JPH05131789A - Icメモリカード - Google Patents

Icメモリカード

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JPH05131789A
JPH05131789A JP3300095A JP30009591A JPH05131789A JP H05131789 A JPH05131789 A JP H05131789A JP 3300095 A JP3300095 A JP 3300095A JP 30009591 A JP30009591 A JP 30009591A JP H05131789 A JPH05131789 A JP H05131789A
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Kikuo Kuma
喜久雄 熊
Koji Sakuta
浩司 作田
Akira Nezu
晃 根津
Kenji Yamamura
憲司 山村
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/18Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • H05K1/181Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with surface mounted components
    • HELECTRICITY
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    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 メモリLSIチップを多数個内蔵したICメ
モリカードにおいて、大容量で信号伝達が速く、信頼性
の高いICメモリカードの実現を目的とする。 【構成】 メモリLSIチップ6の電極10に導体リー
ドの一端部12aを接合し、中間部12bと他端部12
cをそれぞれ絶縁フィルム17,18で連結し、プリン
ト配線板2にメモリLSIチップ6を積層する。最下層
段の導体リード12′表面のはんだメッキ層13′の厚
さt′を、上層段の導体リード12表面にはんだメッキ
層13の厚さtよりも厚くした構成とする。メモリLS
Iチップ6の占有面積や配線スペースが小さくなると共
に、導体リード12′と導体配線21との接合が確実と
なり信頼性を高めることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、メモリLSIチップを
多数個内蔵したICメモリカードに関するものである。
【0002】
【従来の技術】ICメモリカードは、RAM,ROMな
どのメモリLSIを内蔵した携帯型情報記憶装置として
多方面で利用されている。近年その用途の拡大に伴い、
記憶容量の大きい、すなわち大容量のICメモリカード
が強く要望されるようになってきた。このような大容量
のICメモリカードにおいては、多数個のメモリLSI
を一定面積のプリント配線板に高密度に実装しなければ
ならない。
【0003】ところで、メモリLSIの高密度な実装方
法としては、メモリLSIのベアチップの電極に、いわ
ゆるフィルムキャリア方式で導体リードを接合し、前記
メモリLSIチップをプリント配線板に平面的に並べて
実装する方法が効果的とされている。以下図面を参照し
ながら、フィルムキャリア方式により多数のメモリLS
Iをプリント配線板に実装した、従来のICメモリカー
ドの構造について説明する。
【0004】図5は従来のICメモリカードを示す断面
図である。図5において、31はケースでプリント配線
板32を収納している。プリント配線板32には導体配
線33が形成されている。34,34′はメモリLSI
チップで、プリント配線板32に平面的に配置されてい
る。メモリLSIチップ34の電極35には、フィルム
キャリア方式により金属突起36を介して、導体リード
37の一端部37aが接合されている。導体リード37
の他端部37bは、プリント配線板32の導体配線33
に接合されている。このようにベアチップを使用してい
るので、プリント配線板でのメモリLSIの占有面積は
比較的小さいものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、メモリLSIチップがプリント配線板に平
面的に配置されているので、メモリLSIチップの数が
多くなるとその占有面積も拡大する。従って一定の面積
を有するプリント配線板に対し、実装できるメモリLS
Iチップの数には自ずと限界があった。またメモリLS
