JPH05105658A - シクロヘキセノンオキシムエーテル - Google Patents
シクロヘキセノンオキシムエーテルInfo
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- JPH05105658A JPH05105658A JP3098640A JP9864091A JPH05105658A JP H05105658 A JPH05105658 A JP H05105658A JP 3098640 A JP3098640 A JP 3098640A JP 9864091 A JP9864091 A JP 9864091A JP H05105658 A JPH05105658 A JP H05105658A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 除草剤として有効なシクロヘキセノンは種々
の文献から公知であるが、これらより少ない使用量で除
草目的を達し、しかも高い選択性を有する新規のシクロ
ヘキセノン化合物を開発し提供すること。 【構成】 式(I)で表わされるシクロヘキセノンオキ
シムエーテル及びその塩、そのエステル。 〔式中、R1はC1〜6−アルキル基;R2はテトラヒ
ドロピラン−3−イル、テトラヒドロチオピラン−3−
イル等の複素環基、低級アルキルチオ−アルキル基等の
脂肪族基;Xはハロゲン、フェノキシ基等のベンゼン環
上の置換基;AはC3、C5あるいはC6の(置換)ア
ルキル又は(置換)アルケニル鎖;nは1〜3の整数を
示す〕
の文献から公知であるが、これらより少ない使用量で除
草目的を達し、しかも高い選択性を有する新規のシクロ
ヘキセノン化合物を開発し提供すること。 【構成】 式(I)で表わされるシクロヘキセノンオキ
シムエーテル及びその塩、そのエステル。 〔式中、R1はC1〜6−アルキル基;R2はテトラヒ
ドロピラン−3−イル、テトラヒドロチオピラン−3−
イル等の複素環基、低級アルキルチオ−アルキル基等の
脂肪族基;Xはハロゲン、フェノキシ基等のベンゼン環
上の置換基;AはC3、C5あるいはC6の(置換)ア
ルキル又は(置換)アルケニル鎖;nは1〜3の整数を
示す〕
Description
【0001】
【技術分野】本発明は新規な除草効果を有するシクロヘ
キセノンオキシムエーテルに関するものであり、当然な
がらその製造方法およびこれを含有する除草剤に関する
ものであり、さらにこれを製造するために有利に使用さ
れ得る新規な中間生成物に関するものである。
キセノンオキシムエーテルに関するものであり、当然な
がらその製造方法およびこれを含有する除草剤に関する
ものであり、さらにこれを製造するために有利に使用さ
れ得る新規な中間生成物に関するものである。
【0002】本発明によるシクロヘキセノン(I)は、
明確な酸性性格を有し、従ってアルカリ金属ないしアル
カリ土類金属の塩あるいはエノールエステルのような反
応生成物を簡単に製造し得る。
明確な酸性性格を有し、従ってアルカリ金属ないしアル
カリ土類金属の塩あるいはエノールエステルのような反
応生成物を簡単に製造し得る。
【0003】本発明化合物(I)は、多くの互変異性体
の形態で得られ、これらはすべて本発明の対象をなす。
の形態で得られ、これらはすべて本発明の対象をなす。
【0004】
【従来の技術】以下の一般式(I′)
【0005】
【化2】 で表わされる、除草剤としてのシクロヘキセノンは各種
文献に記載されている。
文献に記載されている。
【0006】Dがベンジル、Eが2−エチルチオプロピ
ルを意味する場合(米国特許4440566号)、Dが
ベンジル、2−ブテニル、Eが置換5員ヘテロアクリラ
ートを意味する場合(ヨーロッパ特許出願公開2380
21号、同125094号)、Dがベンジル、2−ブテ
ニル、Eが置換フェニルを意味する場合(ヨーロッパ特
許出願公開80301号)、Dが2−ブテニル、Eが2
個までのO原子、S原子を有し、2個までの二重結合を
有する5から7員のヘテロ環(ヨーロッパ出願公開21
8233号)。
ルを意味する場合(米国特許4440566号)、Dが
ベンジル、2−ブテニル、Eが置換5員ヘテロアクリラ
ートを意味する場合(ヨーロッパ特許出願公開2380
21号、同125094号)、Dがベンジル、2−ブテ
