JPH05116970A - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ母材の製造方法Info
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- JPH05116970A JPH05116970A JP3284561A JP28456191A JPH05116970A JP H05116970 A JPH05116970 A JP H05116970A JP 3284561 A JP3284561 A JP 3284561A JP 28456191 A JP28456191 A JP 28456191A JP H05116970 A JPH05116970 A JP H05116970A
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/31—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
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- C03B2207/00—Glass deposition burners
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- C03B2207/54—Multiple burner arrangements combined with means for heating the deposit, e.g. non-deposition burner
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】安定した屈折率分布を得ることができる光ファ
イバ母材の製造方法を提供する。 【構成】バーナ３とターゲットである光ファイバ母材４
との間を微粒子を介して流れる電流を電流計７で測定
し、この測定電流が略一定になるように原料ガスの流量
を、マスフローコントローラ１０でキャリアガスを制御
することにより制御する。
イバ母材の製造方法を提供する。 【構成】バーナ３とターゲットである光ファイバ母材４
との間を微粒子を介して流れる電流を電流計７で測定
し、この測定電流が略一定になるように原料ガスの流量
を、マスフローコントローラ１０でキャリアガスを制御
することにより制御する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＶＡＤ法又は外付け法
によって多孔質の光ファイバ母材を製造する光ファイバ
母材の製造方法に関するものである。
によって多孔質の光ファイバ母材を製造する光ファイバ
母材の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、光ファイバ母材を製造するには、
ＶＡＤ法によってコアと一部のクラッドを多孔質の光フ
ァイバ母材として製造し、該光ファイバ母材のガラス化
して得られた種棒をターゲットとしてその外周に外付け
法によって残りのクラッドを合成している。いずれのプ
ロセスにおいても、一般的に、酸水素バーナを用いて、
原料ガス例えばＳｉＣｌ4 ，ＧｅＣｌ4 の蒸気を酸水素
火炎中で加水分解して、ＳｉＯ2 ，ＧｅＯ2 の微粒子を
形成し、該微粒子を回転するターゲットに付着させてい
る。
ＶＡＤ法によってコアと一部のクラッドを多孔質の光フ
ァイバ母材として製造し、該光ファイバ母材のガラス化
して得られた種棒をターゲットとしてその外周に外付け
法によって残りのクラッドを合成している。いずれのプ
ロセスにおいても、一般的に、酸水素バーナを用いて、
原料ガス例えばＳｉＣｌ4 ，ＧｅＣｌ4 の蒸気を酸水素
火炎中で加水分解して、ＳｉＯ2 ，ＧｅＯ2 の微粒子を
形成し、該微粒子を回転するターゲットに付着させてい
る。
【０００３】ターゲットに付着する微粒子の量や分布
は、バーナの火炎の形状や母材表面の温度等さまざまな
要因で変化する。
は、バーナの火炎の形状や母材表面の温度等さまざまな
要因で変化する。
【０００４】これまでに、上記のさまざまな要因を検討
することにより、安定した光ファイバ母材の製造が実現
しているが、ＶＡＤ法での屈折率分布の制御において
は、原料ガスの変動等による品質のばらつきが僅かなが
ら発生している。
することにより、安定した光ファイバ母材の製造が実現
しているが、ＶＡＤ法での屈折率分布の制御において
は、原料ガスの変動等による品質のばらつきが僅かなが
ら発生している。
【０００５】このような従来の方法での原料ガスコント
ロールは、マスフローコントローラによって流量がコン
トロールされたキャリアガスを、温度コントロールされ
たタンク内の原料液中に吹き込み、バーナへと運ぶバブ
