JP2669186B2 - フォトマスク用保護具 - Google Patents

フォトマスク用保護具

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美幸 廣末
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  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ウェハにパターン転
写する際に用いられるフォトマスク用保護具に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来のフォトマスク用保護具であ
るペリクルを示す断面図であり、図において、１は透明
で均一な厚みを有する薄膜状の保護膜であるペリクル
膜、２２はペリクル膜１の枠体であり、ペリクル膜１は
接着剤で枠体２２に接着されている。３は枠体２２と図
示しないフォトマスク上のパターンを取囲むようにして
接着するマスク接着剤であり、ペリクル膜１はフォトマ
スクのパターン形成面から所定距離離間している。従来
のフォトマスク用保護具は上記のような構造であり、こ
のような構造を有するペリクルを貼ったペリクル付フォ
トマスクのペリクル表面あるいはフォトマスクのレチク
ル表面をレーザ散乱型異物検査装置で検査する場合、入
射光はペリクルの枠体表面および側面に対し斜入射であ
るため、検査の妨げとなる余分な散乱光を発していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来のペリクルは以上
のような構造になっているので、レーザ散乱型ペリクル
付マスク異物検査装置でペリクル表面あるいはレチクル
表面を検査する場合、入射光はペリクルの枠体表面およ
び側面に対し斜入射であるため、検査の妨げとなる余分
な散乱光を発し、ペリクル表面およびペリクル枠内のレ
チクル表面に検査不可能領域が生じるといる問題点があ
った。この発明は、上記のような問題点を解消するため
になされたもので、レーザ散乱型ペリクル付マスク異物
検査装置でペリクル付マスクを検査する場合検査不可能
領域が生じないペリクル付マスクを提供することにあ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、この発明に係るフォトマスク用保護具は、半導体基
板上に転写するパターンを形成したフォトマスク上に前
記パターンを取囲み接着された枠体と、この枠体に前記
フォトマスクが接着された面と反対側に該フォトマスク
のパターン形成面から離間して接着された透明で均一な
厚みを有する薄膜状の保護膜とからなり、前記枠体の表
面および側面を主鎖方向に対して偏光吸収機能を有する
ＬＢ膜で形成したものである。
【０００５】
【作用】この発明におけるペリクルを貼ったペリクル付
マスクをレーザ散乱型ペリクル付マスク異物検査装置で
検査する場合、レーザ光を斜入射するとペリクルの枠体
表面および側面で偏光を吸収するので検査の妨げとなる
余分な散乱光を発しない。
【０００６】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図１において、１はペリクル膜、２は本発明の特
徴とする偏光を吸収する性質を有する枠体である。すな
わち、枠体２の表面および側面を主鎖方向に対して偏光
吸収機能を有するＬＢ膜（ラングミュア・ブロジェット
膜）で形成してある。この発明のペリクルは上記のよう
な構造であり、このような構造を有するペリクルを貼っ
たペリクル付マスクをレーザ散乱型ペリクル付マスク異
物検査装置で検査する場合、レーザ光がペリクルの枠体
２表面および側面に対し斜入射するので入射光はペリク
ルの枠体２表面および側面で吸収されるため、検査の妨
げとなる余分な散乱光を発せず、ペリクル膜１全面およ
びペリクルの枠体２内のレチクル全面を検査することが
できる。
【０００７】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、フォ
トマスク用保護具であるペリクルの枠体の表面および側
面に偏光を吸収する性質をもたせたので、該ペリクルを
貼ったペリクル付マスクをレーザ散乱型ペリクル付マス
ク異物検査装置で検査する場合、ペリクルの枠体表面お
よび側面で入射光を吸収し余分な散乱光を発しないた
め、ペリクル膜およびペリクルの枠体内レチクル表面全
域を検査できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の側面図である。
【図２】従来の側面図である。
【符号の説明】
１ ペリクル膜 ２ 枠体 ３ マスク接着剤

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 半導体基板上に転写するパターンを形成
    したフォトマスク上に前記パターンを取囲み接着された
    枠体と、この枠体に前記フォトマスクが接着された面と
    反対側に該フォトマスクのパターン形成面から離間して
    接着された透明で均一な厚みを有する薄膜状の保護膜と
    からなるフォトマスク用保護具において、前記枠体の表
    面および側面を主鎖方向に対して偏光吸収機能を有する
    ＬＢ膜で形成したことを特徴とするフォトマスク用保護
    具。
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