JPH05132763A - 全方向同時蒸着重合装置 - Google Patents

全方向同時蒸着重合装置

Info

Publication number
JPH05132763A
JPH05132763A JP32380891A JP32380891A JPH05132763A JP H05132763 A JPH05132763 A JP H05132763A JP 32380891 A JP32380891 A JP 32380891A JP 32380891 A JP32380891 A JP 32380891A JP H05132763 A JPH05132763 A JP H05132763A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing chamber
vacuum processing
vapor deposition
heaters
deposition polymerization
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP32380891A
Other languages
English (en)
Inventor
Isao Tada
勲 多田
Naoki Nagashima
直樹 長嶋
Yoshikazu Takahashi
善和 高橋
Masayuki Iijima
正行 飯島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ulvac Inc filed Critical Ulvac Inc
Priority to JP32380891A priority Critical patent/JPH05132763A/ja
Publication of JPH05132763A publication Critical patent/JPH05132763A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】 [構成] 真空処理室1aの両壁部19a、19bにフ
ランジ加熱ヒ−タ14a、14bを埋設し、これ以外の
各バレル10面が対向する外周壁部18には処理室加熱
ヒ−タ13が埋設されている。また、真空排気系用配管
51の壁部にも排気系加熱ヒ−タ15が埋設されてお
り、更に蒸発源容器5a、5bのに接続されている導入
管6a、6bにも導入管加熱ヒ−タ16a、16bが埋
設されている。これら各加熱ヒ−タは各々独立して温度
制御が可能である。導入管加熱ヒ−タ16a、16bを
設けたことで導入管6a、6bにモノマが付着せず蒸発
速度の低下が防止でき、排気系加熱ヒータ15を設けた
ことで真空排気系2の内壁にモノマが付着せず排気能力
の低下が防止でき、蒸発レ−トが不安定となる要因を取
り除くことができる。 [効果] 被蒸着物表面上に形成される高分子被膜の質
を良好にする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は被蒸着材の表面に高分子
膜を形成させる際に用いる全方向同時蒸着重合装置に関
する。
【従来の技術及びその問題点】
【0002】従来では、半導体素子の絶縁膜、パッシベ
ーション膜、ソフトエラー防止膜及びコンデンサの誘電
導体膜等に用いられている各種高分子被膜の形成方法と
して湿式法、ポリマー蒸着法及びプラズマ重合法が知ら
れている。
【0003】湿式法は原料モノマを適当な溶媒に解かし
て重合させ、これを基板状に塗布する方法であり、ポリ
マー蒸着法はポリマー自体を基板状に蒸着させる方法で
あり、プラズマ重合法はモノマ蒸気をプラズマ状態にし
て重合させ、基板状で堆積させる方法である。しかしな
がら、これら従来法には各々不都合があり、湿式法では
極めて薄い膜が得られず、密着性も不充分であり、更に
不純物の混入が生じやすく、ポリマー蒸着法では蒸着時
に分解が起こりやすく、重合度が充分とならず、プラズ
マ重合法では重合時に分解が起こりやすく、高分子設計
が困難であった。
【0004】そこで、本出願人は先に、これら従来法の
不都合を解消する高分子被膜形成方法として、真空中で
多種類のモノマを蒸発させ、基板状で重合させる蒸着重
合法(特開昭61−78463号公報)及びこの方法を
実施する装置として全方向同時蒸着装置(特願平2−2
99002号)を発明した。
【0005】以下、従来の全方向同時蒸着重合装置の構
成について図2及び図3を参照して説明する
【0006】図において全方向同時蒸着重合装置1の真
空処理室1aは真空排気系2を介して図示されてない排
気装置が接続され、排気バルブ17は真空処理室1a真
空排気系2とを仕切っている。又、この真空処理室1a
には蒸発源容器5a、5bが導入管6a、6bを介して
接続されている。蒸発源容器5a、5b内には高分子膜
の原料モノマ3、4が供給され、この蒸発源容器5a、
5bの周りには蒸発源ヒータ12a、12bが取り付け
られている。
【0007】真空排気室1aの内部は回転軸7を中心に
放射状に延びた支持部材8の各先端部9に断面形状が六
角形若しくは八角形のバレル10を環状に配置させてい
る。
【0008】従来の全方向同時蒸着重合装置1は、以上
のように構成されているが、例えば図4に示すような略
コ字形状の被蒸着材20の表面全面に高分子膜を形成す
