JPH05123658A - 被洗浄物の洗浄方法およびその装置 - Google Patents

被洗浄物の洗浄方法およびその装置

Info

Publication number
JPH05123658A
JPH05123658A JP29840591A JP29840591A JPH05123658A JP H05123658 A JPH05123658 A JP H05123658A JP 29840591 A JP29840591 A JP 29840591A JP 29840591 A JP29840591 A JP 29840591A JP H05123658 A JPH05123658 A JP H05123658A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
solvent
cleaned
tank
steam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP29840591A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2535466B2 (ja
Inventor
Masahide Uchino
正英 内野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Field Co Ltd
Original Assignee
Japan Field Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Field Co Ltd filed Critical Japan Field Co Ltd
Priority to JP3298405A priority Critical patent/JP2535466B2/ja
Priority to TW81110340A priority patent/TW204306B/zh
Publication of JPH05123658A publication Critical patent/JPH05123658A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2535466B2 publication Critical patent/JP2535466B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 耐熱性の低い被洗浄物を、沸点の高い高沸点
溶剤で蒸気洗浄可能とすることにより、1種類の溶剤で
浸漬洗浄及び蒸気洗浄を可能とする。その結果、洗浄作
業の手数を省くとともに溶剤の種類を減少し、溶剤の管
理を容易とし、保管の安全性を向上する。 【構成】溶剤2を加熱する加熱機構3を蒸気発生槽1に
設ける。この蒸気発生槽1に減圧機構24を接続し、内
部を減圧可能とすることにより、常圧状態よりも低い温
度で洗浄蒸気を発生させる。この洗浄蒸気を被洗浄物2
1に接触して蒸気洗浄を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子部品、機械部品、
プリント基板等の被洗浄物の洗浄方法およびその装置に
係るものである。
【0002】
【従来の技術】従来、電子部品、機械部品、プリント基
板等の被洗浄物の洗浄には、洗浄力が優れていること、
沸点が低く一液で液洗浄も蒸気洗浄も行うことができる
ことから、フッ素系有機溶剤や塩素系有機溶剤が多用さ
れて来た。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、フッ素系有機
溶剤や塩素系有機溶剤は、人体に悪影響を与えたり、オ
ゾン層を破壊したりするため使用が規制されるものとな
った。
【0004】そこで、テルペン溶剤、シリコン系溶剤、
炭化水素系溶剤、親水性溶剤等を洗浄液として使用する
ことが考慮される。
【0005】しかしながら、これらの溶剤は沸点が高
く、蒸気温度も高いものとなるから、被洗浄物が耐えら
れないものとなる。従って、現状ではテルペン溶剤、シ
リコン系溶剤、炭化水素系溶剤、親水性溶剤等を蒸気洗
浄用の溶剤として使用する事は困難なものである。
【0006】また、高沸点溶剤を蒸気化すると、高温蒸
気となるため作業上危険であったり、高温化するために
多くのエネルギーを必要とし、不経済となる欠点を有し
ている。
【0007】本発明は上述のごとき欠点を除去し、テル
ペン溶剤、シリコン系溶剤、炭化水素系溶剤、親水性溶
剤等の高沸点溶剤を、常圧下に於けるよりも低い温度で