ニル、Eが置換フェニルを意味する場合(ヨーロッパ特
許出願公開80301号)、Dが2−ブテニル、Eが2
個までのO原子、S原子を有し、2個までの二重結合を
有する5から7員のヘテロ環(ヨーロッパ出願公開21
8233号)。
【0007】しかしながら、これら公知物質より少ない
使用量で除草目的を達し、しかも高い選択性(すなわち
栽培植物に障害をもたらすことなく、好ましくない植物
を防除し得る)を有する、新規のシクロヘキセノン化合
物の開発が望まれていた。
使用量で除草目的を達し、しかも高い選択性(すなわち
栽培植物に障害をもたらすことなく、好ましくない植物
を防除し得る)を有する、新規のシクロヘキセノン化合
物の開発が望まれていた。
【0008】
【発明の要約】しかるに上述した本発明の目的もしくは
この分野の技術的課題は、一般式(I)
この分野の技術的課題は、一般式(I)
【0009】
【化3】 で表わされ、かつR1がC1−C6アルキル基を意味し、
Aが3個までのC1−C3アルキル基および/あるいはハ
ロゲン原子あるいはメチレン基を持っていてもよい
C3、C5、C6アルキル鎖あるいはC3、C5、C6アルケ
ニル鎖を意味し、Xが水素、ニトロ、シアノ、ハロゲ
ン、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、フェノキ
シ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハロゲンアルキ
ル、C1−C4ハロゲンアルコキシ、カルボキシル、C1
−C4アルコキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニ
ルおよび/あるいはフェニル(ただし芳香族置換基はそ
れ自体1から3個の以下の基、すなわちニトロ、シア
ノ、ハロゲン、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキ
シ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハロゲンアルキ
ル、C1−C4ハロゲンアルコキシ、カルボキシル、C1
−C4アルコキシカルボニルおよびベンジルオキシカル
ボニルのいずれかを持っていてもよい)、C1−C4アル
コキシ−C1−C6アルキルを意味し、nが1から3の数
値、Xがハロゲンである場合には1から5の数値を意味
し、R2がC1−C4アルコキシ−C1−C6アルキル基あ
るいはC1−C4アルキルチオ−C1−C6アルキル基を、
3個までの以下の基、すなわちC1−C4アルキル、C1
−C4アルコキシ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハ
ロゲンアルキル、ヒドロキシおよびハロゲンのいずれか
を持っていてもよいC3−C7シクロアルキル基あるいは
C5−C7シクロアルケニル基を、1個あるいは2個のヘ
テロ原子、酸素および硫黄のいずれかを有し、1個から
3個の以下の基、すなわちC1−C4アルキル、C1−C4
アルコキシ、C1−C4アルキルチオおよびC1−C4ハロ
ゲンアルキルのいずれかを持っていてもよい、5員の飽
和ヘテロ環を、1個あるいは2個のヘテロ原子、酸素お
よび硫黄のいずれかを有し、1個から3個の以下の基、
すなわちヒドロキシ、ハロゲン、C1−C4アルキル、C
1−C4アルコキシ、C1−C4アルキルチオおよびC1−
C4ハロゲンアルキルのいずれかを持っていてもよい、
飽和あるいは全体的もしくは部分的に不飽和の6員もし
くは7員のヘテロ環を、1個あるいは2個の窒素原子お
よび酸素もしくは硫黄原子を有し、1個から3個の以下
の基、すなわちハロゲン、シアノ、C1−C4アルキル、
C1−C4アルコキシ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4
ハロゲンアルキル、C2−C6アルケニル、C2−C6アル
ケニルオキシ、C2−C6ハロゲンアルケニルおよびC1
−C4アルコキシ−C1−C4アルキルのいずれかを持っ
ていてもよい5員のヘテロ芳香族環を、1個から3個ま
での以下の基、すなわちハロゲン、ニトロ、シアノ、C
1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4アルキ
ルチオ、C1−C4ハロゲンアルキル、C3−C6アルケニ
