JPH05109805A - ワイヤボンデイング方法 - Google Patents
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- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】ボンディング工程におけるエッジタッチの発生
を確実に阻止して、安価で、信頼性の向上を図れるボン
ディング方法を提供する。 【構成】ヒータステージ10の一部に突部11を有す
る。この突部11に、半導体素子1を載置した状態でリ
ードフレーム30とボンディングする。その後、ヒータ
ステージ10から平坦面15に半導体素子1およびリー
ドフレーム30を移送する。半導体素子1は下方に変位
し、これにともない、ワイヤ5のループが半導体素子1
の角部から離間するよう変形する。
を確実に阻止して、安価で、信頼性の向上を図れるボン
ディング方法を提供する。 【構成】ヒータステージ10の一部に突部11を有す
る。この突部11に、半導体素子1を載置した状態でリ
ードフレーム30とボンディングする。その後、ヒータ
ステージ10から平坦面15に半導体素子1およびリー
ドフレーム30を移送する。半導体素子1は下方に変位
し、これにともない、ワイヤ5のループが半導体素子1
の角部から離間するよう変形する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の組立工程
において、半導体素子のパッド部とリードフレームのリ
ード部とをワイヤによって接続する、ワイヤボンディン
グ方法に関する。
において、半導体素子のパッド部とリードフレームのリ
ード部とをワイヤによって接続する、ワイヤボンディン
グ方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の組立工程途中において、半
導体素子のパッド部とリードフレームのリード部とを、
たとえば金ワイヤによって接続する、ワイヤボンディン
グ装置が用いられる。
導体素子のパッド部とリードフレームのリード部とを、
たとえば金ワイヤによって接続する、ワイヤボンディン
グ装置が用いられる。
【0003】これは、ワイヤの先端部をトーチ電極で加
熱してボールを形成し、ワイヤが挿通されたキャピラリ
を降下させて、ワイヤのボールを第1接続点である半導
体素子のパッド部にボンディングする。
熱してボールを形成し、ワイヤが挿通されたキャピラリ
を降下させて、ワイヤのボールを第1接続点である半導
体素子のパッド部にボンディングする。
【0004】このキャピラリの降下時に、ワイヤはワイ
ヤスプールから繰り出される。そしてまた、上クランプ
はワイヤを微小な力でクランプし、バックテンションを
与える。
ヤスプールから繰り出される。そしてまた、上クランプ
はワイヤを微小な力でクランプし、バックテンションを
与える。
【0005】ついで、上クランプが開いてキャピラリが
上昇し、かつリードフレームのリード部に向かってXY
方向に移動する。キャピラリの移動中に、ワイヤスプー
ルから継続してワイヤが繰り出される。
上昇し、かつリードフレームのリード部に向かってXY
方向に移動する。キャピラリの移動中に、ワイヤスプー
ルから継続してワイヤが繰り出される。
【0006】上記キャピラリは、所定位置まで移動した
ところで下降する。このとき、キャピラリ内においてワ
イヤが逆方向、すなわちワイヤが下から上へ移動する現
象が生じる。
ところで下降する。このとき、キャピラリ内においてワ
イヤが逆方向、すなわちワイヤが下から上へ移動する現
象が生じる。
【0007】ワイヤの先端部は、キャピラリより先に第
2接続点であるリードフレームの接続位置に接触し、つ
いでキャピラリが接触してボンディングする。キャピラ
リは上昇停止するとともに、下クランプが閉じてワイヤ
を引きちぎる。そして、ワイヤの先端部をトーチ電極で
加熱し、ボールを形成してキャピラリを初期の位置に戻
す。
2接続点であるリードフレームの接続位置に接触し、つ
いでキャピラリが接触してボンディングする。キャピラ
リは上昇停止するとともに、下クランプが閉じてワイヤ
を引きちぎる。そして、ワイヤの先端部をトーチ電極で
加熱し、ボールを形成してキャピラリを初期の位置に戻
す。
【0008】なお、この種のワイヤボンディング方法に