沸騰蒸発させ、蒸気洗浄用の溶剤として使用する事を可
能にしようとするものである。
【0008】また、本発明は、完全フッ素化液体、イソ
プロピルアルコール、エチルアルコール、メチルアルコ
ール等の低沸点溶剤を、常圧下に於けるよりも更に低い
温度で蒸発を生じさせる事も勿論可能となる。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は上述のごとき課
題を解決するため、溶剤を減圧雰囲気内で加熱して蒸気
を発生させ、この蒸気を用いて被洗浄物の蒸気洗浄を行
うことを特徴とするものである。
【0010】また、減圧雰囲気内の気圧は、任意に設定
し得るものであっても良い。
【0011】また、上記方法を実施する装置としては、
溶剤を加熱する加熱機構を蒸気発生槽に設け、この蒸気
発生槽に減圧機構、を接続し、内部を減圧可能とすると
ともに内部に被洗浄物の洗浄を行う洗浄部を形成して成
るものである。
【0012】また、他の発明は、溶剤を加熱する加熱機
構を設けるとともに減圧機構に接続し、内部を減圧可能
とする蒸気発生槽と、この蒸気発生槽と蒸気供給管及び
制御弁を介して連通可能に形成するとともに減圧機構に
接続し、内部を減圧し得る被洗浄物の洗浄槽とから成る
ものである。
【0013】また、減圧機構と被洗浄物の洗浄槽とは、
凝縮器を介して接続したものであっても良い。
【0014】また、蒸気発生槽は圧力調整弁を介して減
圧機構に接続し、蒸気発生槽内の圧力を任意に調整し得
るものとしたものであっても良い。
【0015】また、蒸気発生槽と被洗浄物の洗浄槽と
は、圧力調整弁を介して減圧機構に接続し、蒸気発生槽
内及び被洗浄物の洗浄槽内の圧力を任意に調整し得るも
のとしたものであっても良い。
【0016】また、 溶剤は、沸点100℃〜200℃
の高沸点溶剤を用いるものであっても良い。
【0017】また、溶剤は、完全フッ素化液体、イソプ
ロピルアルコール、エチルアルコール、メチルアルコー
ルを用いるものであっても良い。
【0018】
【作用】本発明は上述のごとく構成したものであるか
ら、被洗浄物の洗浄に当たっては、被洗浄物の材質、被
洗浄物に付着した汚物等を考慮して最適の溶剤を選択す
る。この場合、フッ素系有機溶剤や塩素系有機溶剤を選
択しないのは当然である。そして、この溶剤により被洗
浄物の蒸気洗浄以外の通常の液洗浄を行う。次に、この
液洗浄に使用した最適溶剤の沸点が高く、被洗浄物が熱
的に耐えられないものである場合には、溶剤を減圧雰囲
気内で加熱して蒸気を発生させる。
【0019】この蒸気は、減圧雰囲気内で発生させるも
のであるから、常圧下で溶剤を沸騰して発生させる場合
よりも低い温度で発生し、この低い蒸気温度で被洗浄物
の蒸気洗浄を行う事ができる。そのため、高温には耐え
られない素材の被洗浄物であっても、汚物除去に最適の
溶剤を選択して、低い温度での蒸気洗浄を行うことが可
能となる。
【0020】その結果、従来は浸漬洗浄、シャワー洗浄
等の液洗浄にしか使用できなかった、テルペン溶剤、シ
リコン系溶剤、炭化水素系溶剤、親水性溶剤等の高沸点
溶剤を、蒸気洗浄にも使用することができる。そのた
め、フッ素系有機溶剤や塩素系有機溶剤を使用すること
なく、環境に悪影響を及ぼすことのない蒸気洗浄を可能
とする。
【0021】また、液洗浄と蒸気洗浄とが1種類の溶剤
で可能となり、洗浄作業の手数を大幅に減少できる。ま
た、洗浄作業に使用する溶剤の種類が減るため、溶剤の
在庫を少なくし経済的であると共に、火災等の危険を防
止できる。
【0022】また、蒸気発生槽、洗浄槽等の内部が減圧
され、内部の空気が希薄なものとなるため、溶剤に可燃
性のものを選択しても、引火の危険を大幅に減少するこ
とができるものである。
【0023】また、減圧雰囲気内の気圧を任意に設定し
得るものとすれば、減圧の度合いを変えて、種々の蒸気
温度を得ることにより、素材の異なる被洗浄物を1種類
の溶剤で、浸漬洗浄から蒸気洗浄まで行う事ができ、減
圧の度合いを1つとした場合に比較し、更に作業性を向
上し、溶剤の種類を減らす事ができるものである。
【0024】また、溶剤に、沸点が100℃〜200℃
の高沸点溶剤を用いれば、引火の危険が少なく、消防法
上の規制も受ける事が少なく、在庫管理が容易となる。
また、高沸点溶剤は在庫中に於ける自然の蒸発消耗が少
なくランニングコストを低くすることができる。
【0025】
【実施例】以下本発明の第1実施例を図1に於いて説明
すれば、(1)は蒸気発生槽で、溶剤(2)を加熱する加熱
機構(3)を設けて、蒸気発生部(4)としている。この加