ルオキシ、C3−C6アルキニルオキシおよび−NR3R4
のいずれかを持っていてもよいフェニル基あるいはピリ
ジル基を意味し、R3が水素、C1−C4アルキル基、C3
−C6アルケニル基あるいはC3−C6アルキニル基を、
R4が水素、C1−C4アルキル基、C3−C6アルケニル
基、C3−C6アルキニル基、C1−C6アシル基あるいは
ベンゾイル基(この芳香族環は1個から3個の以下の
基、すなわちニトロ、シアノ、ハロゲン、C1−C4アル
キル、C1−C4アルコキシ、C1−C4アルキルチオおよ
びC1−C4ハロゲンアルキルのいずれかを持っていても
よい)を意味することを特徴とするシクロヘキセノンオ
キシムエーテル、ならびにその農業的に使用し得る塩
と、C1−C10カルボン酸および無機酸のエステルによ
り達成されもしくは解決されることが本発明者らにより
見出された。これは好ましくない植物に対して良好な除
草効果をもたらし、広葉耕作植物および米のような耕作
物には障害がない。
Aが3個までのC1−C3アルキル基および/あるいはハ
ロゲン原子あるいはメチレン基を持っていてもよい
C3、C5、C6アルキル鎖あるいはC3、C5、C6アルケ
ニル鎖を意味し、Xが水素、ニトロ、シアノ、ハロゲ
ン、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、フェノキ
シ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハロゲンアルキ
ル、C1−C4ハロゲンアルコキシ、カルボキシル、C1
−C4アルコキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニ
ルおよび/あるいはフェニル(ただし芳香族置換基はそ
れ自体1から3個の以下の基、すなわちニトロ、シア
ノ、ハロゲン、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキ
シ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハロゲンアルキ
ル、C1−C4ハロゲンアルコキシ、カルボキシル、C1
−C4アルコキシカルボニルおよびベンジルオキシカル
ボニルのいずれかを持っていてもよい)、C1−C4アル
コキシ−C1−C6アルキルを意味し、nが1から3の数
値、Xがハロゲンである場合には1から5の数値を意味
し、R2がC1−C4アルコキシ−C1−C6アルキル基あ
るいはC1−C4アルキルチオ−C1−C6アルキル基を、
3個までの以下の基、すなわちC1−C4アルキル、C1
−C4アルコキシ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハ
ロゲンアルキル、ヒドロキシおよびハロゲンのいずれか
を持っていてもよいC3−C7シクロアルキル基あるいは
C5−C7シクロアルケニル基を、1個あるいは2個のヘ
テロ原子、酸素および硫黄のいずれかを有し、1個から
3個の以下の基、すなわちC1−C4アルキル、C1−C4
アルコキシ、C1−C4アルキルチオおよびC1−C4ハロ
ゲンアルキルのいずれかを持っていてもよい、5員の飽
和ヘテロ環を、1個あるいは2個のヘテロ原子、酸素お
よび硫黄のいずれかを有し、1個から3個の以下の基、
すなわちヒドロキシ、ハロゲン、C1−C4アルキル、C
1−C4アルコキシ、C1−C4アルキルチオおよびC1−
C4ハロゲンアルキルのいずれかを持っていてもよい、
飽和あるいは全体的もしくは部分的に不飽和の6員もし
くは7員のヘテロ環を、1個あるいは2個の窒素原子お
よび酸素もしくは硫黄原子を有し、1個から3個の以下
の基、すなわちハロゲン、シアノ、C1−C4アルキル、
C1−C4アルコキシ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4
ハロゲンアルキル、C2−C6アルケニル、C2−C6アル
ケニルオキシ、C2−C6ハロゲンアルケニルおよびC1
−C4アルコキシ−C1−C4アルキルのいずれかを持っ
ていてもよい5員のヘテロ芳香族環を、1個から3個ま
での以下の基、すなわちハロゲン、ニトロ、シアノ、C
1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4アルキ