は、あらかじめ、半導体素子を約350°Cに加熱しな
がらボンディングする熱圧着方式(TC方式)と、半導
体素子を約250°Cの温度に保持し、ボールを押圧す
るとともにキャピラリに超音波振動を与え、その超音波
エネルギでボールを溶融する熱圧着超音波併用方式(T
S方式)があることが知られている。
は、あらかじめ、半導体素子を約350°Cに加熱しな
がらボンディングする熱圧着方式(TC方式)と、半導
体素子を約250°Cの温度に保持し、ボールを押圧す
るとともにキャピラリに超音波振動を与え、その超音波
エネルギでボールを溶融する熱圧着超音波併用方式(T
S方式)があることが知られている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】ボンディング作用をな
す、第1接続点と第2接続点との間のワイヤ長さは、現
在までのところ、3mm以下とするのが標準的である。
ところが、リードフレームの加工限界等の条件から、ワ
イヤ長が長くならざるを得ない状況になっており、最長
4.2mmになるものまで見られる。パッド、リードと
も狭ピッチ化しており、モールド時のワイヤ流れにより
ワイヤ同志がショートする危険が高い。
す、第1接続点と第2接続点との間のワイヤ長さは、現
在までのところ、3mm以下とするのが標準的である。
ところが、リードフレームの加工限界等の条件から、ワ
イヤ長が長くならざるを得ない状況になっており、最長
4.2mmになるものまで見られる。パッド、リードと
も狭ピッチ化しており、モールド時のワイヤ流れにより
ワイヤ同志がショートする危険が高い。
【0010】また、ワイヤループ高さが高いほどワイヤ
流れを起こし易いので、ループをできるだけ低くしなけ
ればならない。その反面、チップ端とワイヤ間のショー
トを招く恐れもあり、ワイヤループを極めて精密に制御
する必要がある。
流れを起こし易いので、ループをできるだけ低くしなけ
ればならない。その反面、チップ端とワイヤ間のショー
トを招く恐れもあり、ワイヤループを極めて精密に制御
する必要がある。
【0011】しかるに、図2に示すように、半導体素子
1のパッド部2とリードフレーム3のリード部4との位
置が近い、いわゆる短ループボンディングの場合や、半
導体素子1のパッド部2が素子1の内部に位置する、い
わゆるインナパッドの場合は、ワイヤ5の中途部が弛ん
で半導体素子1の角部に接触する、エッジタッチが生じ
易い。このエッジタッチが生じたものは、検査の段階で
ボンディング不良として扱われ、歩止まり低減の要因と
なっている。このようなエッジタッチを防止する方法と
して、主に、以下の4つの手段が検討されている。
1のパッド部2とリードフレーム3のリード部4との位
置が近い、いわゆる短ループボンディングの場合や、半
導体素子1のパッド部2が素子1の内部に位置する、い
わゆるインナパッドの場合は、ワイヤ5の中途部が弛ん
で半導体素子1の角部に接触する、エッジタッチが生じ
易い。このエッジタッチが生じたものは、検査の段階で
ボンディング不良として扱われ、歩止まり低減の要因と
なっている。このようなエッジタッチを防止する方法と
して、主に、以下の4つの手段が検討されている。
【0012】第1の手段は、どのような種類および形態
の半導体素子とリードフレームとのボンディングであろ
うとも、台形のボンディングループとなるように、キャ
ピラリの移動軌跡を精密に制御することである。それに
は、台形ループ制御ソフトの開発が必要となる。
の半導体素子とリードフレームとのボンディングであろ
うとも、台形のボンディングループとなるように、キャ
ピラリの移動軌跡を精密に制御することである。それに
は、台形ループ制御ソフトの開発が必要となる。
【0013】第2の手段は、ボンディング前工程時に、
リードフレームの半導体素子マウント部であるベッド部
を、弾性変形内で下方に変形させる、いわゆるソフトデ
プレスフレームを備える。
リードフレームの半導体素子マウント部であるベッド部
を、弾性変形内で下方に変形させる、いわゆるソフトデ
プレスフレームを備える。
【0014】ボンディング工程では、下方に変形したベ
ッド部は、下方からのヒータ面で押し上げられた状態と
なる。ボンディング後は、ヒータが開放され、第1接続
点を有する半導体素子と、第2接続点を有するリード部
