電子線などになるた
め設備費用が高くなるという問題がある。
は、加熱源がレーザー，プラズマ，電子線などになるた
め設備費用が高くなるという問題がある。
【０００６】本発明は、上記問題点を解決するため、特
にコスト高になることなく、真空アークの点火を有効に
行うことを目的とする。
にコスト高になることなく、真空アークの点火を有効に
行うことを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本願の第１発明は、真空
アーク電源（７）の正極に接続された陽極（４）；連続
して移動する被処理材料からなる陰極（１）；陰極
（１）の側面に間欠的に接触して真空アークを点火する
点火手段（８）；点火手段（８）を回転させる駆動手段
（１２，１６）；および、駆動手段（１２，１６）を介
して、点火手段（８）の回転数を制御する駆動制御手段
（１０１）；を備える。なお、カッコ内の記号は、図面
に示し後述する実施例の対応要素又は対応事項を示す。
アーク電源（７）の正極に接続された陽極（４）；連続
して移動する被処理材料からなる陰極（１）；陰極
（１）の側面に間欠的に接触して真空アークを点火する
点火手段（８）；点火手段（８）を回転させる駆動手段
（１２，１６）；および、駆動手段（１２，１６）を介
して、点火手段（８）の回転数を制御する駆動制御手段
（１０１）；を備える。なお、カッコ内の記号は、図面
に示し後述する実施例の対応要素又は対応事項を示す。
【０００８】本願の第２発明は、真空アーク電源（７）
の正極に接続された陽極（４）と連続して移動する被処
理材料からなる陰極（１）を有し、陽極（４）と陰極
（１）の間に直流アーク放電を生起させる、真空アーク
処理装置において、点火手段（８）を所定の間隔で回転
させ、陰極（１）の側面に間欠的に接触させて真空アー
クを点火する。
の正極に接続された陽極（４）と連続して移動する被処
理材料からなる陰極（１）を有し、陽極（４）と陰極
（１）の間に直流アーク放電を生起させる、真空アーク
処理装置において、点火手段（８）を所定の間隔で回転
させ、陰極（１）の側面に間欠的に接触させて真空アー
クを点火する。
【０００９】
【作用】本願の発明によれば、真空アーク電源（７）の
正極に接続された陽極（４）と連続して移動する被処理
材料からなる陰極（１）を有し、陽極（４）と陰極
（１）の間に直流アーク放電を生起させる、真空アーク
処理装置において、点火手段（８）を陰極（１）の表面
ではなく、陰極（１）の側面に間欠的に接触させて真空
アークを点火するので、表面性状を悪化させることはな
い。また、駆動制御手段（１０１）は、駆動手段（１
２，１６）を介して、点火手段（８）の回転数を制御す
るので、例えば、陰極（１）の搬送速度に同期させて一
定間隔で、しかも間欠的に点火しうる。よって、連続的
かつ高速で繰り返して点火が可能となる。本発明の他の
目的および特徴は図面を参照した以下の実施例の説明に
より明らかになろう。
正極に接続された陽極（４）と連続して移動する被処理
材料からなる陰極（１）を有し、陽極（４）と陰極
（１）の間に直流アーク放電を生起させる、真空アーク
処理装置において、点火手段（８）を陰極（１）の表面
ではなく、陰極（１）の側面に間欠的に接触させて真空
アークを点火するので、表面性状を悪化させることはな
い。また、駆動制御手段（１０１）は、駆動手段（１
２，１６）を介して、点火手段（８）の回転数を制御す
るので、例えば、陰極（１）の搬送速度に同期させて一
定間隔で、しかも間欠的に点火しうる。よって、連続的
かつ高速で繰り返して点火が可能となる。本発明の他の
目的および特徴は図面を参照した以下の実施例の説明に
より明らかになろう。
【００１０】
【実施例】図１に、本発明の一実施例の連続式真空アー
クデスケール装置を示す。本装置は、帯状の被処理物
（材料）１をアンコイラー２から巻解き、アーク電極
（陽極）４の下面を通過させるときに真空アークでデス
ケールを行い、その後、コイラー３に巻取る装置であ
る。本実施例ではアーク電極４を３ユニット設定した。