ルチオ、C1−C4ハロゲンアルキル、C3−C6アルケニ
ルオキシ、C3−C6アルキニルオキシおよび−NR3R4
のいずれかを持っていてもよいフェニル基あるいはピリ
ジル基を意味し、R3が水素、C1−C4アルキル基、C3
−C6アルケニル基あるいはC3−C6アルキニル基を、
R4が水素、C1−C4アルキル基、C3−C6アルケニル
基、C3−C6アルキニル基、C1−C6アシル基あるいは
ベンゾイル基(この芳香族環は1個から3個の以下の
基、すなわちニトロ、シアノ、ハロゲン、C1−C4アル
キル、C1−C4アルコキシ、C1−C4アルキルチオおよ
びC1−C4ハロゲンアルキルのいずれかを持っていても
よい)を意味することを特徴とするシクロヘキセノンオ
キシムエーテル、ならびにその農業的に使用し得る塩
と、C1−C10カルボン酸および無機酸のエステルによ
り達成されもしくは解決されることが本発明者らにより
見出された。これは好ましくない植物に対して良好な除
草効果をもたらし、広葉耕作植物および米のような耕作
物には障害がない。
【0010】
【発明の構成】式(I)のシクロヘキセノンは、それ自
体公知の方法で、式(II)の公知化合物(ヨーロッパ
特許出願公開80301号、同125094号、同14
2741号、同137174号、同177913号およ
び米国特許4249937号)と、式(III)の対応
するヒドロキシルアミン(ホウベン/ワイル、10/
1、1181頁以降)とから製造され得る(ドイツ特許
出願公開3433767号、ヨーロッパ特許出願公開4
8911号)。
体公知の方法で、式(II)の公知化合物(ヨーロッパ
特許出願公開80301号、同125094号、同14
2741号、同137174号、同177913号およ
び米国特許4249937号)と、式(III)の対応
するヒドロキシルアミン(ホウベン/ワイル、10/
1、1181頁以降)とから製造され得る(ドイツ特許
出願公開3433767号、ヨーロッパ特許出願公開4
8911号)。
【0011】
【化4】 この反応はヒドロキシルアミン(III)をそのアンモ
ニウム塩の形態で使用し、塩基の存在下、約80℃より
低い温度で行なわれる。
ニウム塩の形態で使用し、塩基の存在下、約80℃より
低い温度で行なわれる。
【0012】塩基としては、例えばアルカリ金属もしく
はアルカリ土類金属の炭酸塩、炭酸水素塩、アセター
ト、アルコラート、酸化物、ことにナトリウムヒドロキ
シド、カリウムヒドロキシド、酸化マグネシウム、酸化
カルシウムが適当である。さらにピリジンあるいは3級
アミンのような有機塩基も使用され得る。塩基はアンモ
ニウム化合物に対して、例えば0.5から2モル当量で
使用される。
はアルカリ土類金属の炭酸塩、炭酸水素塩、アセター
ト、アルコラート、酸化物、ことにナトリウムヒドロキ
シド、カリウムヒドロキシド、酸化マグネシウム、酸化
カルシウムが適当である。さらにピリジンあるいは3級
アミンのような有機塩基も使用され得る。塩基はアンモ
ニウム化合物に対して、例えば0.5から2モル当量で
使用される。
【0013】溶媒としては、例えばジメチルスルホキシ
ド、メタノール、エタノールおよびプロパノールのよう
なアルカノール、ベンゼンおよびトルエンのような芳香
族炭化水素、クロロホルムおよびジクロルエタンのよう
な塩素化炭化水素、ヘキサンおよびシクロヘキサンのよ
うな脂肪族炭化水素、醋酸エチルエステルのようなエス
テル、ジエチルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒド
ロフランのようなエーテルが適当である。ことに塩基と
して炭酸水素ナトリウムを使用し、メタノール中で反応
させるのが有利である。
ド、メタノール、エタノールおよびプロパノールのよう
なアルカノール、ベンゼンおよびトルエンのような芳香
族炭化水素、クロロホルムおよびジクロルエタンのよう
な塩素化炭化水素、ヘキサンおよびシクロヘキサンのよ
うな脂肪族炭化水素、醋酸エチルエステルのようなエス
テル、ジエチルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒド
ロフランのようなエーテルが適当である。ことに塩基と
して炭酸水素ナトリウムを使用し、メタノール中で反応
させるのが有利である。