Iチップの数が増えると、メモリLSIチップの電極に
接合された導体リード間を電気的に接続するプリント配
線板の導体配線の距離が長くなって、配線スペースが増
えるので、信号の伝達速度も遅くなるという課題を有し
ていた。
【0006】本発明は上記従来の課題を解決するもの
で、メモリLSIの実装密度を飛躍的に高めて大容量化
を実現し、また配線スペースを大幅に減少して信号伝達
の高速化を実現し、さらに、導体リードの変形や位置ず
れを防止して組立て工程を容易にすると共に、導体リー
ドと導体配線との接合を確実にして、信頼性の高いIC
メモリカードを実現することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明のICメモリカードは、フィルムキャリア方
式によってメモリLSIチップの電極に導体リードの一
端部を接合し、導体リードの中間部および他端部は絶縁
フィルムで連結し、前記メモリLSIチップをプリント
配線板に複数個積層し、共通電極に接続した導体リード
を重ね合わせて導体配線に接合すると共に、積層した最
下層段の導体リードのはんだメッキ層厚さを上層段の導
体リードのはんだメッキ層厚さより厚くした構成であ
る。
【0008】
【作用】この構成によって、限られた面積のプリント配
線板に多数のメモリLSIチップを搭載して大容量化を
実現し、積層した各チップ間の共通電極の導体リードを
直接接合しているので、配線スペースが減少して信号伝
達の高速化を実現し、また、導体リードの変形や位置ず
れを少なくして組立て工程を容易にし、さらに、最下層
段の導体リードのはんだメッキ層厚さは厚いので導体配
線との接合が確実となり、上層段の導体リードのはんだ
メッキ層厚さは薄いので、はんだ付け時に隣接リード間
ではんだが接触してしまういわゆるはんだブリッジを防
止できるなど、信頼性の高いICメモリカードを実現で
きる。
【0009】
【実施例】以下本発明の一実施例について、図面を参照
しながら説明する。
【0010】図1は本発明の一実施例におけるICメモ
リカードの一部を切欠いた斜視図、図2は同じく電気回
路のブロック図、図3は同じく部分断面図、図4は同じ
くメモリLSIチップの積層状態を示す部分斜視図であ
る。図1から図4において、1はケースでプリント配線
板2を収納している。プリント配線板2はメモリ回路部
3,コントロール回路部4,外部インタフェイス回路部
5で構成されている。メモリ回路部3は、複数のメモリ
LSIチップ6で構成され、同一種類のRAMチップを
2段に積層したものを多数組プリント配線板2に搭載し
ている。コントロール回路部4は、デコーダIC7等で
構成され、アドレス信号によるチップ選択、電源切換え
によるバックアップコントロール等を行う。外部インタ
フェイス回路部5は、接続コネクタ8等で構成され、接
続コネクタ8は他の機器や装置に取りつけられた接続部
(図示せず)に結合され、プリント配線板2に対して電
源の供給と信号の授受を行う。9はメモリ回路部3をバ
ックアップする電池で、ボタン型リチウム電池等を使用
し、ケース1に収納されている。電池9は、メモリ回路
部3に対して接続コネクタ8から電源が供給されないと
きに、バックアップ電源を供給する。
【0011】次に、メモリLSIチップ6の積層状態の
構成について述べる。メモリLSIチップ6はメモリL
SIチップ6′上に、それぞれの電極配列が同一になる
方向に積層されている。10はメモリLSIチップ6の
共通電極で、フィルムキャリア方式により、金属突起1
1を介して導体リード12の一端部12aが接合されて
いる。13は導体リードの中間部12bから他端部12
cの間の表面のはんだメッキ層である。14はメモリL
SIチップ6の別の共通電極で、導体リード12と同様
にして導体リード15が接合されている。16は導体リ
ードの中間部15bから他端部15cの間の表面のはん
だメッキ層である。17,18は絶縁フィルムで、、そ
れぞれ導体リードの中間部12b,15bおよび導体リ
ードの他端部12c,15cを連結している。前記の構
成はメモリLSIチップ6′も同様である。19,20
は樹脂等で構成された絶縁部材であり、電極10、導体
リードの一端部12a等を保護する役目をする。
【0012】次に、導体リード12等のプリント配線板
2への接合状態について述べる。導体リード12,1
2′はそれぞれの中間部12b,12′bからそれぞれ
の他端部12c,12′cの間を部分的に重ね合わせて
プリント配線板2の同じ導体配線21にはんだ接合され
ている。同様に導体リード15,15′も同様な状態で
導体配線22の上にはんだ接合されている。また図示し
ていないが、メモリLSIチップ6,6′の非共通電極
