JPH0464062B2 - - Google Patents

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JPH0464062B2
JPH0464062B2 JP50277884A JP50277884A JPH0464062B2 JP H0464062 B2 JPH0464062 B2 JP H0464062B2 JP 50277884 A JP50277884 A JP 50277884A JP 50277884 A JP50277884 A JP 50277884A JP H0464062 B2 JPH0464062 B2 JP H0464062B2
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JP
Japan
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pellicle
film
cover sheet
adhesive
contamination
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JP50277884A
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JPS60502121A (ja
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Yunguutsuai Ien
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Individual
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Publication of JPH0464062B2 publication Critical patent/JPH0464062B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)

Description

請求の範囲 1 汚染に対し保護されたペリクルの製造方法は
次の段階: A 平らなカバーシートの選択; B 該カバーシートの一方の表面に一層の接触接
着剤を適用すること;並びに C 穴を閉鎖して、該ペリクルと共に、取囲まれ
た容積を形成するようにペリクルの支持部材の
軸方向の端部に該カバーシートを除去可能に設
置し、該カバーシートの配置方向は接触接着剤
の該層が前記容積内にあるようなものであるこ
と より成ることを特徴とする方法。
2 請求の範囲第1項の方法に於て: 該支持部材上にカバーシートを設置する段階は
該支持部材の対向端上にペリクルフイルムを設置
するに先立つて、該ペリクル製造プロセスに挿入
されること。
3 請求の範囲第1項の方法及び更に: D 該カバーシートの横方向の寸法が該支持部材
の外部円周に合致するように該カバーシートを
切り取ること を包含すること。
4 請求の範囲第3項に於て: 把握する伸長部はカバーシートが該支持部材か
ら容易にはぎ取られるように該カバーシートの円
周の一部に沿つて備えられること。
5 請求の範囲第1項の方法に於て: 該カバーシートは、該カバーシートが所定の位
置にある期間の間にそれが該ペリクルフイルムに
対し為される電磁放射線検査プロセスと干渉しな
いように選択されること。
6 請求の範囲第5項の方法に於て: 該カバーシート及び接着剤は反射しないもので
あるように選択されること。
7 請求の範囲第1項の方法に於て: 前記接触接着剤は長い期間にわたり且つペリク
ルフイルムの検査の間に使用される電磁放射線へ
の露出にかゝわらずその接着性を保持するように
選択されること。
8 請求の範囲第1項の方法に於て: 前記接触接着剤はそれが適用に引続いて砕片と
なり又は移転することがないように完全な位置の
無欠性を保持するよう選択されること。
9 請求の範囲第1項の方法に於て: 前記接触接着剤はそれと接触してくる微粒子の
物体を出来る限り捕捉して保持するよう選択され
ること。
10 請求の範囲第1項の方法に於て: 設置する段階はカバーシートが支持部材に依り
形成される穴の内部を横切つて均一に平らである
ように該カバーシートを張ることを包含するこ
と。
11 請求の範囲第4項の方法に於て: 該カバーシートはそれが所定の位置にある期間
