JPH0511157U - ペリクル保護マスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ペリクルを取り付けている接着剤が露光光に
よりダメージを受けるのを防止する。 【構成】 ペリクル１とマスク２とを固着している接着
剤３とオーバラップさせるようにして上記マスク２上に
遮光性のペリクル保護膜４を設け、露光時に上記接着剤
３に露光光が照射されないようにする。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案はペリクル保護マスクに係わり、特に、ＩＣの製造工程において使用す るマスクとペリクルとの接着が剥がれないように保護するものに用いて好適なも のである。

【０００２】

【従来の技術】

周知の通り、半導体装置を製造する場合にはたくさんの露光工程が繰り返し行 われる。これらの露光工程においては所定のパターンがその表面に形成されてい るマスクが用いられる。上記マスクの表面に塵埃が付着すると、それが半導体ウ エハ上に転写されてしまうので都合がわるい。

【０００３】 そこで、上記マスクの表面に塵埃が付着しないように保護する必要がある。マ スクの表面を保護する場合は、塵埃を通さず、しかも、露光やアライメント用の 波長領域で光の通過になんらの影響も及ぼさないようにすることが重要である。 そこで、ペリクルと称されている装置をマスクの表面上に取り付けることにより 、上記マスクの表面に無塵室を形成し、上記マスクのパターン上には塵埃が直接 付着しないようにすることが、近時盛んに行われるようになってきた。

【０００４】 この場合、上記ペリクルの表面に貼設されているペリクル保護膜上には塵埃が 付着する。しかし、上記ペリクルの表面とパターンの表面との間には所定の間隔 が開いているので、露光光の焦点距離をパターン表面上に合わせている場合、上 記ペリクルの表面に塵埃が付着していても殆ど影響が現れないようにすることが できる。

【０００５】 図５および図６は、従来より用いられているペリクルの平面図および断面図で ある。 これらの図から明らかなように、ペリクル１はペリクルフレーム１ａと上記ペ リクルフレーム１ａ上に貼設された透明膜１ｂとにより構成されていて、接着剤 ３を用いて上記ペリクルフレーム１ａをマスク２上に取り付けることにより、固 着されている。

【０００６】

【考案が解決しようとする課題】

上記マスク２上に形成されているパターンをウエハ上に転写するために露光光 ５が照射される。上記露光光５は、例えば、プロジェクションアライナ（図示せ ず）を用いて行われる。この場合、図６に示したように透明膜１ｂが貼られてい ないガラス面より露光光５が入射する。したがって、上記接着剤３に上記露光光 ５が照射されることとなるので、上記接着剤３に露光エネルギーが与えられるこ とになり、露光強度が高くなると露光エネルギーもそれに連れて増大する。した がって、従来は露光強度を上げると上記接着剤３がダメージを受けて溶けたり、 或いは接着強度が低下したりしてしまう不都合があった。 本考案は上述の問題点に鑑み、ペリクルを取り付けている接着剤が露光光によ りダメージを受けるのを防止することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】

本考案のペリクル保護マスクは、所定のパターンが形成されているマスク上に 接着剤を介して取り付けられているペリクルを保護するものにおいて、上記接着 剤とオーバラップさせるようにして上記マスク上に遮光性の保護膜を設け、上記 接着剤に露光光が照射されないようにしている。

【０００８】

【作用】

遮光性のペリクル保護膜がマスク上に設けられることにより、上記マスクにペ リクルを取り付けている接着剤に露光光が照射されることがなくなり、上記露光 光により上記接着剤がダメージを受ける不都合が防止される。

【０００９】

【実施例】

図１〜図３は、本考案のペリクル保護マスクの第１実施例を示し、図１は平面 図、図２は断面図、図３は底面図である。 これらの図から明らかなように、ペリクル１はペリクルフレーム１ａと透明膜 １ｂとにより構成されていて、ペリクルフレーム１ａが接着剤３によってマスク ２上に固着されることにより、ペリクル１がマスク２上に取り付けられるように なっている。 このように、ペリクルフレーム１ａとマスク２とを接着剤３でもって接着する ことにより、上記マスク２上の所定の空間を他と隔絶することができ、そこに塵 埃が入り込むのを防止することができる。したがって、マスク２上に塵埃が付着 するのが防止される。