との段差が小さくなり、結果的にワイヤループが上方に
持ち上がって、この中途部が半導体素子と接触すること
がない。第3の手段は、第2の手段をさらに変形させ
た、いわゆるハードデプレスレームである。
ッド部は、下方からのヒータ面で押し上げられた状態と
なる。ボンディング後は、ヒータが開放され、第1接続
点を有する半導体素子と、第2接続点を有するリード部
との段差が小さくなり、結果的にワイヤループが上方に
持ち上がって、この中途部が半導体素子と接触すること
がない。第3の手段は、第2の手段をさらに変形させ
た、いわゆるハードデプレスレームである。
【0015】これは、ボンディング中あるいはボンディ
ング後も、第1接続点を有する半導体素子と第2接続点
を有するリード部の段差を小さくすることで、ワイヤの
接触を防止するものである。
ング後も、第1接続点を有する半導体素子と第2接続点
を有するリード部の段差を小さくすることで、ワイヤの
接触を防止するものである。
【0016】第4の手段は、図3に示すようなヒータス
テージ6を備えてボンディングを行う。すなわち、半導
体素子1のマウント部であるベッド部7とリードフレー
ム3のリード部4との間に位置する部分に、少なくとも
半導体素子1の上面と略同一の高さ寸法の突堤部6aを
介設する。
テージ6を備えてボンディングを行う。すなわち、半導
体素子1のマウント部であるベッド部7とリードフレー
ム3のリード部4との間に位置する部分に、少なくとも
半導体素子1の上面と略同一の高さ寸法の突堤部6aを
介設する。
【0017】ワイヤループ5は、突堤部6a上端に接触
してよい。ボンディングが終了して半導体素子1および
リードフレーム3をヒータステージ6から取り外せば、
ワイヤ5のループが半導体素子1角部から離間して、エ
ッジタッチのない状態を得られる。
してよい。ボンディングが終了して半導体素子1および
リードフレーム3をヒータステージ6から取り外せば、
ワイヤ5のループが半導体素子1角部から離間して、エ
ッジタッチのない状態を得られる。
【0018】しかしながら、これら手段も、それぞれ問
題を有している。すなわち、第1の手段は、開発時期の
異なる装置毎にソフトを開発する必要があり、ソフト開
発費が膨大にならざるを得ず、コストに悪影響を及ぼ
す。第2の手段では、ここに用いられるソフトデプレス
フレームは、その変形量の制御が難しく、ばらつくこと
が多くて、信頼性が低いという不具合がある。第3の手
段では、リードフレーム自体を塑性変形させるため、フ
レームのクラック等が問題となる。
題を有している。すなわち、第1の手段は、開発時期の
異なる装置毎にソフトを開発する必要があり、ソフト開
発費が膨大にならざるを得ず、コストに悪影響を及ぼ
す。第2の手段では、ここに用いられるソフトデプレス
フレームは、その変形量の制御が難しく、ばらつくこと
が多くて、信頼性が低いという不具合がある。第3の手
段では、リードフレーム自体を塑性変形させるため、フ
レームのクラック等が問題となる。
【0019】第4の手段では、半導体素子1をマウント
するベッド部7とリード部4との間隔が狭いパッケー
ジ、たとえばSOP(Small OutlinePa
ckage)用のフレームの場合は不可能であり、かつ
フレームの送りやヒータステージの位置調整に時間がか
かるなどの不具合がある。
するベッド部7とリード部4との間隔が狭いパッケー
ジ、たとえばSOP(Small OutlinePa
ckage)用のフレームの場合は不可能であり、かつ
フレームの送りやヒータステージの位置調整に時間がか
かるなどの不具合がある。
【0020】本発明は、上記の事情を考慮してなされた
ものであり、その目的とするところは、ボンディングが
終了した状態におけるエッジタッチの発生を確実に阻止
して、安価で、信頼性の向上を図れるボンディング方法
を提供することにある。
ものであり、その目的とするところは、ボンディングが
終了した状態におけるエッジタッチの発生を確実に阻止
して、安価で、信頼性の向上を図れるボンディング方法
を提供することにある。
【0021】
【課題を解決するための手段】上記目的を満足するた
め、本発明は、一部に突部を有するヒータステージ上
に、この突部に半導体素子が載置されるように半導体素
子およびリードフレームを載置して加熱状態となし、ワ