中に該ペリクルフイルムに成される電磁放射線検
査プロセスと干渉しないように選択されること;
及び 前記接触接着剤は長い期間にわたり、攪拌並び
にペリクルフイルム検査に利用されるような電磁
放射線への露出に関して、その空間的並びに位置
的無欠性及びその接着性を保持し、更に前記接着
剤に衝突するすべての微粒子物体を捕捉して保持
するように選択されること。
12 請求の範囲第11項の方法に於て: 該カバーシート及び接着剤は反射しないもので
あるように選択されること。
13 汚染のないペリクルを製造する方法は次の
段階: 平らなカバーシートを選択すること;及び 該ペリクルフイルムと支持部材と共に取り囲
まれた容積を形成するようにペリクルの支持部
材の軸方向の端部に該カバーシートを取外し可
能に設置すること より成ることを特徴とする方法。
14 請求の範囲第13項の方法に於て: 該カバーシートは、該カバーシートが所定の位
置にある期間中に該ペリクルフイルムに対し為さ
れる電磁放射線検査プロセスと干渉しないように
選択されること。
15 ペリクルの内部フイルム表面が微粒子汚染
から防護されている保護されたペリクルは: リング状の支持部材と前記支持部材を横切つて
張られて一方の軸方向の端部に沿つてそこに接着
されている平らな透明なフイルム;及び 前記フイルムと共に密閉した内部容積を形成す
るように前記フイルムと対向する前記支持部材の
軸方向表面に取外し可能に接着されたカバーシー
ト、 より成るものであるを特徴とする保護されたペリ
クル。
16 請求の範囲第15項のペリクルに於て: 該カバーシートの内部に面する表面は一層の接触
接着剤を備えるもの。
17 請求の範囲第16項のペリクルに於て: 前記接触接着剤は長い期間にわたり、且つペリ
クルフイルム検査の間に使用される電磁放射線へ
の露出にもかゝわらずその接着性を保持するよう
選択されるもの。
18 請求の範囲第16項のペリクルに於て: 前記接触接着剤はそれが適用に引続いて砕片に
なつたり移動したりしないように完全な位置の無
欠性を保持するよう選択されるもの。
19 請求の範囲第15項のペリクルに於て: 該カバーシートは該カバーシートが所定の位置
にある期間中に該ペリクルフイルムに対し為され
る電磁放射線検査プロセスと干渉しないように選
択されるもの。
20 請求の範囲第16項のペリクルに於て: 該カバーシートは、該カバーシートが所定の位
置にある期間中に該ペリクルフイルムに対し為さ
れる電磁放射線検査プロセスと干渉しないように
選択されるもの;及び 前記接触接着剤は長い期間にわたり、攪拌並び
にペリクルフイルム検査に使用される様な電磁放
射線への露出に関してその空間的並びに位置的無
欠性を保持し、更に前記接着剤に衝突するすべて
の微粒子物体を捕捉して保持するよう選択される
もの。
21 請求の範囲第15項のペリクルに於て: 該カバーシートは、それが該支持部材から容易
に取外すことが出来るように、その円周に沿つた
把握する伸長部を更に包含するもの。
技術分野 本発明は一般的に塵埃又は他の汚染から表面を
保護することに関し、更に特定的にはペリクル
(pellicle)の透明なフイルム部分の内部表面への
汚染を阻止する為の方法に関する。本発明の主な
現在の用途は半導体産業に使用されるペリクルの
内部フイルム表面の発送及び貯蔵の間の、汚染の
阻止に関する。
背景技術 半導体産業に於ける集積回路及び他の要素はフ
オトマスクとして知られる装置を組み入れている
光照射技術を使用しながら製造される。フオトマ
スクは一方の表面に沈着され或はさもなければ配
置された不透明な図案を有する材料より成る透明
な薄板である。該図案は回路設計が配置されねば
ならない該材料の表面上のフオトレジスト化学薬
品を活性化する電磁放射線の光学的遮断を表す。
集積回路の製造は非常に正確な技術を必要とす
る。従つて非常に厳密な公差がフオトマスクの製
造及び使用に際して必要である。例えば該フオト
マスクの表面に付着する如何なる塵埃も該放射線
通路と干渉し欠陥回路要素の製造を引起すであろ
う。それ故、該フオトマスク表面を塵埃及びその
他の汚染から防護することは非常に重要である。
フオトマスクの防護に利用される1つの通常の
方法はペリクル(pellicle)として知られている
装置である。ペリクルは該フオトマスクとフイル
ムの表面との間に隙間が存在するように支持要素
を経由して該フオトマスクの表面に結合される材