リング法が一般的である。
ロールは、マスフローコントローラによって流量がコン
トロールされたキャリアガスを、温度コントロールされ
たタンク内の原料液中に吹き込み、バーナへと運ぶバブ
リング法が一般的である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
方法では、バーナから非常に離れた場所での、キャリア
ガス流量とタンク温度のコントロールで安定性が決まっ
てしまい、バーナで発生するＳｉＯ2 微粒子の量が保証
されていず、安定した屈折率分布が得られない問題点が
ある。
方法では、バーナから非常に離れた場所での、キャリア
ガス流量とタンク温度のコントロールで安定性が決まっ
てしまい、バーナで発生するＳｉＯ2 微粒子の量が保証
されていず、安定した屈折率分布が得られない問題点が
ある。
【０００７】本発明の目的は、安定した屈折率分布を得
ることができる光ファイバ母材の製造方法を提供するこ
とにある。
ることができる光ファイバ母材の製造方法を提供するこ
とにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成する本
発明の手段を説明すると、次の通りである。
発明の手段を説明すると、次の通りである。
【０００９】請求項１に記載の本発明は、バーナから吹
き出す原料ガスを酸水素火炎中で加水分解して微粒子を
合成し、該微粒子をターゲットに付着して多孔質の光フ
ァイバ母材を製造する光ファイバ母材の製造方法におい
て、前記バーナと前記ターゲットとの間を前記微粒子を
介して流れる電流を測定し、該電流が略一定になるよう
に前記原料ガスの流量をコントロールすることを特徴と
する。
き出す原料ガスを酸水素火炎中で加水分解して微粒子を
合成し、該微粒子をターゲットに付着して多孔質の光フ
ァイバ母材を製造する光ファイバ母材の製造方法におい
て、前記バーナと前記ターゲットとの間を前記微粒子を
介して流れる電流を測定し、該電流が略一定になるよう
に前記原料ガスの流量をコントロールすることを特徴と
する。
【００１０】請求項２に記載の本発明は、請求項１にお
いて、電流の測定は、前記バーナに電極を設け、該電極
と前記ターゲット若しくは該ターゲットに隣接した電極
との間に直流電圧を印加し、前記電極の少なくとも一方
に電流計を接続して行うことを特徴とする。
いて、電流の測定は、前記バーナに電極を設け、該電極
と前記ターゲット若しくは該ターゲットに隣接した電極
との間に直流電圧を印加し、前記電極の少なくとも一方
に電流計を接続して行うことを特徴とする。
【００１１】
【作用】このように、バーナとターゲットとの間を微粒
子を介して流れる電流を測定し、該電流が略一定になる
ように原料ガスの流量をコントロールすると、ターゲッ
トに対して供給される微粒子の量が安定し、安定した屈
折率分布を得ることができる光ファイバ母材の製造を容
易に行うことができる。
子を介して流れる電流を測定し、該電流が略一定になる
ように原料ガスの流量をコントロールすると、ターゲッ
トに対して供給される微粒子の量が安定し、安定した屈
折率分布を得ることができる光ファイバ母材の製造を容
易に行うことができる。
【００１２】また、電流の測定を、バーナに電極を設
け、該電極とターゲット若しくは該ターゲットに隣接し
た電極との間に直流電圧を印加し、前記電極に電流計を
接続して行うと、バーナ側の電極とターゲット若しくは
該ターゲットに隣接した電極との間に流れる電流の測定
を容易に行うことができる。
け、該電極とターゲット若しくは該ターゲットに隣接し
た電極との間に直流電圧を印加し、前記電極に電流計を
接続して行うと、バーナ側の電極とターゲット若しくは
該ターゲットに隣接した電極との間に流れる電流の測定
を容易に行うことができる。
【００１３】
第１実施例 ＶＡＤ法での実施例を説明する。ＶＡＤ法では、図１に
示すように、反応容器（図示せず）内に挿入された種棒
１を回転しながら引き上げて、コア用バーナ２とクラッ
ド用バーナ３の各先端の炎中で形成したＳｉＯ2 とＧｅ
Ｏ2 からなるコア用のガラス微粒子とＳｉＯ2 のみから
なるクラッド用のガラス微粒子を種棒１に付着させ、コ
ア部４ａとクラッド部４ｂとからなる多孔質の光ファイ
バ母材４を形成する。
示すように、反応容器（図示せず）内に挿入された種棒
１を回転しながら引き上げて、コア用バーナ２とクラッ
ド用バーナ３の各先端の炎中で形成したＳｉＯ2 とＧｅ
Ｏ2 からなるコア用のガラス微粒子とＳｉＯ2 のみから
なるクラッド用のガラス微粒子を種棒１に付着させ、コ
ア部４ａとクラッド部４ｂとからなる多孔質の光ファイ
バ母材４を形成する。
【００１４】コア用バーナ２とクラッド用バーナ３とし
ては、それぞれ４重管バーナを用い、原料ガスを流す中