熱機構(3)は溶剤(2)中に位置させた加熱コイル(5)内
に加熱スチームを導入して行う。この加熱スチームは、
供給源から電磁弁(6)、ニードルバルブ(7)を介して加
熱コイル(5)に導入し、この加熱コイル(5)を介して溶
剤(2)と熱交換を行った後、凝縮した水分を、スチーム
トラップ(8)を介して外部に排出する。また圧力計(1
0)による加熱スチームの圧力監視を行う。
【0026】また、電磁弁(6)は溶剤(2)のサーモコン
トローラー(11)と接続し、開閉弁操作を行う。また、
蒸気発生槽(1)内は、圧力計(12)、圧力スイッチ(1
3)等により常時内部圧力を監視し、万一、異常昇圧が
生じた場合には安全弁(14)を作動さて、内部圧力を減
少する。
【0027】また、蒸気発生槽(1)は、上部方向に冷却
コイル(15)を巻き回して凝縮部(16)を形成してい
る。この冷却コイル(15)には、冷却水の導入管(17)
と排出管(18)を接続し、凝縮部(16)で凝縮した溶剤
を、水分分離器(20)で水分と分離した後、蒸気発生槽
(1)内に還流する。
【0028】また、この蒸気発生槽(1)は、溶剤(2)を
充填した蒸気発生部(4)と凝縮部(16)との間に、被洗
浄物(21)の蒸気洗浄を行う蒸気洗浄部(22)を形成
し、洗浄槽を兼ねている。また蒸気発生槽(1)の上端に
は、被洗浄物(21)の出入を行う蓋体(23)を密閉して
いる。
【0029】また蒸気発生槽(1)は、バキュームポン
プ、アスピレーター等の減圧機構(24)を接続し、内部
を減圧可能としている。この減圧機構(24)は、圧力調
整弁(25)を介して蒸気発生槽(1)に接続し、蒸気発生
槽(1)内の減圧度合いを任意に調整し得るものとしてい
る。
【0030】また、蒸気発生槽(1)内を減圧する過程で
減圧機構(24)方向に吸引される洗浄蒸気は、凝縮器
(26)によって凝縮液化する。この凝縮器(26)は、内
部に冷却水(27)を充填流動し、この冷却水(27)内に
バキュームパイプ(28)を浸漬することにより、洗浄蒸
気の凝縮液化を行う。
【0031】この凝縮液化した溶剤(2)は、電磁弁(3
0)を介して減圧機構(24)で吸引し、溶剤槽(31)に
貯留するとともにオーバーフロー管(32)を介して蒸気
発生槽(1)の蒸気発生部(4)に還流している。また、こ
の溶剤槽(31)は溶剤(2)の上部に空間部(33)を設
け、この空間部(33)に排気管(34)を挿入している。
【0032】上述のごとく構成したものに於いては、蒸
気発生槽(1)内を減圧して洗浄蒸気を発生するため、溶
剤(2)の沸点を常圧よりも低くすることができる。その
結果、従来は行うことができなかった、テルペン溶剤、
シリコン系溶剤、炭化水素系溶剤、親水性溶剤等の高沸
点溶剤を洗浄液として使用することが可能となる。そし
て、前述したごとく、高温には耐えられない素材の被洗
浄物(21)であっても、上記の溶剤を選択して、低い温
度での蒸気洗浄を行うことが可能となる。
【0033】また、浸漬洗浄の場合も蒸気洗浄の場合
も、同一の溶剤で洗浄作業を行うことが可能となり、洗
浄作業の手数を大幅に減少できる。また、溶剤(2)の在
庫を少なくし経済的で、火災等の危険も防止できる。
【0034】また、蒸気洗浄部(22)内の気圧を任意に
設定できるから、減圧の度合いを変えて、種々の蒸気温
度を得ることにより、素材の異なる被洗浄物(21)を1
種類の溶剤(2)で、浸漬洗浄から蒸気洗浄まで行う事が
できる。
【0035】また、蒸気発生槽(1)の内部に、被洗浄物
(21)の蒸気洗浄部(22)を形成するものであるから、
洗浄槽を別個に形成するものに比較し、装置の構成を簡
略化することができる。
【0036】また、上記の第1実施例では、蒸気発生槽
(1)の内部に、被洗浄物(21)の蒸気洗浄部(22)を形
成したが、第2実施例では、図2に示すごとく、蒸気発
生槽(1)とは別個に形成した洗浄槽(38)の内部で、被
洗浄物(21)の蒸気洗浄を行う。
【0037】この洗浄槽(38)は、蒸気供給管(42)及
び制御弁(43)を介して蒸気発生槽(1)と連通可能と
し、内部に蒸気洗浄部(22)を形成する。また、蒸気洗
浄部(22)の上部内面には冷却コイル(44)を巻き回し
て凝縮部(45)を設けている。また、この凝縮部(45)
の上部を蓋体(46)で開閉可能に密閉し、被洗浄物(2
1)の出入を可能としている。
【0038】また、洗浄槽(38)は減圧機構(24)に接
続し、内部を減圧し得るものとする。この減圧機構(2
4)と洗浄槽(38)との接続は、圧力調整弁(25)との