イヤが挿通されたキャピラリを上記半導体素子のパッド
部に押付けてボンディングした後、キャピラリを上下方
向およびXY方向に移動させながらワイヤを繰り出して
リードフレームのリード部にボンディングし、キャピラ
リを上昇させてボンディング部からワイヤを切断し、そ
の後、ヒータステージから平坦面に半導体素子およびリ
ードフレームを移送し、半導体素子を下方に変位させる
ことにより、ワイヤを半導体素子角部から離間するよう
に変形させることを特徴とするワイヤボンディング方法
である。
め、本発明は、一部に突部を有するヒータステージ上
に、この突部に半導体素子が載置されるように半導体素
子およびリードフレームを載置して加熱状態となし、ワ
イヤが挿通されたキャピラリを上記半導体素子のパッド
部に押付けてボンディングした後、キャピラリを上下方
向およびXY方向に移動させながらワイヤを繰り出して
リードフレームのリード部にボンディングし、キャピラ
リを上昇させてボンディング部からワイヤを切断し、そ
の後、ヒータステージから平坦面に半導体素子およびリ
ードフレームを移送し、半導体素子を下方に変位させる
ことにより、ワイヤを半導体素子角部から離間するよう
に変形させることを特徴とするワイヤボンディング方法
である。
【0022】
【作用】ボンディング時に、ワイヤループが半導体素子
の角部に接触するエッジタッチがあっても、ボンディン
グした後、半導体素子を下方に変位させるので、ワイヤ
ループが半導体素子角部から確実に離間変形する。
の角部に接触するエッジタッチがあっても、ボンディン
グした後、半導体素子を下方に変位させるので、ワイヤ
ループが半導体素子角部から確実に離間変形する。
【0023】
【実施例】以下、本発明の一実施例を、図面を参照して
説明する。
説明する。
【0024】図1(A)に示すように、リードフレーム
30のベッド部31に、半導体素子1をマウントした状
態で、リードフレーム30を図示しない送り爪あるいは
搬送ローラによってヒータステージ10の所定位置に搬
送する。新たなヒータステージ10は、この上面に半導
体素子1をマウントしたリードフレーム30を載置し、
これらを加熱保持する。
30のベッド部31に、半導体素子1をマウントした状
態で、リードフレーム30を図示しない送り爪あるいは
搬送ローラによってヒータステージ10の所定位置に搬
送する。新たなヒータステージ10は、この上面に半導
体素子1をマウントしたリードフレーム30を載置し、
これらを加熱保持する。
【0025】上記ヒータステージ10には、所定位置の
み上部に突出する突部11が一体に設けられる。この突
部11は、半導体素子1をマウントするリードフレーム
30のベッド部31と同一位置で、かつ同一形状をな
し、後述するようなワイヤループが形成可能な高さ寸法
とする。換言すれば、上記突部11によってベッド部3
1および半導体素子1が上方に押し上げられた状態を保
持して、ボンディング工程に入る。
み上部に突出する突部11が一体に設けられる。この突
部11は、半導体素子1をマウントするリードフレーム
30のベッド部31と同一位置で、かつ同一形状をな
し、後述するようなワイヤループが形成可能な高さ寸法
とする。換言すれば、上記突部11によってベッド部3
1および半導体素子1が上方に押し上げられた状態を保
持して、ボンディング工程に入る。
【0026】ワイヤ5の先端部をトーチ電極12で加熱
してボール13を形成し、キャピラリ14を降下させ
て、ワイヤ5を第1接続点である半導体素子1のパッド
部2にボンディングする。
してボール13を形成し、キャピラリ14を降下させ
て、ワイヤ5を第1接続点である半導体素子1のパッド
部2にボンディングする。
【0027】さらに、キャピラリ14が上昇して、ワイ
ヤ5を繰り出しながらリード部4側にXY方向に移動
し、所定位置まで移動したところで下降して、第2接続
点であるリード部4の接続位置にボンディングする。つ
いで、図示しない下クランプが閉じてワイヤ5を引きち
ぎる。この状態で、実質的なボンディング工程が終了す
る。
ヤ5を繰り出しながらリード部4側にXY方向に移動
し、所定位置まで移動したところで下降して、第2接続
点であるリード部4の接続位置にボンディングする。つ
いで、図示しない下クランプが閉じてワイヤ5を引きち