心層（内径４mm）内に外径1.6 mmのタングステン電極５
を挿入し、０〜±25KVの高電圧を高圧直流電源６から印
加できるようにしている。また電極５を流れる微小電流
（max 100 μＡ）を測定する電流計７を電極５に直列接
続している。図では、クラッド用バーナ３にのみ電極５
を挿入しているが、コア用バーナ２に対しても図示しな
いが同様に電極，高圧直流電源，電流計が設けられてい
る。
ては、それぞれ４重管バーナを用い、原料ガスを流す中
心層（内径４mm）内に外径1.6 mmのタングステン電極５
を挿入し、０〜±25KVの高電圧を高圧直流電源６から印
加できるようにしている。また電極５を流れる微小電流
（max 100 μＡ）を測定する電流計７を電極５に直列接
続している。図では、クラッド用バーナ３にのみ電極５
を挿入しているが、コア用バーナ２に対しても図示しな
いが同様に電極，高圧直流電源，電流計が設けられてい
る。
【００１５】本実施例では、クラッド用バーナ３に着目
して電流値を測定した。該クラッド用バーナ３には、水
素10ＳＬＭ、酸素９ＳＬＭ、アルゴン１ＳＬＭ、ＳｉＣ
ｌ4 １g/min （キャリアガス：アルゴン800 ＳＣＣＭ）
のガスを流した。ＳｉＣｌ4 ガス（蒸気）は、ＳｉＣｌ
4 液を収容したタンク８を恒温槽９に収容し、ＳｉＣｌ
4 液中にマスフローコントローラ１０を経てキャリアガ
スＡｒを供給し、該キャリアガスＡｒのバブリングによ
り形成した。
して電流値を測定した。該クラッド用バーナ３には、水
素10ＳＬＭ、酸素９ＳＬＭ、アルゴン１ＳＬＭ、ＳｉＣ
ｌ4 １g/min （キャリアガス：アルゴン800 ＳＣＣＭ）
のガスを流した。ＳｉＣｌ4 ガス（蒸気）は、ＳｉＣｌ
4 液を収容したタンク８を恒温槽９に収容し、ＳｉＣｌ
4 液中にマスフローコントローラ１０を経てキャリアガ
スＡｒを供給し、該キャリアガスＡｒのバブリングによ
り形成した。
【００１６】電極５に印加する電圧を＋10KVに固定し、
ＳｉＣｌ4の流量を変化させたときの電流値の変化は、
図２に示すようになり、流量が多いほど電流も多く流れ
ることを見出だした。ＳｉＣｌ4 １g/min に対して、電
流は約50μＡ流れた。
ＳｉＣｌ4の流量を変化させたときの電流値の変化は、
図２に示すようになり、流量が多いほど電流も多く流れ
ることを見出だした。ＳｉＣｌ4 １g/min に対して、電
流は約50μＡ流れた。
【００１７】図３は、電流計７が測定した電流値の時間
変化を示したものである。キャリアガスＡｒの流量を80
0 ＳＣＣＭにしたときには、±１μＡの電流変動が0.25
秒の周期で発生している。キャリアガスＡｒの流量を、
800 ＳＣＣＭからその1/2 の400 ＳＣＣＭに変化させた
ところ、周期の変動は２倍の0.5 秒となった。これはバ
ブリングによる気泡の発生に起因していると考えられ、
光ファイバ母材４に対する微粒子付着量の変動に繋がっ
ていることが推測される。
変化を示したものである。キャリアガスＡｒの流量を80
0 ＳＣＣＭにしたときには、±１μＡの電流変動が0.25
秒の周期で発生している。キャリアガスＡｒの流量を、
800 ＳＣＣＭからその1/2 の400 ＳＣＣＭに変化させた
ところ、周期の変動は２倍の0.5 秒となった。これはバ
ブリングによる気泡の発生に起因していると考えられ、
光ファイバ母材４に対する微粒子付着量の変動に繋がっ
ていることが推測される。
【００１８】この僅かな変動を実際の光ファイバ母材４
の合成中に測定することは難しいため、図４に示すよう
な実験を行った。モータ１２によって円板１３を回転さ
せ、該円板１３にバーナ３の火炎中で合成したＳｉＯ2
微粒子を付着させた。このとき、先の変動に同期した回
転数を円板１３に与えた。120 rpm ，キャリアガス400
ＳＣＣＭで一定時間ＳｉＯ2 微粒子を円板１３を付着さ
せ、円周方向の付着量の変化をグラフ化したのが図５の
実線ａである。円板１３上に１箇所付着量の多い部分が
みられ、原料ガスの流量が変動しているのが分かる。キ
ャリアガス800ＳＣＣＭで行った場合は、破線ｂに示す
ようにピークが２つ現れた。
の合成中に測定することは難しいため、図４に示すよう
な実験を行った。モータ１２によって円板１３を回転さ
せ、該円板１３にバーナ３の火炎中で合成したＳｉＯ2
微粒子を付着させた。このとき、先の変動に同期した回
転数を円板１３に与えた。120 rpm ，キャリアガス400
ＳＣＣＭで一定時間ＳｉＯ2 微粒子を円板１３を付着さ
せ、円周方向の付着量の変化をグラフ化したのが図５の
実線ａである。円板１３上に１箇所付着量の多い部分が
みられ、原料ガスの流量が変動しているのが分かる。キ
ャリアガス800ＳＣＣＭで行った場合は、破線ｂに示す
ようにピークが２つ現れた。