間に開閉弁(47)を設けて行っている。
【0039】上述のごとく構成したものにおいて、被洗
浄物(21)の洗浄を行うには、まず蒸気発生槽(1)を減
圧して蒸気を発生させた後、開閉弁(47)を開弁して洗
浄槽(38)の内部を減圧する。そして、洗浄槽(38)の
内部を蒸気発生槽(1)と略同一の気圧とした時に、制御
弁(43)を開弁し洗浄槽(38)の蒸気洗浄部(22)に、
蒸気発生槽(1)の洗浄蒸気を導入し、被洗浄物(21)の
蒸気洗浄を行う。
【0040】また、上記の第2実施例では、被洗浄物
(21)を洗浄槽(38)内で、蒸気洗浄のみを行ったが、
第3実施例では、被洗浄物(21)の位置を一定としたま
ま、洗浄槽内で蒸気洗浄と浸漬洗浄を行うことができる
ものとしている。
【0041】この第3実施例は、図3に示すごとく洗浄
槽(38)の溶剤(2)の液面よりも上部に、第1開閉弁
(48)を介して外気に連通する連結管(50)を接続す
る。また、この連結管(50)には、第2開閉弁(51)を
介して溶剤(2)の貯留槽(52)の上部空間に連通管(5
3)を接続している。
【0042】また、洗浄槽(38)は、下部に第3開閉弁
(54)を介して溶剤(2)の貯留槽(52)を接続し、洗浄
槽(38)内の溶剤(2)を貯留槽(52)に抜き取り可能と
している。また、貯留槽(52)に抜き取った溶剤(2)
は、ポンプ(55)とフイルター(56)を介して洗浄槽
(38)に還流可能としている。
【0043】また、洗浄槽(38)の凝縮部(16)の上部
に接続した吸引管(57)の第4開閉弁(58)を介して凝
縮器(26)に接続している。また、凝縮器(26)と蒸気
発生槽(1)とは第5開閉弁(59)を介して連通してい
る。また、凝縮器(26)と蒸気発生槽(1)とは、内径を
小さくした管をコイル状に形成した安全用バイパス(6
1)により常時連通している。
【0044】上述のごとく構成したものにおいて、被洗
浄物(21)の洗浄を行うには、第1開閉弁(48)を開弁
し、洗浄槽(38)内に外気を導入して蓋体(62)を開放
し、被洗浄物(21)を内部に導入する。この時、第2、
第3、第3、第4の開閉弁(51)(54)(58)及び制御
弁(43)は閉止している。
【0045】次に、洗浄槽(38)内で蒸気洗浄と浸漬洗
浄を併用する場合は、第1、第3、第4の開閉弁(48)
(54)(58)及び制御弁(43)を閉止し、第2開閉弁
(51)を開弁してポンプ(55)を作動する。そして、貯
留槽(52)の溶剤(2)を洗浄槽(38)に導入し、浸漬洗
浄または超音波洗浄を行う。
【0046】次に、被洗浄物(21)の蒸気洗浄を行うに
は、第1、第4の開閉弁(48)(58)を閉止し、第2、
第3の開閉弁(51)(54)を開弁状態とすることによ
り、洗浄槽(38)内の溶剤(2)を貯留槽(52)に入れ、
洗浄槽(38)内を空にする。尚、この状態では第5開閉
弁(59)は開弁し、減圧機構(24)が作動しているか
ら、蒸気発生槽(1)内は減圧状態となっており、常圧の
時よりも低い温度で溶剤蒸気を発生させている。
【0047】次に、第2、第3の開閉弁(51)(54)を
閉止し、第4開閉弁(58)を開弁する。そして、減圧機
構(24)を作動して洗浄槽(38)内を減圧し、蒸気発生
槽(1)内と同一圧と成ったときに、制御弁(43)を開弁
し、第6開閉弁(59)を閉止する。そして、洗浄槽(3
8)内に溶剤蒸気を導入して、被洗浄物(21)の減圧蒸
気洗浄を行う。
【0048】この、減圧蒸気洗浄の完了後は、制御弁
(43)及び第5開閉弁(59)を閉止し、第4開閉弁(5
8)を開弁状態とすれば、洗浄槽(38)内で、被洗浄物
(21)の真空乾燥を可能とする。この、被洗浄物(21)
の乾燥完了後は、第4開閉弁(58)を閉止し、第1開閉
弁(48)を開弁することにより、洗浄槽(38)内の圧力
を外気と平衡した後、蓋体(62)を開放して被洗浄物
(21)を取り出し洗浄作業を完了する。
【0049】上記の第3実施例では、洗浄槽(38)内で
被洗浄物(21)を移動する事なく、蒸気洗浄と浸漬洗浄
の両方を行うことができるから、被洗浄物(21)を洗浄
槽(38)内で上下動する複雑な機構が不要となり、廉価
な装置を得ることが出来るものである。
【0050】また、上記の第3実施例では、洗浄槽(3
8)内の減圧度合いを任意に設定する圧力調整弁(25)
を設けていないから、第1、第2の実施例のごとく、耐
熱性の異なる種々の被洗浄物(21)を、1種類の溶剤で
蒸気洗浄することはできない。しかし、洗浄対象となる
被洗浄物(21)の耐熱温度が一定の場合には、減圧度合