に接続している導体リードは、同一の導体配線に接続す
ることができないので、それぞれ互いに他とは異なった
別々の導体配線に接続される。そして最下層段の導体リ
ード12′,15′と導体配線21,22の接合をより
確実にするために、導体リード12′,15′のはんだ
メッキ層13′,16′の厚さt′はより厚くしてあ
る。しかし上層段の導体リード12,15のはんだメッ
キ層13,16の厚さtは、はんだ付け時に余分なはん
だが隣接リードのはんだと接触して連結するはんだブリ
ッジを防止するためより薄くしている。すなわちはんだ
メッキ層13′,16′の厚さt′ははんだメッキ層1
3,16の厚さtよりも大きくなるようにフィルムキャ
リアを製作する。
【0013】以上のように本実施例によれば、メモリL
SIチップ6,6′を積層することにより、一定面積の
プリント配線板2に多数のメモリLSIチップ6を搭載
できるので、大容量のICメモリカードを実現でき、共
通電極10,10′に接続した導体リード12,12′
を、重ね合わせて導体配線21に接合しているので、配
線スペースが減少して信号伝達の高速化を実現できる。
また、導体リードの中間部12b,15bを絶縁フィル
ム17で連結し、導体リードの他端部12c,15cを
絶縁フィルム18で連結しているので、導体リード1
2,15の変形が少なく、はんだ付け等の組立て工程が
容易となって低コストのICメモリカードを実現でき、
さらに、最下層段の導体リード12′,15′につい
て、それぞれの表面のはんだメッキ層13′,16′の
厚さt′はより厚いので、導体配線21,22との接合
が確実となり、上層段の導体リード12,15の表面の
はんだメッキ層13,16の厚さtはより薄いので、は
んだ付け時に余分なはんだが隣接リードのはんだと接触
して連結するはんだブリッジを防止でき、信頼性の高い
ICメモリカードを実現できる。
【0014】
【発明の効果】本発明のICメモリカードは、メモリL
SIチップの電極にフィルムキャリア方式により導体リ
ードの一端部を接合し、このメモリLSIチップをプリ
ント配線板に複数個積層し、メモリLSIチップの共通
電極に接合した導体リードの中間部および他端部を絶縁
フィルムで連結し、最下層段の導体リード表面のはんだ
メッキ層厚さを、他の上層段の導体リード表面のはんだ
メッキ層厚さより厚くした構成である。従って本発明
は、一定面積のプリント配線板に多数のメモリLSIチ
ップを搭載して大容量化を実現し、プリント配線板にお
ける配線スペースが小さくなるため、信号伝達の速いI
Cメモリカードを実現でき、また、導体リードの中間部
および他端部を絶縁フィルムで連結しているのではんだ
接合等の組立て工程が容易となって低コスト化を実現で
き、さらに、導体リードと導体配線のはんだ接合を確実
にし、隣接リード同士のはんだブリッジを防止して信頼
性の高いICメモリカードを実現できるなどの優れた効
果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例におけるICメモリカードの
一部を切り欠いた斜視図
【図2】同メモリカードの電気回路のブロック図
【図3】同メモリカードの部分断面図
【図4】同メモリカードのメモリLSIチップの積層状
態を示す部分斜視図
【図5】従来のICメモリカードにおける部分断面図
【符号の説明】
2 プリント配線板 6,6′ メモリLSIチップ 10,10′ 共通電極 12 導体リード 12a 導体リードの一端部 12b 導体リードの中間部 12c 導体リードの他端部 13 はんだメッキ層 17,18 絶縁フィルム 21 導体配線 t,t′ はんだメッキ層厚さ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山村 憲司 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】メモリLSIチップの電極に導体リードの
    一端部を接合し、前記メモリLSIチップを、前記電極
    の配列を同一方向としてプリント配線板に複数個積層
    し、前記メモリLSIチップの共通電極に接続した前記
    導体リードの中間部および他端部を絶縁フィルムで連結
    し、前記導体リードの中間部から他端部の間を、部分的
    に重ね合わせて前記プリント配線板の導体配線に接合し
    た構成であって、前記積層した最下層段の導体リードの
    はんだメッキ層厚さを、他の上層段の導体リードのはん
    だメッキ層厚さよりも厚くしたことを特徴とするICメ
    モリカード。
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