【００１０】 このようにしてペリクル１が取り付けられているマスク２を用いて露光を行え ば、その露光雰囲気中に塵埃があっても上記ペリクル１で区画した空間内に塵埃 が入り込むのを防止することができる。したがって、塵埃が上記マスク２の表面 に直接付着するのを防止することができ、露光雰囲気中に塵埃があった場合でも それがウエハ（図示せず）に転写されることがなくなる。

【００１１】 本実施例においては、このように接着剤３を介してペリクル１が固着されてい るマスク２の裏面、すなわち、ペリクル１が貼られていない側の面にペリクル保 護膜４を設けている。 このペリクル保護膜４は、ペリクルフレーム１ａとマスク２とを接着している 接着剤３に、露光光５が照射されるのを防ぐために設けているものである。ペリ クル保護膜４を形成するための材料は、遮光性の材料であるならばどのようなも のでもよい。例えば、本実施例においては、クロムを用いてこのペリクル保護膜 ４を形成している。

【００１２】 また、ペリクル保護膜４は、露光光５をカットするために設けられるものであ るので、ある程度以上の厚さが必要である。本実施例では、ペリクル保護膜４の 厚さを、例えば、５，０００Å程度の厚さに形成している。 また、その大きさは、接着剤３を有効に保護することができ、しかもウエハ（ 図示せず）上にペリクル保護膜４が転写されないようにする必要があるので、接 着剤３とマスク２とが接着している領域とオーバラップさせて設けている。

【００１３】 本実施例では、このようなペリクル保護膜４を設けたので、図２で示したよう に、ペリクル１が取り付けられていない面側から露光光５が入射しても、上記露 光光５が接着剤３に照射されないようにすることができる。したがって、上記露 光光５のエネルギーにより上記接着剤３がダメージを受けて溶けたり、或いはそ の接着強度が低下したりしないようにすることができ、ペリクル１とマスク２と の固着をしっかりと保護することができる。

【００１４】 次に、図４の断面図に従って本考案の第２実施例を詳述する。上記第１実施例 においては、ペリクル１が設けられていない側のマスク面上にペリクル保護膜４ を設けた例を示した。 それに対し、この第２実施例においては、ペリクル１が設けられている面と同 じ側のマスク面上にペリクル保護膜４を設けている。 この例の場合も、上記第１実施例の場合と同様に、露光光５が接着剤３に照射 されないように保護することができ、ペリクル１とマスク２との固着状態をしっ かりと保護することができる。

【００１５】

【考案の効果】

本考案は上述したように、ペリクルとマスクとを固着している接着剤にオーバ ラップさせるようにして上記マスク上に遮光性の保護膜を設けたので、露光時に 上記接着剤に露光光が照射されないようにすることができ、上記露光光により上 記接着剤がダメージを受けて溶けたり、或いは接着強度が低下したりするのを防 止して上記ペリクルとマスクとの固着状態を良好に保持することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の第１実施例を示すペリクルの平面図で
ある。

【図２】図１のペリクルの断面図である。

【図３】同じく、図１のペリクルの底面図である。

【図４】本考案の第２実施例を示すペリクルの断面図で
ある。

【図５】従来例を示すペリクルの平面図である。

【図６】図５のペリクルの断面図である。

【符号の説明】

１ ペリクル １ａ ペリクルフレーム １ｂ 透明膜 ２ マスク ３ 接着剤 ４ ペリクル保護膜 ５ 露光光

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 【請求項１】 所定のパターンが形成されているマスク
   上に接着剤を介して取り付けられているペリクルを保護
   するものにおいて、 上記接着剤とオーバラップさせるようにして上記マスク
   上に遮光性の保護膜を設け、上記接着剤に露光光が照射
   されないようにしたことを特徴とするペリクル保護マス
   ク。