いの調整も不要で、機構を簡略化でき、廉価な装置を得
ることができるものである。
【0051】
【発明の効果】本発明は上述のごとく構成したものであ
るから、溶剤を減圧雰囲気内で加熱して蒸気を発生させ
ることにより、低い蒸気温度で被洗浄物の蒸気洗浄を行
う事ができる。そのため、環境、人体等に悪影響を及ぼ
すフッ素系有機溶剤や塩素系有機溶剤を用いずに、環
境、人体等に影響の少ないテルペン溶剤、シリコン系溶
剤、炭化水素系溶剤、親水性溶剤等を用いながら、耐熱
性の低い素材の被洗浄物を、低い温度で蒸気洗浄を行う
ことが可能となる。
【0052】その結果、耐熱性の低い被洗浄物でも、1
種類の溶剤で洗浄が可能となり、洗浄作業の手数を大幅
に減少できる。また、溶剤の在庫を少なくし経済的であ
ると共に多種類の溶剤を在庫とする事から生じる、火災
等の危険を防止できる。
【0053】また、減圧雰囲気内の気圧を任意に設定し
得るものとすれば、減圧の度合いを変えて、種々の蒸気
温度を得ることにより、素材の異なる被洗浄物を1種類
の溶剤で、浸漬洗浄から蒸気洗浄まで、または蒸気洗浄
のみを、行う事ができ、減圧の度合いを1つとした場合
に比較し、更に作業性を向上し、溶剤の種類を減らす事
ができるものである。
【0054】また、溶剤に、沸点が100℃〜200℃
の高沸点溶剤を用いれば、引火の危険が少なく、消防法
上の規制も受ける事が少ないとともに、高沸点溶剤は在
庫中に於ける自然の蒸発消耗が少なくランニングコスト
を低くすることができ、在庫管理も容易となる。
【0055】また、蒸気発生槽、洗浄槽等の内部が減圧
され、内部の空気が希薄なものとなるため、溶剤に可燃
性のものを選択しても、引火の危険を大幅に減少するこ
とができ、安全な洗浄作業を可能とする。
【0056】また、溶剤に、沸点が100℃未満の完全
フッ素化液体、イソプロピルアルコール、エチルアルコ
ール、メチルアルコール等の低沸点溶剤を用いれば、従
来では蒸気洗浄が困難であった極めて耐熱性の低い素材
の被洗浄物でも、低温での蒸気洗浄が可能となるもので
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施例を示す概略断面図である。
【図2】第2実施例を示す概略断面図である。
【図3】第3実施例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
1 蒸気発生槽 2 溶剤 3 加熱機構 21 被洗浄物 22 蒸気洗浄部 24 減圧機構 25 圧力調整弁 26 凝縮器
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年1月8日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0031
【補正方法】変更
【補正内容】
【0031】 この凝縮液化した溶剤(2)は、電磁弁
(30)を介して減圧機構(24)で吸引し、溶剤槽(31)
に貯留するとともに還流用電磁弁(29)を設けたオーバ
ーフロー管(32)を介して蒸気発生槽(1)の蒸気発生部
(4)に還流している。また、この溶剤槽(31)は溶剤
(2)の上部に空間部(33)を設け、この空間部(33)に
排気管(34)を挿入している。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0041
【補正方法】変更
【補正内容】
【0041】 この第3実施例は、図3に示すごとく洗
浄槽(38)の溶剤(2)の液面よりも上部に、第1開閉弁
(48)を介して外気に連通する連結管(50)を接続す
る。また、この連結管(50)には、第2開閉弁(51)を
介して溶剤(2)の貯留槽(52)の上部空間に連通管(5
3)を接続している。また、貯留槽(52)は、電磁弁(2
9)を設けたオバーフロー管(64)を蒸気発生槽(1)に
接続する。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0042
【補正方法】変更
【補正内容】
【0042】 また、洗浄槽(38)は、下部に第3開閉
弁(54)を介して溶剤(2)の貯留槽(52)を接続し、洗
浄槽(38)内の溶剤(2)を貯留槽(52)に抜き取り可能
としている。また、貯留槽(52)に抜き取った溶剤(2)
は、ポンプ(55)とフイルター(56)および電磁弁(6
3)を介して洗浄槽(38)に還流可能としている。
【手続補正4】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【図2】
【図3】