【００１９】従来の方法で実際に光ファイバを製造した
ときのコアとクラッドとの屈折率分布を図６（Ａ）に示
す。△0.3 ％の設計に対して、0.01〜0.03％の揺らぎが
みられ、これは原料供給の変動が原因と考えられる。
ときのコアとクラッドとの屈折率分布を図６（Ａ）に示
す。△0.3 ％の設計に対して、0.01〜0.03％の揺らぎが
みられ、これは原料供給の変動が原因と考えられる。
【００２０】図７に、これら原料供給の変動を押さえる
ために行った対策を示す。タンク８からの原料ガス供給
ライン１４に高速応答のピエゾバルブ１５を設け、電流
計７で測定された電極５に流れる電流が一定になるよう
に、調節器１６によってピエゾバルブ１５の開度をコン
トロールした。
ために行った対策を示す。タンク８からの原料ガス供給
ライン１４に高速応答のピエゾバルブ１５を設け、電流
計７で測定された電極５に流れる電流が一定になるよう
に、調節器１６によってピエゾバルブ１５の開度をコン
トロールした。
【００２１】図８にピエゾバルブ１５の開度の有無での
電流値と該ピエゾバルブ１５の開度の関係を示す。バル
ブコントロールを行わない場合、電流の変動が0.5 秒周
期で発生しているが、バルブコントロールを開始してバ
ルブ１５の開度を高速で変化させたところ、電流値の変
動を押さえることができるようになった。
電流値と該ピエゾバルブ１５の開度の関係を示す。バル
ブコントロールを行わない場合、電流の変動が0.5 秒周
期で発生しているが、バルブコントロールを開始してバ
ルブ１５の開度を高速で変化させたところ、電流値の変
動を押さえることができるようになった。
【００２２】その結果、図６（Ｂ）に示すように、光フ
ァイバの屈折率分布の揺らぎは、△0.3 ％の設計に対し
て、0.005 ％以下にすることができた。
ァイバの屈折率分布の揺らぎは、△0.3 ％の設計に対し
て、0.005 ％以下にすることができた。
【００２３】この実験によって、本発明による流量測定
法が非常に敏感であり、且つバーナ内にセンサがあるこ
とにより、これまで検出することができなかった微小な
流量変動を、より光ファイバ母材に近いところで測定で
きることが分り、その変動を押さえるべく対策を講じる
ことによって、従来にないほどに光ファイバ母材の品質
を安定させることができるようになった。
法が非常に敏感であり、且つバーナ内にセンサがあるこ
とにより、これまで検出することができなかった微小な
流量変動を、より光ファイバ母材に近いところで測定で
きることが分り、その変動を押さえるべく対策を講じる
ことによって、従来にないほどに光ファイバ母材の品質
を安定させることができるようになった。
【００２４】第２実施例 第１実施例は、バブリングによる非常に小さな変動につ
いて、それをモニタできることを説明した。本実施例で
は、原料タンクの液面レベルの変化に伴なって、バーナ
でのガラス微粒子の発生量が変化するため、それを一定
にするようにキャリアガス流量をコントロールした場合
の例について説明する。
いて、それをモニタできることを説明した。本実施例で
は、原料タンクの液面レベルの変化に伴なって、バーナ
でのガラス微粒子の発生量が変化するため、それを一定
にするようにキャリアガス流量をコントロールした場合
の例について説明する。
【００２５】第１実施例と同様の条件で光ファイバ母材
を合成した。図９の実線ａは、ガラス微粒子の合成中の
バーナ内電極の電流値を記録したものである。図から明
らかなように、時間がたつにつれて電流値が減少してい
る。これは、バーナでのガラス微粒子の発生量が減少し
ていることを意味している。その原因は、原料液タンク
の液面レベルの変化によるものと考えられる。
を合成した。図９の実線ａは、ガラス微粒子の合成中の
バーナ内電極の電流値を記録したものである。図から明
らかなように、時間がたつにつれて電流値が減少してい
る。これは、バーナでのガラス微粒子の発生量が減少し
ていることを意味している。その原因は、原料液タンク
の液面レベルの変化によるものと考えられる。
【００２６】そこで、図１０に示すようにキャリアガス
流量を800 ＳＣＣＭから徐々に増加させる方向にコント
ロールすることによって、図９の破線ｂに示すように電
流値を一定に保持し、バーナでのガラス微粒子の発生量
を一定に保持することが可能になった。
流量を800 ＳＣＣＭから徐々に増加させる方向にコント
ロールすることによって、図９の破線ｂに示すように電
流値を一定に保持し、バーナでのガラス微粒子の発生量
を一定に保持することが可能になった。
【００２７】上記実施例では、図７に示すように、クラ
ッド用バーナ３の火炎に流れる電流を電流計７で測定
し、その測定値に基いて該バーナ３に供給する原料ガス