料よる成る薄い透明なフイルム又は膜を包含す
る。密閉された容積は該表面間に作られる。該フ
イルム表面は汚染からフオトマスク表面を防護す
る。該フイルムとフオトマスク間の分離は該フイ
ルムの表面が光照射の間に該マスクの表面に関す
る焦点の外にあることを可能にする。それ故該フ
イルムの表面に付着する塵埃は該マスクに関する
焦点内にはなくて該マスクの照射の結果生ずる回
路への十分に減少した影響を有するであろう。
該ペリクルの構造及び使用はブイ.シイア
(V.Shea)他に対して刊行された米国特許第
4131363号に詳細に説明されている。そのシイア
(Shea)他の特許は該産業で現在使用されている
ペリクルと同様なペリクルの使用及び製造を開示
する。
典型的なペリクルは別個の厚さを有する一般的
にリング形状のスペーサ及び支持要素を包含す
る。フイルムは該リングを横切つて張られて全円
周のまわりの一方の端部に接合され一方該支持リ
ングの他方の端部は該フオトマスクの表面に接着
される。
精度への絶えず増加する要求と共に、ペリクル
の増加する用途及び評価はペリクルの適用のみで
は産業の標準に合致するには不十分な汚染防護で
あるという状況に立ち至つた。ペリクルのフイル
ム自体の塵埃汚染は最終製品の不完全性を生ずる
のに十分であろう。それ故、フオトマスクの表面
を汚染から防護するのみならずペリクルフイルム
の表面を汚染から防護することも又重要になつ
た。本発明は、在来技術に比較して、該ペリクル
フイルムの内部表面の汚染を阻止する新しい重要
な改良された方法に関する。
典型的にはペリクルフイルムの表面を洗浄する
在来技術の方法は空気又は気体の噴射の使用を包
含している。圧縮された気体物質はその表面に付
着するに至るかもしれない如何なる塵埃又は他の
物体をも除去する為に該フイルム表面を横切つて
吹付けられる。この方法は該フイルムの外部表面
に関しては合理的に成功している。しかしなが
ら、該フイルムの内部表面は該支持リングに備え
られた張出部に依り取囲まれている。該張出部
は、一度で該フイルムが支持リングに接合された
ならば、乱流を生じて内部フイルム表面の効果的
洗浄を妨げる空気力学的障害物を与える。それ
故、該フイルムが支持リングに接合された後の如
何なる時にも如何なる塵埃又は汚染が該ペリクル
フイルムの内部表面に付着することを阻止するこ
とは非常に重要である。
どの在来技術の方法も、該ペリクルがフオトマ
スクの上に設置される時にそれが完全に汚染され
ないように、該ペリクルの清浄な汚染されない内
部表面を備えることに成功していない。製造、貯
蔵、発送及び取扱いの間に該ペリクルを防護する
効果的な方法は該産業に於て非常に要求されてい
る。
発明の開示 従つて、汚染物が該フイルムの内部表面に付着
することが出来ないようにペリクルを包装して密
閉する為の方法を提供することは本発明の目的で
ある。
製造時から該ペリクルがフオトマスクに取付け
られる時まで汚染されない状態にペリクルフイル
ムの内部表面を維持する方法を提供することは本
発明の別の目的である。
該ペリクルの内部フイルム表面が完全に汚染か
ら保護されるように発送の為にペリクルを包装す
る方法を提供することは本発明のもう1つの目的
である。
本発明は該内部フイルム表面の汚染がない保護
されたペリクルを製造する方法である。該発明は
ペリクルの製造発送及び貯蔵の間の使用に特に適
合し、更に該ペリクルがフオトマスク上に設置さ
れる時まで絶えず使用されるのに適合される。
簡単には、本発明の好適な実施例はペリクルを
包装し且つ微粒子汚染、特に該内部フイルム表面
上の微粒子汚染からペリクルを防護する為の方法
である。該方法はペリクルフイルムの端部から該
支持リングの対向端部に接着するのに適合する剥
離可能なカバーシートの構造を包含する。シート
の形状をなす、該カバーは接着材料の均一な被覆
を包含する内部表面を有する。該カバーの接着剤
表面は該カバーが設置される時に該ペリクルの内
部に向けられる。該カバーの接着剤表面は該カバ
ーシートとペリクルフイルムとの間の容積に於て
捕捉される微粒子の物体の非常に大きな部分を捕
捉するように作用する接触接着剤であるように選
択される。1つの好適な実施例に於ては、該カバ
ーシートは該ペリクルフイルムが適用される以前
に支持リングに適用される。該保護カバーは必要
に応じて容易に除去されるように適合される。該
好適な実施例に於ては、該カバーシートの除去は