る場合は、バレル10内に複数の被蒸着材20を収容し
た後、各バレル10をモータ11の駆動で回転軸7を中
心に回転駆動させると共に、真空排気系2で真空処理室
1a内を所定圧に保持しながら、各導入管6a、6bか
ら真空処理室1a内に高分子膜の原料モノマ3、4の蒸
気を導入し、各蒸着材20の表面全面にわたって、原料
モノマ3、4を蒸着させると共に重合させて高分子膜を
形成させている。
【発明が解決しようとする課題】
【0009】このような蒸着重合法によって被蒸着材2
0表面上に良質の高分子被膜を形成させるためには、蒸
発源原料モノマ3、4が被蒸着材20表面上で化学量論
的に重合することが必要である。そのために従来の装置
では原料モノマ3、4の蒸発レートを常に一定化させる
ために蒸発源ヒータ12a、12bを所定温度にコント
ロールできるようにしている。
【0010】しかしながら、この方法で繰り返し蒸着を
行なっていると蒸発源から蒸発したモノマが配管・処理
室内壁全面に付着・堆積してしまいモノマの蒸発レート
も不安定となる。
【0011】本発明は上記問題に鑑みてなされ蒸発源か
ら蒸発したモノマが配管処理室内壁全面に付着・堆積せ
ず、排気速度及び蒸発速度の低下・蒸発の不安定化・膜
厚分布の不良などの減少を防止でき、被蒸着材表面上に
形成される高分子被膜の質を良好にする全方向同時蒸着
重合装置を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】以上の目的は、真空処理
室内に、外部蒸発源からの高分子膜の原料モノマ蒸気を
導入する導入管と、高分子膜を表面に形成させる被蒸着
材を収容するバレルを配置した全方向同時蒸着重合装置
において、前記真空処理室の全壁部、前記導入管の全壁
部及び前記真空処理室に接続される真空排気系用配管の
全壁部に各々加熱ヒータを取りつけたことを特徴とする
全方向同時蒸着重合装置によって達成される。
【0013】
【作用】真空処理室の全壁部、真空排気系配管の全壁部
及び原料モノマ蒸気の導入管に各々加熱ヒータを設ける
ことによって、真空排気系用配管の内壁、真空処理室の
全壁部及び原料モノマ蒸気の導入口の全壁部への原料モ
ノマの付着・堆積が阻止できる。また、真空処理室の外
周壁部と両端壁部とに独立して制御する加熱ヒータを設
けることによって、被蒸着材の膜厚分布の改善が可能と
なる。
【0014】
【実施例】以下、本発明の実施例による全方向同時蒸着
重合装置について、図面を参照して説明する。なお、従
来例と同一の構成の部分については同一の符号を付し、
その詳細な説明は省略する。
【0015】図1に示すように本実施例による全方向同
時蒸着重合装置1の真空処理室1aは外周壁部18と左
右両端壁部19a、19bとからなり、これらの接続部
は気密になるように接続されている。この真空処理室1
aの両端壁部19a、19bにはフランジ加熱ヒータ1
4a、14bを埋設し、これ以外の各バレル10面が対
向する外周壁部18には処理室加熱ヒータ13が埋設さ
れている。また、真空処理室1aの左端壁部19aには
真空排気系2が接続される開口50が形成され、この開
口50に接続されている配管51の壁部にも排気系加熱
ヒータ15が埋設されており、更にモノマ3、4の蒸気
を導入する蒸発源容器5a、5bのに接続されている導
入管6a、6bの壁部にも導入管加熱ヒータ16a、1
6bが埋設されている。
【0016】処理室加熱ヒータ13、フランジ加熱ヒー
タ14a、14b、排気系の加熱ヒータ15、及び導入
管の加熱ヒータ16a、16bの各加熱ヒータは真空処
理室1aの外部に設けられている図示されていない温度
調節手段により、各々独立して温度制御が可能である。
また、蒸発源容器5a、5bの壁部に取り付けられてい
る蒸発源ヒータ12a、12bもモノマ3、4が所定の
モノマ比で蒸発するように別個に温度制御が可能と成っ
ている。
【0017】蒸発源容器5a、5bに供給されるモノマ
は、例えばポリミイドの蒸着重合法を例にあげれば、蒸
発源容器5a内には原料モノマ3としてピロメリト酸二
無水物を供給し、蒸発源容器5b内には原料モノマ4と
して4、4’‐ジアミノジフェニルエーテルを供給す
る。
【0018】本発明の実施例による全方向同時蒸着重合
装置1は以上のように構成されているが、次にこの作用
について説明する。
【0019】図示されていない排気手段により真空処理
室1a内が所望の圧力に減圧されると蒸発源ヒータ12
a、12b、処理室加熱ヒータ13、フランジ加熱ヒー
タ14a、14b、排気系加熱ヒータ15、及び導入管
加熱ヒータ16a、16bの各加熱ヒータは真空処理室
1aの外部に設けられている図示されていない温度調節
手段から電源が供給されて各々のヒータが所定の温度に
制御される。蒸発源ヒータ12a、12bを除くこれら
のヒータの温度はモノマの蒸着中はモノマが付着・堆積
しない温度に制御されている。
【0020】蒸発源ヒータ12a、12bは蒸発源容器
5a、5b内の原料モノマ3、4が所定のモノマ比で蒸
発するように温度調節される。原料モノマ3、4は蒸発
源ヒータ12a、12bにより加熱されて蒸発すると、
導入管6a、6bを通過して真空処理室1a内に供給さ
れ、バレル10内に収容されている被蒸着材20に付着
・堆積する。導入管6a、6bには導入管加熱ヒータ1
6a、16bが取り付けられているので、原料モノマ