アーク電極４は、銅，又は黄銅などの導電体により構成
されアーク電源７の正極側に接続されている。アーク電
極４と被処理物１の間隔は６０〜１００ｍｍである。図
において、コンダクタロール５は陰極とする被処理物１
に電気を供給するために設けられている。コンダクタロ
ール５はアースに接続されており、アーク電流は被処理
物（陰極）１からコンダクタロール５により回収されア
ーク電源７に帰る。なお、被処理物（陰極）１はアース
されている。また、差圧シール室６は真空状態を維持す
るために設けられている。これにより真空アーク処理室
２０の真空度は５Ｐａ程度である。また、アーク電極４
の上流部（被処理物１の搬送方向と逆方向）には、高電
圧（又は高周波電圧）を供給する点火電源１０に接続さ
れ、回転する接触子８がそれぞれ設置されている。な
お、符号９は被処理物１の搬送にしたがって回転するガ
イドロールである。
クデスケール装置を示す。本装置は、帯状の被処理物
（材料）１をアンコイラー２から巻解き、アーク電極
（陽極）４の下面を通過させるときに真空アークでデス
ケールを行い、その後、コイラー３に巻取る装置であ
る。本実施例ではアーク電極４を３ユニット設定した。
アーク電極４は、銅，又は黄銅などの導電体により構成
されアーク電源７の正極側に接続されている。アーク電
極４と被処理物１の間隔は６０〜１００ｍｍである。図
において、コンダクタロール５は陰極とする被処理物１
に電気を供給するために設けられている。コンダクタロ
ール５はアースに接続されており、アーク電流は被処理
物（陰極）１からコンダクタロール５により回収されア
ーク電源７に帰る。なお、被処理物（陰極）１はアース
されている。また、差圧シール室６は真空状態を維持す
るために設けられている。これにより真空アーク処理室
２０の真空度は５Ｐａ程度である。また、アーク電極４
の上流部（被処理物１の搬送方向と逆方向）には、高電
圧（又は高周波電圧）を供給する点火電源１０に接続さ
れ、回転する接触子８がそれぞれ設置されている。な
お、符号９は被処理物１の搬送にしたがって回転するガ
イドロールである。
【００１１】図２に、図１に示したアーク電極４の１ユ
ニット周辺部の側面を、図３に、その平面を示す。
ニット周辺部の側面を、図３に、その平面を示す。
【００１２】接触子８およびガイドロール９は基板１１
上に載置され、被処理物１の両側面（エッジ）に一つず
つ設置されている。この接触子８およびガイドロール９
は被処理物１の板幅に合わせるように板幅方向にスライ
ドさせることができる。接触子８の回転軸１４は減速機
１３を介してモータ１２に接続されている。
上に載置され、被処理物１の両側面（エッジ）に一つず
つ設置されている。この接触子８およびガイドロール９
は被処理物１の板幅に合わせるように板幅方向にスライ
ドさせることができる。接触子８の回転軸１４は減速機
１３を介してモータ１２に接続されている。
【００１３】真空アークの点火は、接触子８を被処理物
１の側面に接触した状態で電流を流しておき、両電極を
引き離して行う。これによって、被処理物１の表面性状
は悪化することはない。なお、被処理物１の側面はその
性状が悪化する所があるが全体的にその影響は少なく、
また最終的には側面を多少（通常２５ｍｍ程度）切り捨
てる場合が多いため特に問題はない。
１の側面に接触した状態で電流を流しておき、両電極を
引き離して行う。これによって、被処理物１の表面性状
は悪化することはない。なお、被処理物１の側面はその
性状が悪化する所があるが全体的にその影響は少なく、
また最終的には側面を多少（通常２５ｍｍ程度）切り捨
てる場合が多いため特に問題はない。
【００１４】図４に、接触子８が被処理物１に接触する
様子を示す。
様子を示す。
【００１５】接触子８はカム状の形をしているので、接
触子８が回転することにより被処理物１に接触する所と
接触しない所が現われる。すなわち、（ａ）に示すよう
に径の小さい部分は被処理物１と接触しないが、接触子
８が回転して（ｂ）に示すように径の大きい部分が被処
理物１に接触を開始する。そして、接触子８が回転して
