JPH05136037A - 電子ビーム描画装置 - Google Patents
電子ビーム描画装置Info
- Publication number
- JPH05136037A JPH05136037A JP32380491A JP32380491A JPH05136037A JP H05136037 A JPH05136037 A JP H05136037A JP 32380491 A JP32380491 A JP 32380491A JP 32380491 A JP32380491 A JP 32380491A JP H05136037 A JPH05136037 A JP H05136037A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- column
- stage
- length measuring
- measuring device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子ビーム描画装置において、所望の位置に
電子ビームを照射する。 【構成】 カラムの位置を測長するカラムＸ測長器６及
びカラムＹ測長器７を備え、カラム３の位置ズレを測長
して、そのズレ量を補正することにより、所望の位置に
電子ビームを照射する。
電子ビームを照射する。 【構成】 カラムの位置を測長するカラムＸ測長器６及
びカラムＹ測長器７を備え、カラム３の位置ズレを測長
して、そのズレ量を補正することにより、所望の位置に
電子ビームを照射する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路のパタ
ーン発生装置に関し、特に電子ビーム描画装置に関す
る。
ーン発生装置に関し、特に電子ビーム描画装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来の電子ビーム描画装置は、描画すべ
き試料（フォトマスク基板又はウェハー基板）をＸ，Ｙ
方向に移動するステージ上に乗せて、電子ビーム銃より
引き出した電子ビームを上記試料に照射してパターンを
発生するものである。
き試料（フォトマスク基板又はウェハー基板）をＸ，Ｙ
方向に移動するステージ上に乗せて、電子ビーム銃より
引き出した電子ビームを上記試料に照射してパターンを
発生するものである。
【０００３】尚、外部からの振動については、装置下部
にある除振機構により除振している。又、装置自身から
発する振動（例えばステージの移動，停止による振動）
についても、同じく装置下部にある除振機構により除振
している。
にある除振機構により除振している。又、装置自身から
発する振動（例えばステージの移動，停止による振動）
についても、同じく装置下部にある除振機構により除振
している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この従来の電子ビーム
描画装置では、外部からの振動又は装置自身から発する
振動により、描画する試料を乗せているステージを囲っ
ているチャンバーと、電子ビームを放射する電子ビーム
銃を保持しているカラムとの位置が、除振機構では除か
れない振動により（特に低周波成分：数Ｈｚ〜数１０Ｈ
ｚ）相対的にズレてしまう。
描画装置では、外部からの振動又は装置自身から発する
振動により、描画する試料を乗せているステージを囲っ
ているチャンバーと、電子ビームを放射する電子ビーム
銃を保持しているカラムとの位置が、除振機構では除か
れない振動により（特に低周波成分：数Ｈｚ〜数１０Ｈ
ｚ）相対的にズレてしまう。
【０００５】このズレにより電子ビーム銃から放射した
電子ビームは、試料上の所望位置に照射されないという
問題点がある。
電子ビームは、試料上の所望位置に照射されないという
問題点がある。
【０００６】このチャンバーとカラムとの相対的位置ズ
レは、振動周波数，強度及び防振性能により異なるが、
特に低周波成分によるものが位置ズレに大きく影響す
る。従来の電子ビーム描画装置では、０．０５〜０．２
μｍの位置ズレが発生する。
レは、振動周波数，強度及び防振性能により異なるが、
特に低周波成分によるものが位置ズレに大きく影響す
る。従来の電子ビーム描画装置では、０．０５〜０．２
μｍの位置ズレが発生する。
【０００７】本発明の目的は、所望の位置に電子ビーム
を照射できるようにした電子ビーム描画装置を提供する
ことにある。
を照射できるようにした電子ビーム描画装置を提供する
ことにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る電子ビーム描画装置においては、電子
ビーム描画装置のカラムの電子ビーム銃保持部に、Ｘ方
向及びＹ方向の移動量を測定する測定器を有するもので
ある。
め、本発明に係る電子ビーム描画装置においては、電子
ビーム描画装置のカラムの電子ビーム銃保持部に、Ｘ方
向及びＹ方向の移動量を測定する測定器を有するもので
ある。
【０００９】
【作用】カラムの位置ズレを測長して、そのズレ量を補
正することにより、所望の位置に電子ビームを照射す
る。
正することにより、所望の位置に電子ビームを照射す
る。
【００１０】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【００１１】（実施例１）図１は、本発明の実施例１に
係る電子ビーム描画装置を示す構成図である。
係る電子ビーム描画装置を示す構成図である。
【００１２】図１において、電子ビーム銃１から放射し
た電子ビーム２は、ステージ４上に乗せた試料上に照射
される。チャンバー５は、ステージ４及びカラム３を固
定するものである。
た電子ビーム２は、ステージ４上に乗せた試料上に照射
される。チャンバー５は、ステージ４及びカラム３を固
定するものである。
【００１３】ステージＸ測長器８及びステージＹ測長器
９は、ステージ４を所望の位置に移動させるための測長
器である。
９は、ステージ４を所望の位置に移動させるための測長
器である。
【００１４】カラムＸ測長器６及びカラムＹ測長器７
は、カラム３の位置を測長するものである。
は、カラム３の位置を測長するものである。
【００１５】外部からの振動、又は装置自身より発生し
た振動によりチャンバー５とカラム３は、相対的に位置
ズレが発生する。本発明は、カラム３の位置ズレをカラ
ムＸ測長器６及びカラムＹ測長器７により測定し、その
ズレ量をフィードバックさせ補正することを行なうもの
である。
た振動によりチャンバー５とカラム３は、相対的に位置