3、4が導入管6a、6bの内壁に付着することはな
い。また、真空処理室1aの外周壁部18と両端壁部1
9a、19bとには処理室加熱ヒータ13とフランジ加
熱ヒータ14a、14bとがそれぞれ埋設されているの
で、それぞれ独立して温度調節ができ、これら内壁にモ
ノマが付着することなく、被蒸着材の膜厚分布改善が可
能と成る。
【0021】被蒸着材20に原料モノマ3、4が付着・
堆積する際に、真空処理室1a内には被蒸着材20に付
着・堆積しない余分なモノマが残留するが、これら残留
モノマは真空処理室1aの全壁部が処理室加熱ヒータ1
3とフランジ加熱ヒータ14a、14bとで加熱されて
いるので、真空処理室1a内壁には付着せず真空排気系
2により排気される。また、真空排気系2ではこの内壁
に排気系加熱ヒータ15が設けられているので、真空排
気系2の内壁にも原料モノマ3、4は付着することはな
い。
【0022】以上、本発明の実施例について説明した
が、勿論、本発明はこれに限定されることなく本発明の
技術的思想に基いて種々の変形が可能である。
【0023】例えば、以上の実施例では処理室加熱ヒー
タ13、フランジ加熱ヒータ14a、14b、排気系加
熱ヒータ15及び導入管加熱ヒータ16a、16bの各
加熱ヒータを壁部に埋設したが、これを内壁あるいは外
壁にヒータを設置しても良い。また、各加熱ヒータを各
々独立して温度制御するようにしたが、少なくとも導入
管加熱ヒータ16a、16b以外は一括して温度制御し
てもよい。各加熱ヒータは抵抗加熱又は熱媒体加熱によ
る加熱方法を使用しても良い。
【0024】また、以上の実施例ではポリミイドの蒸着
重合法を例としたが、モノマ・形成される高分子膜はそ
の種類を任意に代えることが可能である。
【0025】
【発明の効果】真空排気系用配管の全壁部及び導入管の
全壁部に加熱ヒータを設けることによって、真空排気系
用配管の内壁及びモノマ蒸気導入管の内壁及び真空処理
室の内壁へのモノマの付着・堆積が阻止出来るので、真
空排気系の排気能力の低下が生じることもなくメンテナ
ンスフリーとなりモノマの蒸発速度の低下も防止するこ
とが出来る。
【0026】また、各壁部に独立して加熱ヒータを設け
ることによって、被蒸着材の膜圧分布の改善が可能と成
る。
【0027】更に、蒸発レートが不安定と成る要因を取
除くことが出来るので、被蒸着材表面上に形成される高
分子被膜の質を良好なものにすることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の実施例による全方向同時蒸着重
合装置の概略正面図である。
【図2】図2は本発明の従来例による全方向同時蒸着重
合装置の概略正面図である。
【図3】図3は図における[3]−[3]線方向断面図
である。
【図4】図4は同装置により蒸着被膜が形成される被蒸
着材の斜視図である。
【符号の説明】
なお、図において 1 全方向同時蒸着重合装置 1a 真空処理室 13 処理室加熱ヒータ 14a フランジ加熱ヒータ 14b フランジ加熱ヒータ 15 排気系加熱ヒータ 16a 導入管加熱ヒータ 16b 導入管加熱ヒータ 18 外周壁部 19a 両端壁部 19b 両端壁部
フロントページの続き (72)発明者 飯島 正行 茨城県つくば市東光台5丁目9番地7 日 本真空技術株式会社筑波超材料研究所内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空処理室内に、外部蒸発源からの高分
    子膜の原料モノマ蒸気を導入する導入管と、高分子膜を
    表面に形成させる被蒸着材を収容するバレルを配置した
    全方向同時蒸着重合装置において、前記真空処理室の全
    壁部、前記導入管の全壁部及び前記真空処理室に接続さ
    れる真空排気系用配管の全壁部に各々加熱ヒータを取り
    つけたことを特徴とする全方向同時蒸着重合装置。
  2. 【請求項2】 前記真空処理室の全壁部、前記導入管の
    全壁部及び前記真空処理室に接続される前記真空排気系
    用配管の全壁部に取りつけられた前記加熱ヒータがそれ
    ぞれ独立して加熱制御されることを特徴とする請求項1
    に記載の全方向同時蒸着重合装置。
  3. 【請求項3】 前記真空処理室の全壁部は外周壁部と両
    端壁部とからなり、これらに取り付けられている加熱ヒ
    ータは独立して制御されることを特徴とする請求項1に
    記載の全方向同時蒸着重合装置。
JP32380891A 1991-11-12 1991-11-12 全方向同時蒸着重合装置 Pending JPH05132763A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32380891A JPH05132763A (ja) 1991-11-12 1991-11-12 全方向同時蒸着重合装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32380891A JPH05132763A (ja) 1991-11-12 1991-11-12 全方向同時蒸着重合装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05132763A true JPH05132763A (ja) 1993-05-28