（ｃ）に示すように径の小さい部分では再び接触されな
くなる。そして接触終了直後の（ｃ）の段階で放電が開
始しスパークが飛ぶ。このように、接触子８を回転させ
ることにより接触子８が自動的に被処理物１に接触，非
接触を繰り返すので、真空アークは間欠的に点火され
る。
触子８が回転することにより被処理物１に接触する所と
接触しない所が現われる。すなわち、（ａ）に示すよう
に径の小さい部分は被処理物１と接触しないが、接触子
８が回転して（ｂ）に示すように径の大きい部分が被処
理物１に接触を開始する。そして、接触子８が回転して
（ｃ）に示すように径の小さい部分では再び接触されな
くなる。そして接触終了直後の（ｃ）の段階で放電が開
始しスパークが飛ぶ。このように、接触子８を回転させ
ることにより接触子８が自動的に被処理物１に接触，非
接触を繰り返すので、真空アークは間欠的に点火され
る。
【００１６】接触子８の回転はモータ１２により駆動さ
れ、その回転数はモータ１２に信号を与える主制御ボー
ド１００により制御される。
れ、その回転数はモータ１２に信号を与える主制御ボー
ド１００により制御される。
【００１７】図５に、図１に示す連続式真空アークデス
ケール装置の電気系統の主要部を示す。これは、ＣＰＵ
１０１，ＲＡＭ１０２，ＲＯＭ１０３，タイマ１０４か
らなる主制御ボード１００，被処理物１の搬送速度を検
出する速度計１５，モータ１２に通電するモータドライ
バ１６，操作パネル２００等から構成される。ＣＰＵ１
０１は、速度計１５から搬送速度検出信号を受けると、
これに同期してモータ１２を駆動させる。これにより接
触子８が回転し、一定間隔で点火される。なお、速度計
１５のおかれる位置は真空アークによる熱影響や蒸着な
どが無い場所が望ましい。
ケール装置の電気系統の主要部を示す。これは、ＣＰＵ
１０１，ＲＡＭ１０２，ＲＯＭ１０３，タイマ１０４か
らなる主制御ボード１００，被処理物１の搬送速度を検
出する速度計１５，モータ１２に通電するモータドライ
バ１６，操作パネル２００等から構成される。ＣＰＵ１
０１は、速度計１５から搬送速度検出信号を受けると、
これに同期してモータ１２を駆動させる。これにより接
触子８が回転し、一定間隔で点火される。なお、速度計
１５のおかれる位置は真空アークによる熱影響や蒸着な
どが無い場所が望ましい。
【００１８】なお、本実施例でいう真空アークとは、陰
極物質が蒸発し空間を満たしながらアークが維持される
アークを指す。すなわち、空間中の残留ガス量が陰極蒸
発量より圧倒的に多い通常のアークではない。なお、陰
極物質のみならず陽極物質も蒸発し空間を満たすアーク
も真空アークである。
極物質が蒸発し空間を満たしながらアークが維持される
アークを指す。すなわち、空間中の残留ガス量が陰極蒸
発量より圧倒的に多い通常のアークではない。なお、陰
極物質のみならず陽極物質も蒸発し空間を満たすアーク
も真空アークである。
【００１９】
【発明の効果】本願の発明によれば、点火手段（８）を
陰極（１）の側面に間欠的に接触させて真空アークを点
火するので、特にレーザ等高価な装置を設けることな
く、陰極（１）の表面性状を悪化させない。また、連続
的かつ高速で繰り返して点火を行える。
陰極（１）の側面に間欠的に接触させて真空アークを点
火するので、特にレーザ等高価な装置を設けることな
く、陰極（１）の表面性状を悪化させない。また、連続
的かつ高速で繰り返して点火を行える。
【図１】 本発明の一実施例の連続式真空アークデスケ
ール装置の構成概要を示す側面図である。
ール装置の構成概要を示す側面図である。
【図２】 図１に示すアーク電極４の１ユニット周辺部
の構成概要を示す側面図である。
の構成概要を示す側面図である。
【図３】 図１に示すアーク電極４の１ユニット周辺部
の構成概要を示す平面図である。
の構成概要を示す平面図である。
【図４】 図１に示す接触子８が被処理物１に接触する
様子を示し、（ａ）は接触開始前，（ｂ）は接触開始直
後，および（ｃ）は接触終了後を示す平面図である。
様子を示し、（ａ）は接触開始前，（ｂ）は接触開始直