ズレが発生する。本発明は、カラム３の位置ズレをカラ
ムＸ測長器６及びカラムＹ測長器７により測定し、その
ズレ量をフィードバックさせ補正することを行なうもの
である。
【００１６】図２は、カラムの位置ズレ量を電子ビーム
位置決め回路にフィードバックさせてズレ量を補正する
状態を示す構成図である。
位置決め回路にフィードバックさせてズレ量を補正する
状態を示す構成図である。
【００１７】カラム３の位置ズレをカラム測長器１１で
測長して、そのズレ量に見合った電子ビーム偏向量を補
正回路１２により電子ビーム位置決め偏向器１０に与
え、所望の位置に電子ビームを試料上に照射する。
測長して、そのズレ量に見合った電子ビーム偏向量を補
正回路１２により電子ビーム位置決め偏向器１０に与
え、所望の位置に電子ビームを試料上に照射する。
【００１８】（実施例２）図３は、本発明の実施例２に
係る電子ビーム描画装置を示す構成図である。
係る電子ビーム描画装置を示す構成図である。
【００１９】本実施例では、カラム３のズレ量を測長し
た値に基いて補正回路１２は、ズレ量に見合った半導体
基板の位置データをステージ４に入力する。これにより
ステージ４は、カラム３に対する半導体基板の位置を調
整して基板上の所望の位置に電子ビームを照射するよう
にしたものである。
た値に基いて補正回路１２は、ズレ量に見合った半導体
基板の位置データをステージ４に入力する。これにより
ステージ４は、カラム３に対する半導体基板の位置を調
整して基板上の所望の位置に電子ビームを照射するよう
にしたものである。
【００２０】本実施例では、実施例１に比較して回路的
に既存の補正回路を使用する点で、簡素化できるという
利点がある。
に既存の補正回路を使用する点で、簡素化できるという
利点がある。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、カラムと
基板との位置ズレ量を測定して所望の位置に電子ビーム
を補正する機能を持っているため、従来０．０５〜０．
２μｍ程度の描画位置ズレが生じていたものを約１／５
に低減できるという効果を有する。
基板との位置ズレ量を測定して所望の位置に電子ビーム
を補正する機能を持っているため、従来０．０５〜０．
２μｍ程度の描画位置ズレが生じていたものを約１／５
に低減できるという効果を有する。
【図１】本発明の実施例１に係る電子ビーム描画装置を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図２】実施例１のカラム位置ズレの補正方式を示す構
成図である。
成図である。
【図３】本発明の実施例２に係る電子ビーム描画装置を
示す構成図である。
示す構成図である。
１ 電子ビーム銃 ２ 電子ビーム ３ カラム ４ ステージ ５ チャンバー ６ カラムＸ測長器 ７ カラムＹ測長器 ８ ステージＸ測長器 ９ ステージＹ測長器 １０ 電子ビーム位置決め偏向器 １１ カラム測長器 １２ 補正回路
Claims (1)
- 【請求項１】 電子ビーム描画装置のカラムの電子ビー
ム銃保持部に、Ｘ方向及びＹ方向の移動量を測定する測
定器を有することを特徴とする電子ビーム描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32380491A JPH05136037A (ja) | 1991-11-12 | 1991-11-12 | 電子ビーム描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32380491A JPH05136037A (ja) | 1991-11-12 | 1991-11-12 | 電子ビーム描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05136037A true JPH05136037A (ja) | 1993-06-01 |
Family
ID=18158798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32380491A Pending JPH05136037A (ja) | 1991-11-12 | 1991-11-12 | 電子ビーム描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05136037A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008047079A2 (en) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Vistec Lithography Inc | Electron beam influencing in an electron beam lithography machine |
| WO2008056158A3 (en) * | 2006-11-09 | 2009-02-19 | Vistec Lithography Inc | Component mounting in movement-sensitive equipment |
-
1991
- 1991-11-12 JP JP32380491A patent/JPH05136037A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008047079A2 (en) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Vistec Lithography Inc | Electron beam influencing in an electron beam lithography machine |
| WO2008047079A3 (en) * | 2006-10-16 | 2009-02-19 | Vistec Lithography Inc | Electron beam influencing in an electron beam lithography machine |
| WO2008056158A3 (en) * | 2006-11-09 | 2009-02-19 | Vistec Lithography Inc | Component mounting in movement-sensitive equipment |
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