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 溶剤を減圧雰囲気内で加熱して蒸気を発
    生させ、この蒸気を用いて被洗浄物の蒸気洗浄を行うこ
    とを特徴とする被洗浄物の洗浄方法。
  2. 【請求項2】 溶剤は、沸点100℃〜200℃の高沸
    点溶剤を用いることを特徴とする請求項1記載の被洗浄
    物の洗浄方法。
  3. 【請求項3】 溶剤は、完全フッ素化液体、イソプロピ
    ルアルコール、エチルアルコール、メチルアルコールを
    用いることを特徴とする請求項1記載の被洗浄物の洗浄
    方法。
  4. 【請求項4】 減圧雰囲気内の気圧は、任意に設定し得
    るものであることを特徴とする請求項1記載の被洗浄物
    の洗浄方法。
  5. 【請求項5】 溶剤を加熱する加熱機構を蒸気発生槽に
    設け、この蒸気発生槽に減圧機構を接続し、内部を減圧
    可能とするとともに内部に被洗浄物の洗浄を行う洗浄部
    を形成したことを特徴とする被洗浄物の洗浄装置。
  6. 【請求項6】 溶剤を加熱する加熱機構を設けるととも
    に減圧機構に接続し、内部を減圧可能とする蒸気発生槽
    と、この蒸気発生槽と制御弁を介して連通可能に形成す
    るとともに減圧機構に接続し、内部を減圧し得る被洗浄
    物の洗浄槽とから成ることを特徴とする被洗浄物の洗浄
    装置。
  7. 【請求項7】 減圧機構と被洗浄物の洗浄槽とは、凝縮
    器を介して接続したことを特徴とする請求項5、6記載
    の被洗浄物の洗浄装置。
  8. 【請求項8】 蒸気発生槽は圧力調整弁を介して減圧機
    構に接続し、蒸気発生槽内の圧力を任意に調整し得るも
    のとした請求項5記載の被洗浄物の洗浄装置。
  9. 【請求項9】 蒸気発生槽と被洗浄物の洗浄槽とは、圧
    力調整弁を介して減圧機構に接続し、蒸気発生槽内及び
    被洗浄物の洗浄槽内の圧力を任意に調整し得るものとし
    た事を特徴とする請求項6記載の被洗浄物の洗浄装置。
  10. 【請求項10】 溶剤は、沸点100℃〜200℃の高
    沸点溶剤を用いることを特徴とする請求項5、6記載の
    被洗浄物の洗浄装置。
  11. 【請求項11】 溶剤は、完全フッ素化液体、イソプロ
    ピルアルコール、エチルアルコール、メチルアルコール
    を用いることを特徴とす請求項5、6記載の被洗浄物の
    洗浄装置。
JP3298405A 1991-10-17 1991-10-17 可燃性溶剤を用いた被洗浄物の洗浄装置 Expired - Lifetime JP2535466B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3298405A JP2535466B2 (ja) 1991-10-17 1991-10-17 可燃性溶剤を用いた被洗浄物の洗浄装置
TW81110340A TW204306B (ja) 1991-10-17 1992-12-24