【0014】反応は数時間で終了する。目的化合物は、
例えば混合物の濃縮、残渣のメチレンクロリド/水への
分配および減圧下における溶媒の蒸留除去により単離さ
れる。
例えば混合物の濃縮、残渣のメチレンクロリド/水への
分配および減圧下における溶媒の蒸留除去により単離さ
れる。
【0015】この反応はまた遊離ヒドロキシルアミン塩
基を水溶液の形態で使用して直接的に行なうこともでき
る。化合物(II)のために使用される溶媒に応じて単
一相もしくは2相の反応混合物が得られる。
基を水溶液の形態で使用して直接的に行なうこともでき
る。化合物(II)のために使用される溶媒に応じて単
一相もしくは2相の反応混合物が得られる。
【0016】この変形法に適当な溶媒は、例えばメタノ
ール、エタノール、イソプロパノールおよびシクロヘキ
サノールのようなアルカノール、ヘキサン、シクロヘキ
サン、メチレンクロリド、トルエンおよびジクロルエタ
ンのような脂肪族、芳香族、場合により塩素化された炭
化水素、醋酸エチレンエステルのようなエステル、アセ
トニトリルのようなニトリル、ジオキサンおよびテトラ
ヒドロフランのような環式エーテルである。
ール、エタノール、イソプロパノールおよびシクロヘキ
サノールのようなアルカノール、ヘキサン、シクロヘキ
サン、メチレンクロリド、トルエンおよびジクロルエタ
ンのような脂肪族、芳香族、場合により塩素化された炭
化水素、醋酸エチレンエステルのようなエステル、アセ
トニトリルのようなニトリル、ジオキサンおよびテトラ
ヒドロフランのような環式エーテルである。
【0017】式(I)のアルカリ金属塩は、3−ヒドロ
キシ化合物をナトリウムもしくはカリウムヒドロキシド
あるいはそのアルコラートの水溶液、あるいはメタノー
ル、エタノール、アセトン、トルエンのような有機溶媒
溶液で処理することにより得られる。
キシ化合物をナトリウムもしくはカリウムヒドロキシド
あるいはそのアルコラートの水溶液、あるいはメタノー
ル、エタノール、アセトン、トルエンのような有機溶媒
溶液で処理することにより得られる。
【0018】マグネシウム、銅、亜鉛、鉄、カルシウ
ム、マグネシウムおよびバリウムなどの他の金属の塩
は、常法によりナトリウム塩から製造され得る。アンモ
ニア、ホスホニウムヒドロキシド、スルホニウムヒドロ
キシド、スルホオキソニウムヒドロキシドによるアンモ
ニウム塩およびホスホニウム塩も同様である。
ム、マグネシウムおよびバリウムなどの他の金属の塩
は、常法によりナトリウム塩から製造され得る。アンモ
ニア、ホスホニウムヒドロキシド、スルホニウムヒドロ
キシド、スルホオキソニウムヒドロキシドによるアンモ
ニウム塩およびホスホニウム塩も同様である。
【0019】式(II)の化合物は、以下の式(IV)
の対応するシクロヘキサン−1,3−ジオンから、それ
自体公知の方法(Tetrahedron Let
t.,2491(1975))により製造され得る。
の対応するシクロヘキサン−1,3−ジオンから、それ
自体公知の方法(Tetrahedron Let
t.,2491(1975))により製造され得る。
【0020】
【化5】 式中のYは水素あるいはメトキシカルボニルを意味す
る。
る。
【0021】式(II)の化合物は、また化合物(I
V)と酸クロリド(VII)とを塩基の存在下に反応さ
せて得られ、次いで特定のイミダゾール誘導体ないしピ
リジン誘導体により転位せしめられる、エノールエステ
ル(VIII)の中間工程を経て製造されることもでき
る(日本国特許出願公開昭54−63052号)。
V)と酸クロリド(VII)とを塩基の存在下に反応さ
せて得られ、次いで特定のイミダゾール誘導体ないしピ
リジン誘導体により転位せしめられる、エノールエステ
ル(VIII)の中間工程を経て製造されることもでき
る(日本国特許出願公開昭54−63052号)。
【0022】
【化6】 化合物(IV)には公知の前駆物質から一連の公知の方
法段階を経て到達する。
法段階を経て到達する。
【0023】式(III)
【0024】
【化7】 のヒドロキシルアミンは、公知方法、例えばホウベン−
ワイルのメトーデン、デル、オルガニッシェン、ヘミー
10/1巻1181頁以降に記載の方法により製造され
得る。Aがアルケニレン鎖を意味する場合には古いヨー
ロッパ特許出願244786号に記載された方法で製造