の流量を制御したが、コア用バーナ２に対しても同様の
制御を行うことは言うまでもないことである。
ッド用バーナ３の火炎に流れる電流を電流計７で測定
し、その測定値に基いて該バーナ３に供給する原料ガス
の流量を制御したが、コア用バーナ２に対しても同様の
制御を行うことは言うまでもないことである。
【００２８】また、図１に示すように、クラッド用バー
ナ３の電極５に接続した電流計７の測定出力を演算器１
１に供給し、該演算器１１の演算結果でマスフローコン
トローラ１０を制御することにより、電流計７の測定出
力が略一定になるように原料ガスの流量をキャリアガス
を介して制御することもできる。コア用バーナ２につい
ても同様である。
ナ３の電極５に接続した電流計７の測定出力を演算器１
１に供給し、該演算器１１の演算結果でマスフローコン
トローラ１０を制御することにより、電流計７の測定出
力が略一定になるように原料ガスの流量をキャリアガス
を介して制御することもできる。コア用バーナ２につい
ても同様である。
【００２９】なお、バーナからみてターゲット（光ファ
イバ母材）の裏側に接地電極を配置して、バーナ側の電
極と該ターゲットに隣接した電極との間に直流電圧を印
加して電流を流すこともできる。この場合、電流計の位
置は後者の電極側でもよい。
イバ母材）の裏側に接地電極を配置して、バーナ側の電
極と該ターゲットに隣接した電極との間に直流電圧を印
加して電流を流すこともできる。この場合、電流計の位
置は後者の電極側でもよい。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
下記の効果を得ることができる。
下記の効果を得ることができる。
【００３１】請求項１に記載の発明では、バーナとター
ゲットとの間を微粒子を介して流れる電流を測定し、該
電流が略一定になるように原料ガスの流量をコントロー
ルするので、ターゲットに対して供給される微粒子の量
が安定し、安定した屈折率分布を得ることができる光フ
ァイバ母材の製造を容易に行うことができる。
ゲットとの間を微粒子を介して流れる電流を測定し、該
電流が略一定になるように原料ガスの流量をコントロー
ルするので、ターゲットに対して供給される微粒子の量
が安定し、安定した屈折率分布を得ることができる光フ
ァイバ母材の製造を容易に行うことができる。
【００３２】請求項２に記載の発明では、電流の測定
を、バーナに電極を設け、該電極とターゲット若しくは
該ターゲットに隣接した電極との間に直流電圧を印加
し、前記電極に電流計を接続して行うので、バーナ側の
電極とターゲット若しくは該ターゲットに隣接した電極
との間に流れる電流の測定を容易に行うことができる。
を、バーナに電極を設け、該電極とターゲット若しくは
該ターゲットに隣接した電極との間に直流電圧を印加
し、前記電極に電流計を接続して行うので、バーナ側の
電極とターゲット若しくは該ターゲットに隣接した電極
との間に流れる電流の測定を容易に行うことができる。
【図１】本発明の方法を実施する光ファイバ母材製造装
置の一実施例を示す概略構成図である。
置の一実施例を示す概略構成図である。
【図２】バーナ内電極に一定電圧を印加した状態でのＳ
ｉＣｌ4 量と流れる電流値の関係を示す線図である。
ｉＣｌ4 量と流れる電流値の関係を示す線図である。
【図３】従来の原料ガスの供給時の電流の変化を示す線
図である。
図である。
【図４】回転する円板に対するガラス微粒子の付着状況
をみる実験装置の構成を示す概略構成図である。
をみる実験装置の構成を示す概略構成図である。
【図５】図４に示す実験による円板上の位置とガラス微
粒子付着量の関係を示す線図である。
粒子付着量の関係を示す線図である。
【図６】従来の方法で製造された光ファイバの径方向に
おける屈折率分布を示す線図である。
おける屈折率分布を示す線図である。
【図７】流れる電流を一定にするように原料ガスの供給
量を制御する実験装置の概略構成図である。
量を制御する実験装置の概略構成図である。
【図８】原料ガスの供給量を制御しないときと、制御し
たときの電流の状況を示す線図である。
たときの電流の状況を示す線図である。
【図９】原料液タンクの液面レベルの変化に伴なう電流
の変化を示す線図である。
の変化を示す線図である。
【図１０】電流値が一定になるようにキャリアガスの流
量を変化させたときの状況を示す線図である。
量を変化させたときの状況を示す線図である。
１…種棒、２…コア用バーナ、３…クラッド用バーナ、
４…光ファイバ母材、４ａ…コア部、４ｂ…クラッド
部、５…電極、６…高圧直流電源、７…電流計、８…タ
ンク、９…恒温槽、１０…マスフローコントローラ、１
１…演算器、１２…モータ、１３…円板、１４…原料ガ
ス供給ライン、１５…ピエゾバルブ、１６…調節器。