該フオトマスクにペリクルを接合するのに先立つ
て直ちに生ずる。
該カバーに依り与えられる密閉容積が貯蔵及び
移動の間に微粒子汚染の侵入を防ぐことは本発明
の利点である。
そして又該接着剤の保護カバーは該ペリクルフ
イルムの内部表面の微粒子汚染を十分に除去する
ことは本発明の利点である。
該支持リングにペリクルフイルムを設置するの
に先立つて該カバーシートを適用することは該ペ
リクルフイルムが清浄な状態で設置されて使用時
迄かゝる状態に維持されることは本発明の別の利
点である。
該方法は比較的安価な且つ容易に利用可能な材
料を使用しながら完成出来ることは本発明のもう
1つの利点である。
該カバーシートは該カバーシートからの汚染の
危険性なしに該フオトマスクへのペリクルの設置
の前のいよいよ最後という時になつて除去するこ
とが出来るということは更に別の利点である。
該保護カバーは該カバーを除去する必要がなく
て該ペリクルフイルムの検査及び試験が出来ると
いうことは更にもう一つの利点である。
本発明の之等のそして他の目的及び利点はこゝ
に説明され且つ図面のいくつかの図に図解されて
いる様な本発明の現在最もよく知られている実施
形態及び好適な実施例の産業上の利用可能性に関
する説明を考慮して該技術に熟練した人々には明
らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の方法に依る保護されたペリク
ルの底部透視図である; 第2図は第1図の保護されたペリクルの、線2
−2に沿つて画かれた逆の横断面図である。
発明を実施する最良の形態 本発明を実行する現在知られている最良の形態
は微粒子汚染からフイルムの内部表面を保護する
為の方法である。該方法はフオトマスクに使用す
る清浄な汚染していないペリクルを確実にする為
に集積され且つ半導体の製造産業に利用されてい
る。該方法は汚染から防護されているペリクルを
生産する。
本発明に依る防護されたペリクルの好適な実施
例は第1図に図解されて総体的な参照記号10で
示される。底部の透視図で示されている、防護さ
れているペリクルは本発明の方法に依り形成され
且つ通常の方法14の上に設置された保護カバー
12を包含する。
通常のペリクル14はフイルム18が支持リン
グ16の穴全体を横切つて伸び且つ該穴を完全に
密閉する様にその全円周の一方の軸方向の端部に
接着された透明なペリクルフイルム又は膜18を
有する円形支持リング16を包含する。
好適な実施例に於て、保護カバー12はペリク
ルフイルム18に対向する支持リング16の軸方
向の表面に接着される。該カバーは、支持リング
16及びペリクルフイルム18と共に、それが密
閉された内部容積19を形成するように、支持リ
ング16の穴全体を横切つて伸びる。該発明の第
一の目的は内部容積19並びに微粒子汚染のない
ペリクルフイルム18の内部表面を維持すること
である。
図解された支持部材18は円形リングの形状を
なす。之はペリクル支持部材の最も通常的形状で
あるけれども、他の形状も又利用される。如何な
る平らな閉ループの支持部材も本発明の方法に適
合可能である。
そして又第1図に図示される如く、保護カバー
12の好適な実施例の内部表面は接触接着剤の連
続層20を備える。該接触接着剤20はそれと接
触するに到る微粒子物体を捕捉して保持するよう
に作用する。かくして、内部容積19内で捕捉さ
れ且つ容積19内でともかくも移動する如何なる
物体もおそらく接触接着剤20と衝突してそこに
接着されているであろう。防護されたペリクル1
0全体の攪拌は該フイルム表面に接着される微粒
子の除去を助け、更にそれらが接触接着剤20に
依り捕捉されるまでそれらを内部容積内で流動す
るようにする助けとなることが出来る。之は該方
法の汚染防護性を改善することが出来る。
保護カバー12と係合する支持リング16の端
部は又一層の強力な接触接着剤を備える。支持リ
ング16上の接着剤22の目的は主として該フオ
トマスクの表面にペリクル14を接着することで
ある。強力接着剤22は通常カバー12の容易な
除去を受けやすくするにはねばねばし過ぎず。そ
れ故、好適な実施例10は強力接着剤22から一層
容易に剥離されるように選択されたスペーサリン
グを用いる。別の可能な方法は接触接着剤20と
強力接着剤22が同一であり且つそれが必要に応
じてリング16から容易にはぎ取られるようにカ
バー12に切離す力のあるリングを備えることで