Family

ID=18158840

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32380891A Pending JPH05132763A (ja) 1991-11-12 1991-11-12 全方向同時蒸着重合装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05132763A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006251181A (ja) * 2005-03-09 2006-09-21 Nitta Ind Corp 光導波路の製造方法
JP2009238756A (ja) * 1997-11-17 2009-10-15 Trustees Of Princeton Univ 有機薄膜の低圧蒸着
US10102817B2 (en) 2014-03-11 2018-10-16 Panasonic Liquid Crystal Display Co., Ltd. Display device and driving method thereof

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009238756A (ja) * 1997-11-17 2009-10-15 Trustees Of Princeton Univ 有機薄膜の低圧蒸着
JP2010159497A (ja) * 1997-11-17 2010-07-22 Trustees Of Princeton Univ 有機薄膜の低圧気相蒸着
JP2013177692A (ja) * 1997-11-17 2013-09-09 Trustees Of Princeton Univ 有機薄膜の低圧気相蒸着
JP2016104913A (ja) * 1997-11-17 2016-06-09 ザ、トラスティーズ オブ プリンストン ユニバーシティ 有機薄膜の低圧気相蒸着
JP2006251181A (ja) * 2005-03-09 2006-09-21 Nitta Ind Corp 光導波路の製造方法
US10102817B2 (en) 2014-03-11 2018-10-16 Panasonic Liquid Crystal Display Co., Ltd. Display device and driving method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0155823B1 (en) Improvements in or relating to the covering of substrates with synthetic resin films
EP0953067B1 (en) A process and apparatus for depositing a carbon-rich coating on a moving substrate
US5832177A (en) Method for controlling apparatus for supplying steam for ashing process
EP0740710B1 (en) Magnetron sputtering apparatus for compound thin films
US4956196A (en) Method for producing a corrosion-resistant coating on the surface of lacquered workpieces
US10262838B2 (en) Deposition system with integrated cooling on a rotating drum
JP3516819B2 (ja) モノマーの蒸発システム、同蒸発システムを備えた真空処理室、および有機化合物膜の成膜方法
JPH05132763A (ja) 全方向同時蒸着重合装置
JPH04236769A (ja) 成膜装置
JPH05132764A (ja) 全方向同時蒸着重合装置
JPS61261322A (ja) 合成樹脂被膜の形成方法
JP3833275B2 (ja) 全方向同時蒸着重合装置
JPH0668151B2 (ja) 真空用部材内部の真空接触面処理方法
JPS63100181A (ja) 表面処理装置
JP2000021868A (ja) 半導体製造装置およびポリイミド膜の形成方法
US5143018A (en) Apparatus for depositing uniform films by how-pressure chemical vapor deposition
EP0504420B1 (en) Steam supplier
US12057297B2 (en) Deposition system with integrated cooling on a rotating drum
JPH05132761A (ja) 蒸着重合装置
JP3847863B2 (ja) 真空装置及びその製造方法
JPH09321064A (ja) 蒸着重合装置
JPS63153268A (ja) 連続ドライコ−テイング槽のガス分圧制御方法
JPH05132760A (ja) 蒸着重合装置
JPS61219028A (ja) 液晶配向膜の形成方法
JPH0339931A (ja) 液晶の配向膜の製造装置