ぎる。この状態で、実質的なボンディング工程が終了す
る。
【0028】上記キャピラリ14の軌跡が、従来のもの
そのままとすれば、半導体素子1をベッド部31を介し
て突部11に載置したので、これらが高くなった分だ
け、逆に、半導体素子1上面からのワイヤ5のループ高
さが低くなる。したがって、ワイヤ5の中途部は半導体
素子1の角部に接触する、エッジタッチの状態となる。
そのままとすれば、半導体素子1をベッド部31を介し
て突部11に載置したので、これらが高くなった分だ
け、逆に、半導体素子1上面からのワイヤ5のループ高
さが低くなる。したがって、ワイヤ5の中途部は半導体
素子1の角部に接触する、エッジタッチの状態となる。
【0029】また、半導体素子1のパッド部2とリード
フレーム30のリード部4との位置が近い、いわゆる短
ループボンディングの場合や、半導体素子1のパッド部
2が、半導体素子1端面から内側に入っている、インナ
パッドのものでは、当然ながら、エッジタッチが生じ
る。
フレーム30のリード部4との位置が近い、いわゆる短
ループボンディングの場合や、半導体素子1のパッド部
2が、半導体素子1端面から内側に入っている、インナ
パッドのものでは、当然ながら、エッジタッチが生じ
る。
【0030】このような工程終了後、リードフレーム3
0をヒータステージ10から次の部位に搬送して、同図
(B)に示すように、平坦な載置面15上に置く。リー
ドフレーム30が本来備えている弾性復帰力で、ベッド
部31を第2接続点のリード部4と同一高さに変形す
る。
0をヒータステージ10から次の部位に搬送して、同図
(B)に示すように、平坦な載置面15上に置く。リー
ドフレーム30が本来備えている弾性復帰力で、ベッド
部31を第2接続点のリード部4と同一高さに変形す
る。
【0031】上記半導体素子1は下方に変位して、高さ
位置が低くなる。これにともない、パッド部2とリード
部4との間に掛け渡されるワイヤ4が彎曲変形する。す
なわち、半導体素子1が下方に変位した分だけ、半導体
素子1の角部からワイヤ5のループが離間するよう変形
し、ギャップを存する状態になる。ボンディング途中は
ともかく、結果的に、エッジタッチが生じることがな
く、理想のワイヤループが得られる。
位置が低くなる。これにともない、パッド部2とリード
部4との間に掛け渡されるワイヤ4が彎曲変形する。す
なわち、半導体素子1が下方に変位した分だけ、半導体
素子1の角部からワイヤ5のループが離間するよう変形
し、ギャップを存する状態になる。ボンディング途中は
ともかく、結果的に、エッジタッチが生じることがな
く、理想のワイヤループが得られる。
【0032】このようなボンディング方法によれば、ヒ
ータステージ10の一部である、半導体素子1をマウン
トしたベッド部31に相当する部分のみに突部11を設
けるだけの、比較的簡単な改造だけですむ。
ータステージ10の一部である、半導体素子1をマウン
トしたベッド部31に相当する部分のみに突部11を設
けるだけの、比較的簡単な改造だけですむ。
【0033】先に図3で説明した、突堤6aを設けるも
のと相違して、調整時間が短縮し、かつマウンタでのデ
プレス機構が不要となる。ワイヤループ毎の条件出しが
不要であり、全ての品種あるいは装置に適用できる。
のと相違して、調整時間が短縮し、かつマウンタでのデ
プレス機構が不要となる。ワイヤループ毎の条件出しが
不要であり、全ての品種あるいは装置に適用できる。
【0034】なお、上記実施例においてワイヤとして金
ワイヤを用いたが、これに限定されるものではなく、た
とえば、銅、アルミニューム材のワイヤを用いてボンデ
ィングする場合にも適用できる。
ワイヤを用いたが、これに限定されるものではなく、た
とえば、銅、アルミニューム材のワイヤを用いてボンデ
ィングする場合にも適用できる。
【0035】
【発明の効果】以上述べたように、本発明は、ヒータス
テージに突部を有し、この突部に半導体素子を載置した
状態でボンディングした後、ヒータステージから平坦面
に半導体素子およびリードフレームを移送して半導体素
子を下方に変位させ、これにともないワイヤループを半
導体素子角部から離間するように変形させたから、ボン
ディング工程におけるエッジタッチの発生を確実に阻止
して、安価で、信頼性の向上を図れるなどの効果を奏す