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3298405A JP2535466B2 (ja) 1991-10-17 1991-10-17 可燃性溶剤を用いた被洗浄物の洗浄装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05123658A true JPH05123658A (ja) 1993-05-21
JP2535466B2 JP2535466B2 (ja) 1996-09-18

Family

ID=17859286

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3298405A Expired - Lifetime JP2535466B2 (ja) 1991-10-17 1991-10-17 可燃性溶剤を用いた被洗浄物の洗浄装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2535466B2 (ja)
TW (1) TW204306B (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0754179A (ja) * 1993-08-06 1995-02-28 Kimura Chem Plants Co Ltd 洗浄乾燥装置
JPH07171301A (ja) * 1993-12-08 1995-07-11 Japan Field Kk 蒸留再生装置およびこの蒸留再生装置を用いた蒸気洗浄装置
JPH07185202A (ja) * 1993-12-28 1995-07-25 Japan Field Kk 蒸留再生装置およびこの蒸留再生装置を用いた洗浄装置
JPH1034097A (ja) * 1996-07-25 1998-02-10 Aqua Kagaku Kk 洗浄装置
JP2000325893A (ja) * 1996-07-25 2000-11-28 Aqua Kagaku Kk 洗浄装置
WO2006129402A1 (ja) * 2005-06-01 2006-12-07 Japan Field Co., Ltd. 被洗浄物の洗浄方法及びその装置
JP6306257B1 (ja) * 2017-09-20 2018-04-04 正英 内野 グリースが付着した被洗浄物の汚染グリース除去洗浄方法

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54113965A (en) * 1978-02-27 1979-09-05 Paakaa Netsushiyori Kougiyou K Solvent washing method and its device
JPS54154166A (en) * 1978-05-26 1979-12-05 Nippon Kakouki Kougiyou Kk Solvent vapor dispersion preventive method in washer for organic solvent
JPS56115676A (en) * 1980-02-15 1981-09-10 Paakaa Netsushiyori Kogyo Kk Solvent washing method and its device
JPS62169420A (ja) * 1986-01-22 1987-07-25 Hitachi Tokyo Electron Co Ltd 表面処理方法および装置
JPS62279877A (ja) * 1986-05-29 1987-12-04 株式会社日立製作所 洗浄装置
JPS6373934U (ja) * 1986-10-31 1988-05-17
JPS63193588U (ja) * 1987-05-29 1988-12-13
JPS6479300A (en) * 1987-09-21 1989-03-24 Nippon Petrochemicals Co Ltd Solvent for dry cleaning
JPH01179784U (ja) * 1988-06-03 1989-12-25
JPH0259086A (ja) * 1988-08-25 1990-02-28 Tokuyama Soda Co Ltd 洗浄方法及び装置
JPH0349633A (ja) * 1989-07-14 1991-03-04 Shimano Ind Co Ltd 釣竿
JPH0389985A (ja) * 1989-05-29 1991-04-15 Japan Fuirudo Kk 被洗浄物の洗浄方法および装置
JPH03101881A (ja) * 1989-09-18 1991-04-26 Yamazaki Kagaku Kogyo Kk 真空洗浄装置
JPH03152545A (ja) * 1989-11-09 1991-06-28 Minolta Camera Co Ltd 感光体の製造法