ある。
好適な実施例に於て、保護カバー12はその端
部の一部分に沿つて把握する伸長部26を備えて
おり、従つてそれはかゝる除去が必要である時に
はペリクル14から容易に除去することが出来
る。要求されてはいないけれども、保護カバー1
2の残りの部分は容易な取扱い及び貯蔵の為に支
持リング16の円周のまわりに切り取られる。か
くして該突出部のみが予め選択された位置に配置
された把握する伸長部26である。
第2図は第1図の線2−2に沿つて且つ第1図
に対しさかさに画かれた、横断面図の保護された
ペリクル10を図解する。第1図に関して比例し
ていない、第2図に於て、該要素の相対的な軸方
向の一定距離を保つことが図解されている。
第2図の図解はペリクルフイルム18の外部表
面が邪魔物のない平らな表面を備えていることを
示す。この表面はフイルム18から如何なる砕片
をも掃除する為に該表面を横切つて気体噴流を適
用することに依り洗浄するのに完全に適切であ
る。しかしながら、第2図に示す様に、フイルム
18の内部表面は、同様に平らであるけれども、
支持リング16に依りその端部で妨げられてい
る。かくして、内部容積19は乱流を受けて気体
噴流手段に依るフイルム表面18の正確な洗滌に
は不適当である。かくの如く適用又は使用時にフ
イルム18の内部表面から微粒子物体を除去する
ことは通常有効でない。
該図面に図解された保護されたペリクル10を
与える方法は一連の段階を包含する。之等の段階
は平らなカバーシートの為の適当な材料の選択
と、該カバーシートの一方の表面に一層の接触接
着剤を適用することと、スペーサリング24を配
置することと、該ペリクルの支持リングの一方の
表面に該接着保護カバーを取外し可能に設置する
こと及び選択的に、該支持リングの横方向の寸法
と一致するように該カバーシートを切り取ること
を包含する。
平らなカバーシート材料の選択は種々の必要な
性質を考慮に入れる。第一に、カバーシートは適
切な結果を生ずる為にその内部表面に於て一様に
平らでなければならない。更に、それが支持リン
グ上に容易に据付けられ且つ取外されるように、
それは柔軟でなければならない。それに加えて、
該カバーシート材料は、それが不純物及び欠陥に
対して該ペリクルフイルムをテストする為に利用
される電磁放射線検査と干渉しないように、最小
の光反射特性を有する様に選択されねばならな
い。最後に最大の経済的利益を得る為に、最も容
易に利用可能であり且つ安価な材料が選択されね
ばならない。
電磁放射線の送信及び反射に関する性質はカバ
ーシート材料にとつて特に重要である。在来技術
のプロセスの下に微粒子汚染がペリクルフイルム
の内側に付着するようになる第一の機会の1つは
検査期間であるので、之は真実である。それ故、
該保護カバーが所定の位置に残つている間にフイ
ルム検査を受けることは非常に望ましいことであ
る。それ故、保護カバーはともかくも該検査と干
渉してはならない。平らな黒い材料は最もうまく
いつたものである様に思われる。
本発明の方法に依る保護されたペリクルの好適
な実施例は黒い内部表面を与えるよう印刷され
て、カバーシート材料として両面のトランスフア
ー(transfer)テープで被覆されたポリエステル
を利用する。その他の可能な材料は透明なマイラ
ー接着カバーシート及び3M会社の3M447接着シ
ートである。もしも低い水準の防護が必要である
か又は特に汚染のない製造環境が利用出来るなら
ば非接着カバーシートも又利用することが出来
る。
接触接着剤も又種々の性質を有する。第一にそ
れはその表面に衝突する微粒子物体を捕捉して保
持するようなものでなければならない。更に、そ
れは合理的に等しい様式で該カバーシート材料の
上に広げられることが出来なければならない。該
接触接着剤又は貯蔵及び輸送の長い期間にわたつ
てその性質を保持するようなものでなければなら
ない。該接着剤も又検査プロセスに逆効果を有し
てはならず、それ故それは検査に使用される電磁
放射線を反射し又はそれと干渉してはならないか
又はかゝる放射線にさらされることに依り品質低
下されてはならない。該接着剤は、保護されたペ
リクルの寿命の間に通常発生する状況に依つて該
接着剤がその接着性を失うか又は乾燥し、砕片に
なり或はさもなければそれ自身汚染物になること
がない様に、選択されることは非常に重要であ
る。
望ましい接着剤は上述の好適なカバーシート材
料に既に与えられているものである。1つの別の