る。
テージに突部を有し、この突部に半導体素子を載置した
状態でボンディングした後、ヒータステージから平坦面
に半導体素子およびリードフレームを移送して半導体素
子を下方に変位させ、これにともないワイヤループを半
導体素子角部から離間するように変形させたから、ボン
ディング工程におけるエッジタッチの発生を確実に阻止
して、安価で、信頼性の向上を図れるなどの効果を奏す
る。
【図1】(A)は、本発明の一実施例を示す、ボンディ
ング工程の途中の説明図。(B)は、ボンディングが終
了した状態の説明図。
ング工程の途中の説明図。(B)は、ボンディングが終
了した状態の説明図。
【図2】本発明の従来例を示す、ボンディングが終了し
た状態の説明図。
た状態の説明図。
【図3】さらに異なる手段による、従来のボンディング
説明図。
説明図。
11…突部、10…ヒータステージ、1…半導体素子、
30…リードフレーム、5…ワイヤ、14…キャピラ
リ、2…パッド部、4…リード部。
30…リードフレーム、5…ワイヤ、14…キャピラ
リ、2…パッド部、4…リード部。
Claims (1)
- 【請求項1】一部に突部を有するヒータステージ上に、
この突部に半導体素子が載置されるように半導体素子お
よびリードフレームを載置して加熱状態となし、ワイヤ
が挿通されたキャピラリを上記半導体素子のパッド部に
押付けてボンディングした後、キャピラリを上下方向お
よびXY方向に移動させながらワイヤを繰り出してリー
ドフレームのリード部にボンディングし、キャピラリを
上昇させてボンディング部からワイヤを切断し、その
後、ヒータステージから平坦面に半導体素子およびリー
ドフレームを移送し、半導体素子を下方に変位させるこ
とにより、ワイヤを半導体素子角部から離間するように
変形させることを特徴とするワイヤボンディング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26773991A JPH05109805A (ja) | 1991-10-16 | 1991-10-16 | ワイヤボンデイング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26773991A JPH05109805A (ja) | 1991-10-16 | 1991-10-16 | ワイヤボンデイング方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05109805A true JPH05109805A (ja) | 1993-04-30 |
Family
ID=17448903
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26773991A Pending JPH05109805A (ja) | 1991-10-16 | 1991-10-16 | ワイヤボンデイング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05109805A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016092994A1 (ja) * | 2014-12-12 | 2016-06-16 | 株式会社日立製作所 | 半導体モジュールおよび半導体モジュールの製造方法 |
-
1991
- 1991-10-16 JP JP26773991A patent/JPH05109805A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016092994A1 (ja) * | 2014-12-12 | 2016-06-16 | 株式会社日立製作所 | 半導体モジュールおよび半導体モジュールの製造方法 |
US10177084B2 (en) | 2014-12-12 | 2019-01-08 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor module and method of manufacturing semiconductor module |
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