４…光ファイバ母材、４ａ…コア部、４ｂ…クラッド
部、５…電極、６…高圧直流電源、７…電流計、８…タ
ンク、９…恒温槽、１０…マスフローコントローラ、１
１…演算器、１２…モータ、１３…円板、１４…原料ガ
ス供給ライン、１５…ピエゾバルブ、１６…調節器。
Claims (2)
- 【請求項１】 バーナから吹き出す原料ガスを酸水素火
炎中で加水分解して微粒子を合成し、該微粒子をターゲ
ットに付着して多孔質の光ファイバ母材を製造する光フ
ァイバ母材の製造方法において、 前記バーナと前記ターゲットとの間を前記微粒子を介し
て流れる電流を測定し、該電流が略一定になるように前
記原料ガスの流量をコントロールすることを特徴とする
光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項２】 前記電流の測定は、前記バーナに電極を
設け、該電極と前記ターゲット若しくは該ターゲットに
隣接した電極との間に直流電圧を印加し、前記電極の少
なくとも一方に電流計を接続して行うことを特徴とする
請求項１に記載の光ファイバ母材の製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3284561A JPH05116970A (ja) | 1991-10-30 | 1991-10-30 | 光フアイバ母材の製造方法 |
| CA002080860A CA2080860C (en) | 1991-10-25 | 1992-10-19 | Process and apparatus for production of optical fiber preform |
| DE69226748T DE69226748T2 (de) | 1991-10-25 | 1992-10-22 | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Vorformen für optische Fasern |
| EP92309652A EP0539198B1 (en) | 1991-10-25 | 1992-10-22 | Process and apparatus for production of optical fiber preform |
| KR1019920019778A KR950006187B1 (ko) | 1991-10-25 | 1992-10-26 | 광섬유모재의 제조방법과 그 장치 |
| US08/906,805 US6003342A (en) | 1991-10-25 | 1997-08-06 | Apparatus for production of optical fiber preform |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3284561A JPH05116970A (ja) | 1991-10-30 | 1991-10-30 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05116970A true JPH05116970A (ja) | 1993-05-14 |
Family
ID=17680058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3284561A Pending JPH05116970A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-30 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05116970A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7069748B2 (en) | 2001-11-09 | 2006-07-04 | Fujikura, Ltd. | Optical fiber, optical fiber preform, and manufacturing method therefor |
-
1991
- 1991-10-30 JP JP3284561A patent/JPH05116970A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7069748B2 (en) | 2001-11-09 | 2006-07-04 | Fujikura, Ltd. | Optical fiber, optical fiber preform, and manufacturing method therefor |
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