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54113965A (en) * 1978-02-27 1979-09-05 Paakaa Netsushiyori Kougiyou K Solvent washing method and its device
JPS54154166A (en) * 1978-05-26 1979-12-05 Nippon Kakouki Kougiyou Kk Solvent vapor dispersion preventive method in washer for organic solvent
JPS56115676A (en) * 1980-02-15 1981-09-10 Paakaa Netsushiyori Kogyo Kk Solvent washing method and its device
JPS62169420A (ja) * 1986-01-22 1987-07-25 Hitachi Tokyo Electron Co Ltd 表面処理方法および装置
JPS62279877A (ja) * 1986-05-29 1987-12-04 株式会社日立製作所 洗浄装置
JPS6373934U (ja) * 1986-10-31 1988-05-17
JPS63193588U (ja) * 1987-05-29 1988-12-13
JPS6479300A (en) * 1987-09-21 1989-03-24 Nippon Petrochemicals Co Ltd Solvent for dry cleaning
JPH01179784U (ja) * 1988-06-03 1989-12-25
JPH0259086A (ja) * 1988-08-25 1990-02-28 Tokuyama Soda Co Ltd 洗浄方法及び装置
JPH0389985A (ja) * 1989-05-29 1991-04-15 Japan Fuirudo Kk 被洗浄物の洗浄方法および装置
JPH0349633A (ja) * 1989-07-14 1991-03-04 Shimano Ind Co Ltd 釣竿
JPH03101881A (ja) * 1989-09-18 1991-04-26 Yamazaki Kagaku Kogyo Kk 真空洗浄装置
JPH03152545A (ja) * 1989-11-09 1991-06-28 Minolta Camera Co Ltd 感光体の製造法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0754179A (ja) * 1993-08-06 1995-02-28 Kimura Chem Plants Co Ltd 洗浄乾燥装置
JPH07171301A (ja) * 1993-12-08 1995-07-11 Japan Field Kk 蒸留再生装置およびこの蒸留再生装置を用いた蒸気洗浄装置
JPH07185202A (ja) * 1993-12-28 1995-07-25 Japan Field Kk 蒸留再生装置およびこの蒸留再生装置を用いた洗浄装置
JPH1034097A (ja) * 1996-07-25 1998-02-10 Aqua Kagaku Kk 洗浄装置
JP2000325893A (ja) * 1996-07-25 2000-11-28 Aqua Kagaku Kk 洗浄装置
WO2006129402A1 (ja) * 2005-06-01 2006-12-07 Japan Field Co., Ltd. 被洗浄物の洗浄方法及びその装置
JP6306257B1 (ja) * 2017-09-20 2018-04-04 正英 内野 グリースが付着した被洗浄物の汚染グリース除去洗浄方法
WO2019058624A1 (ja) * 2017-09-20 2019-03-28 ジャパン・フィールド株式会社 グリースが付着した被洗浄物の汚染グリース除去洗浄方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW204306B (ja) 1993-04-21
JP2535466B2 (ja) 1996-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102425144B1 (ko) 침지 냉각
US5752532A (en) Method for the precision cleaning and drying surfaces
WO1992011498A1 (en) Vapor device and method for drying articles such as semiconductor wafers with substances such as isopropyl alcohol
US7444761B2 (en) Intrinsically safe flammable solvent processing method and system
WO2006129402A1 (ja) 被洗浄物の洗浄方法及びその装置
JPH05123658A (ja) 被洗浄物の洗浄方法およびその装置
JP7148975B2 (ja) 蒸気洗浄・減圧乾燥装置
TW208689B (ja)
US20040226186A1 (en) Apparatus for drying semiconductor substrates using azeotrope effect and drying method using the apparatus
JP3788588B2 (ja) 部品洗浄乾燥方法
KR100530019B1 (ko) 용제 재생기가 장착된 세정장치
JP3634718B2 (ja) 洗浄装置
JP2009131783A (ja) ベーパー洗浄乾燥装置及びそれを用いたベーパー洗浄乾燥方法
KR950013496B1 (ko) 피세정물의 세정방법 및 장치
WO2003006184A1 (fr) Dispositif de lavage et procede de lavage
JPH064953Y2 (ja) 有機溶剤を用いる洗浄装置
JP6526858B2 (ja) 洗浄液蒸留再生装置、部品洗浄装置、及び、洗浄液の蒸留再生方法
JP3964862B2 (ja) 洗浄乾燥装置および洗浄乾燥方法
US6519869B2 (en) Method and apparatus for drying semiconductor wafers
JPH06163508A (ja) 基板の乾燥方法および装置
JP2010169281A (ja) 被乾燥物の乾燥方法及びその装置
JP2008028323A (ja) 基板処理装置
JPH05302909A (ja) 洗浄装置およびそれを用いる洗浄方法
JPH0418902A (ja) 冷媒の脱気処理装置
JPH06238244A (ja) 被洗浄物の蒸気洗浄方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 12

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080627

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090627

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 14

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100627

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 14

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100627

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 15

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110627

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120627

Year of fee payment: 16

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120627

Year of fee payment: 16