後，および（ｃ）は接触終了後を示す平面図である。
【図５】 図１に示す連続式真空アークデスケール装置
の電気系統の主要部を示すブロック図である。
の電気系統の主要部を示すブロック図である。
１：被処理物（陰極） ２：アンコイラー ３：コイラー ４：アーク電極
（陽極） ５：コンダクトロール ６：差圧シール室 ７：アーク電源（真空アーク電源） ８：接触子（点火
手段） ９：ガイドロール １０：点火電源 １１：基板 １２：モータ（駆
動手段） １３：減速機 １４：回転軸 １５：速度計 １６：モータドラ
イバ（駆動手段） ２０：真空アーク処理室 １００：主制御ボ−ド １０１：ＣＰＵ（駆動制御手段） １０２：ＲＡＭ １０３：ＲＯＭ １０４：タイマ ２００：操作パネル
（陽極） ５：コンダクトロール ６：差圧シール室 ７：アーク電源（真空アーク電源） ８：接触子（点火
手段） ９：ガイドロール １０：点火電源 １１：基板 １２：モータ（駆
動手段） １３：減速機 １４：回転軸 １５：速度計 １６：モータドラ
イバ（駆動手段） ２０：真空アーク処理室 １００：主制御ボ−ド １０１：ＣＰＵ（駆動制御手段） １０２：ＲＡＭ １０３：ＲＯＭ １０４：タイマ ２００：操作パネル
Claims (2)
- 【請求項１】真空アーク電源の正極に接続された陽極；
連続して移動する被処理材料からなる陰極；前記陰極の
側面に間欠的に接触して真空アークを点火する点火手
段；該点火手段を回転させる駆動手段；および、 該駆動手段を介して、前記点火手段の回転数を制御する
駆動制御手段；を備える、真空アーク処理装置。 - 【請求項２】真空アーク電源の正極に接続された陽極と
連続して移動する被処理材料からなる陰極を有し、陽極
と陰極の間に直流アーク放電を生起させる、真空アーク
処理装置において、点火手段を所定の間隔で回転させ、
陰極の側面に間欠的に接触させて真空アークを点火す
る、真空アーク処理装置の点火方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30041091A JPH05138346A (ja) | 1991-11-15 | 1991-11-15 | 真空アーク処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30041091A JPH05138346A (ja) | 1991-11-15 | 1991-11-15 | 真空アーク処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05138346A true JPH05138346A (ja) | 1993-06-01 |
Family
ID=17884467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30041091A Withdrawn JPH05138346A (ja) | 1991-11-15 | 1991-11-15 | 真空アーク処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05138346A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011032560A (ja) * | 2009-08-05 | 2011-02-17 | Shinmaywa Industries Ltd | 給電機構および真空処理装置 |
-
1991
- 1991-11-15 JP JP30041091A patent/JPH05138346A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011032560A (ja) * | 2009-08-05 | 2011-02-17 | Shinmaywa Industries Ltd | 給電機構および真空処理装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990204 |