可能性は適切なカバーシート材料に適用される黒
いビニール接着剤である。
支持リング上への設置に先立つて保護カバーシ
ートを製造して維持する1つの成功した方法は該
シート自体にはぎとるカバーを利用することであ
る。該接着剤表面はかくして貯蔵の間に汚染から
阻止されて該接着剤表面は設置する時だけ露出さ
れる。新たに剥離された接着剤表面は事実上必ず
汚染がないであろうし、かくして本質的な汚染を
与えないであろう。別の可能な方法は2つのシー
トの内部表面が並置されて、それ等が2つの汚染
されない接着剤表面を表わす為に剥離することが
出来るようにカバーシートを製造することであ
る。
好適なカバーシートの内部表面は、該支持リン
グがそうである様に、一層の接触接着剤を包含す
るので、該カバーシートを接触に依り簡単にスペ
ーサリングに設置し、次いでペリクルの支持リン
グに設置することは簡単なことである。この手順
及び該プロセスに於けるすべての他の手順は出来
るだけ微粒子汚染がないような状況の下に行われ
ることは望ましいことである。之は該フイルムに
保護されたペリクルの他の要素から移つて来る汚
染の機会を最小にする。支持リングに保護カバー
を適用する必然的に好適な時期は、該支持リング
に透明フイルムを接着するに先立つて、該ペリク
ルの製造プロセスに際してである。該フイルムに
接着するのに先立つて、既に所定の位置にある接
着剤カバーに依り、密閉された清浄な容積はフイ
ルム接着の際に直ちに作り出される。接着に先立
つて、該フイルムは種々の型式の洗滌に適切な平
らな表面を与えるので、それは清浄にされ、次い
で清純な状態で該リングに接着されることが出来
る。かくして既に設置された接着剤カバーは設置
に続いて起る如何なる汚染をも阻止する。
該カバーシートは形状に合わせて予め切断さ
れ、又はそれが設置された後に支持リングの円周
に合わせて切り取ることが出来る。正確に切り取
ることは選択的であり、本発明の必要な部分では
ない。しかしながら、発送の目的並びに外観に対
して、出来るだけ対称的に維持することは望まし
いことである。保護カバーを除去してフオトマス
クに該ペリクルを設置すべき時期が来た時に、該
カバーが容易にはぎ取られることが出来るよう
に、該カバーの円周のまわりの1点又はそれ以上
の点に把握する伸長部を残すことは望ましいこと
である。
本発明は該発明を実施する現在知られている最
良の形態に関して上記にて説明されてきたけれど
も、該技術に熟練した人々は該発明の教えるとこ
ろを保持しながら行うことが出来る多くの修正及
び変更を容易に認識するであろう。従つて、上記
の開示は限定するものとして解釈すべきではな
い。添付の請求の範囲は従つて該発明の全体の精
神及び範囲を包含するものとして解釈すべてであ
る。
産業上の利用可能性 本発明の無塵埃の保護されたペリクルを製造す
る方法並びにそれを依り製造されるペリクルは即
刻の且つ広範な産業上の利用可能性を有する。過
去1970年代に於けるそれ等の導入以来、ペリクル
は集積回路及び半導体製造産業に利用された非常
に価値のある用具となつている。ペリクルなしで
利用されるフオトマスクはますます稀になるであ
ろうことは期待される。
該産業に要求される増加しつつある精度から見
て、ペリクル並びに特に全体的に汚染のない防護
されたペリクルは広範な市場可能性を有するであ
ろうことは期待される。従つて、本発明の方法に
依り組立てられて包装されたペリクルの優秀な特
性は該発明の重要な産業上の利用をもたらす結果
となるであろう。
JP50277884A 1983-08-29 1984-07-02 汚染のないペリクルを製造する方法 Granted JPS60502121A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US52725183A 1983-08-29 1983-08-29
US527251 1983-08-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60502121A JPS60502121A (ja) 1985-12-05
JPH0464062B2 true JPH0464062B2 (ja) 1992-10-13

Family

ID=24100723

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