するのが好ましい。次いで以下の式(VI)の化合物か
ら出発して、二重結合を芳香族化合物との共役で形成す
るか、あるいはこれから1個もしくは2個の炭素原子を
分離する。
ワイルのメトーデン、デル、オルガニッシェン、ヘミー
10/1巻1181頁以降に記載の方法により製造され
得る。Aがアルケニレン鎖を意味する場合には古いヨー
ロッパ特許出願244786号に記載された方法で製造
するのが好ましい。次いで以下の式(VI)の化合物か
ら出発して、二重結合を芳香族化合物との共役で形成す
るか、あるいはこれから1個もしくは2個の炭素原子を
分離する。
【0025】
【化8】 式中のLはアニオノイド反応条件下に駆出され得る出発
基を意味し、AはC3、C5あるいはC6アルキル基を意
味する。このアルキレン基の置換基としてはことにメチ
ル、塩素あるいは弗素が好ましく、Xnはオキシムエー
テル(I)につき上述したと同じ意味を有する。
基を意味し、AはC3、C5あるいはC6アルキル基を意
味する。このアルキレン基の置換基としてはことにメチ
ル、塩素あるいは弗素が好ましく、Xnはオキシムエー
テル(I)につき上述したと同じ意味を有する。
【0026】上記化合物(VI)は、まず以下の式(V
III)のヒドロキシイミドと反応せしめられる。
III)のヒドロキシイミドと反応せしめられる。
【0027】
【化9】 式中のZはフェニレン、ナフチレン、ピリジニレン、シ
クロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘキセニレ
ン、C2−C4アルケニレンあるいはC1−C4アルキレン
の各基を意味し、このZは非置換でもあるいは1、2、
3もしくは4個のハロゲン、C1−C4アルキニルおよび
/あるいはC1−C4ハロゲンアルキル置換基を持ってい
てもよい。上記反応は溶媒および塩基の存在下、0から
140℃の温度で行なわれ、得られたイミドエーテルか
ら、酸もしくは塩基によりヒドロキシルアミン(II
I)が遊離せしめられる。
クロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘキセニレ
ン、C2−C4アルケニレンあるいはC1−C4アルキレン
の各基を意味し、このZは非置換でもあるいは1、2、
3もしくは4個のハロゲン、C1−C4アルキニルおよび
/あるいはC1−C4ハロゲンアルキル置換基を持ってい
てもよい。上記反応は溶媒および塩基の存在下、0から
140℃の温度で行なわれ、得られたイミドエーテルか
ら、酸もしくは塩基によりヒドロキシルアミン(II
I)が遊離せしめられる。
【0028】上記式中のZは環式、芳香族あるいはヘテ
ロ芳香族基を意味する場合、式(VIII)において、
カルボキシル基が1−および2−位において相対するジ
カルボン酸のジカルボン酸イミド基が問題である。ナフ
チレン基としては、
ロ芳香族基を意味する場合、式(VIII)において、
カルボキシル基が1−および2−位において相対するジ
カルボン酸のジカルボン酸イミド基が問題である。ナフ
チレン基としては、
【0029】
【化10】 ピリジニレン基としては、
【0030】
【化11】 シクロヘキセニレン基としては、
【0031】
【化12】 が考えられる。
【0032】Zが置換されている場合、置換のパターン
は任意である。しかしながら非置換の基であるのが好ま
しい。出発材料の容易かつ廉価な入手可能性にかんがみ
て、ZがC2−C3アルキレン、C2−C4アルケニレンを
意味する、ことにフェニレン基を意味するものが好まし
い。
は任意である。しかしながら非置換の基であるのが好ま
しい。出発材料の容易かつ廉価な入手可能性にかんがみ
て、ZがC2−C3アルキレン、C2−C4アルケニレンを
意味する、ことにフェニレン基を意味するものが好まし
い。
【0033】アミノ基がジカルボン酸イミド基により保
護されているヒドロキシルアミン誘導体も、遊離アミノ
基を有するヒドロキシルアミン誘導体も安定な化合物で
あって、そのような形態で分離され、貯蔵され、さらに
処理され得る。遊離アミノ基を有するヒドロキシルアミ
ン誘導体を単離するためには、有機もしくは無機酸によ
り塩の形態とするのが有利である。このような塩は容易
に結晶形で得られるからである。さらに酸陰イオンの選
択により、このヒドロキシルアンモニウム塩の有機溶媒
あるいは水に対する溶解性は意図的に変えられ、本発明
によるヒドロキシルアミン誘導体のその後の処理が簡単
化される。ヒドロキシルアンモニウム塩は、クロリド、
ブロミド、スルファート、ニトラート、ホスファート、
ホルミアート、アセタート、マロナート、オキサート、
メタンスルホナート、ベンゾスルホナート、トルオール
スルホナートのような陰イオンを使用して対応するヒド
ロキシアミン誘導体から製造される。
護されているヒドロキシルアミン誘導体も、遊離アミノ
基を有するヒドロキシルアミン誘導体も安定な化合物で
あって、そのような形態で分離され、貯蔵され、さらに
処理され得る。遊離アミノ基を有するヒドロキシルアミ
ン誘導体を単離するためには、有機もしくは無機酸によ
り塩の形態とするのが有利である。このような塩は容易
に結晶形で得られるからである。さらに酸陰イオンの選
択により、このヒドロキシルアンモニウム塩の有機溶媒
あるいは水に対する溶解性は意図的に変えられ、本発明
によるヒドロキシルアミン誘導体のその後の処理が簡単
化される。ヒドロキシルアンモニウム塩は、クロリド、
ブロミド、スルファート、ニトラート、ホスファート、
ホルミアート、アセタート、マロナート、オキサート、
メタンスルホナート、ベンゾスルホナート、トルオール
スルホナートのような陰イオンを使用して対応するヒド
ロキシアミン誘導体から製造される。
【0034】出発化合物(VI)は各種文献から公知で
あり、あるいはこれらに記載されている方法により製造
され得る。例えばOrg.Synth.Coll.V巻
249頁に記載されている文献、ヨーロッパ特許489
11号、同143952号、米国特許4686735号
各明細書を参照され度い。反応に有利なブロミド(式
(VI)におけるL=Br)は、一般的な処理(例えば
ホウベン/ワイル5/4巻354頁以降)により対応す
るアルコールから合成される。好ましい化合物(VI)
(式中のAがプロプ−2−エニレン基を意味する)を製
造するため、チムト酸エステルもしくはチムトアルデヒ
ド(例えばOrganikum508頁以降)を一般的
に慣用の方法で還元し、これにより得られたチムトアル
コールを対応するブロミドに転化する。
あり、あるいはこれらに記載されている方法により製造
され得る。例えばOrg.Synth.Coll.V巻
249頁に記載されている文献、ヨーロッパ特許489
11号、同143952号、米国特許4686735号
各明細書を参照され度い。反応に有利なブロミド(式
(VI)におけるL=Br)は、一般的な処理(例えば
ホウベン/ワイル5/4巻354頁以降)により対応す
るアルコールから合成される。好ましい化合物(VI)
(式中のAがプロプ−2−エニレン基を意味する)を製
造するため、チムト酸エステルもしくはチムトアルデヒ
ド(例えばOrganikum508頁以降)を一般的
に慣用の方法で還元し、これにより得られたチムトアル
コールを対応するブロミドに転化する。
【0035】ヒドロキシルアミンの製造は、以下の反応
式に示されるようにして行なわれる。
式に示されるようにして行なわれる。
【0036】
【化13】 好ましい出発基Lは、クロリド、ブロミド、ヨジドのよ
うなハロゲニド、メタンスルホン酸、トリフルオルメタ
ンスルホン酸、ベンゾスルホン酸、ブロムベンゾスルホ
ン酸あるいはトルエンスルホン酸のスルホン酸エステ
ル、ことにクロリド、ブロミドならびにメタンスルホナ
ート、トルエンスルホナートである。
うなハロゲニド、メタンスルホン酸、トリフルオルメタ
ンスルホン酸、ベンゾスルホン酸、ブロムベンゾスルホ
ン酸あるいはトルエンスルホン酸のスルホン酸エステ
ル、ことにクロリド、ブロミドならびにメタンスルホナ
ート、トルエンスルホナートである。
【0037】出発化合物(VI)とヒドロキシイミドと
の反応は、塩基の存在下に行なわれる。塩基としては、
イミド系に作用することなくヒドロキシイミド(VII
I)を脱プロトン化し得るあらゆる塩基が使用され得
る。これらはいわゆる非アニオノイド塩基であって、例
えばアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属炭酸塩、炭
酸水素アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のような
無機塩基、脂肪族、脂環式および芳香族3級アミンのよ
うな有機塩基が挙げられる。これらの混合物も使用され
得る。
の反応は、塩基の存在下に行なわれる。塩基としては、
イミド系に作用することなくヒドロキシイミド(VII
I)を脱プロトン化し得るあらゆる塩基が使用され得
る。これらはいわゆる非アニオノイド塩基であって、例
えばアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属炭酸塩、炭
酸水素アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のような
無機塩基、脂肪族、脂環式および芳香族3級アミンのよ
うな有機塩基が挙げられる。これらの混合物も使用され
得る。
【0038】具体的には炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウ
ム、これら金属の炭酸水素塩、トリメチルアミン、トリ
エチルアミン、トリブチルアミン、エチルジイソプロピ
ルアミン、N,N−ジメチルアニリン、4−N,N−ジ
メチルアミノピリジン、ジアゾビシクロオクタン、ジア
ゾビシクロウンデカン、N−メチルピペリジン、1,4
−ジメチルピペラジン、ピリジン、キノリン、ビピリジ
ン、フェナントロリンが挙げられる。コストの点から炭
酸ナトリウムおよびカリウムが好ましい。
ム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウ
ム、これら金属の炭酸水素塩、トリメチルアミン、トリ
エチルアミン、トリブチルアミン、エチルジイソプロピ
ルアミン、N,N−ジメチルアニリン、4−N,N−ジ
メチルアミノピリジン、ジアゾビシクロオクタン、ジア
ゾビシクロウンデカン、N−メチルピペリジン、1,4
−ジメチルピペラジン、ピリジン、キノリン、ビピリジ
ン、フェナントロリンが挙げられる。コストの点から炭
酸ナトリウムおよびカリウムが好ましい。
【0039】塩基は一般的にヒドロキシイミドに対し当
量から5当量の過剰量までの範囲で使用される。これ以
上の過剰量を使用することも可能であるが、追加的利点
は何もない。過少量の塩基を使用することも可能である
が、ヒドロキシイミド(VIII)に対して1から3当
量、ことに1から2当量の使用が有利である。
量から5当量の過剰量までの範囲で使用される。これ以
上の過剰量を使用することも可能であるが、追加的利点
は何もない。過少量の塩基を使用することも可能である
が、ヒドロキシイミド(VIII)に対して1から3当
量、ことに1から2当量の使用が有利である。
【0040】アニオノイド塩基、例えばアルカリ金属も
しくはアルカリ土類金属水酸化物、ことに水酸化ナトリ
ウムおよびカリウムの使用も同様に可能であるが、この
場合にはイミド基のカルボニル機能に対するヒドロキシ
ルイオンの求核的反応を防止するため、塩基はヒドロキ
シイミド(VIII)に対して当量で使用するのが好ま
しい。
しくはアルカリ土類金属水酸化物、ことに水酸化ナトリ
ウムおよびカリウムの使用も同様に可能であるが、この
場合にはイミド基のカルボニル機能に対するヒドロキシ
ルイオンの求核的反応を防止するため、塩基はヒドロキ
シイミド(VIII)に対して当量で使用するのが好ま
しい。
【0041】出発化合物(VI)は、反応条件下におい
て不活性の溶媒中において、ヒドロキシイミド(VII
I)と反応させるのが好ましい。この溶媒としては、ジ
メチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチル
スルホキシド、スルホラン、環式尿素のような極性、中
性溶媒が好ましい。溶媒量には特に制約はない。
て不活性の溶媒中において、ヒドロキシイミド(VII
I)と反応させるのが好ましい。この溶媒としては、ジ
メチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチル
スルホキシド、スルホラン、環式尿素のような極性、中
性溶媒が好ましい。溶媒量には特に制約はない。
【0042】出発化合物(VI)のヒドロキシルイミド
(VIII)との反応は、また相転移触媒の存在下に行
なわれ得る。この場合には水と2相を形成する溶媒、こ
とに塩素化炭化水素が使用される。この相転移溶媒とし
ては、このような目的に慣用されている4級アンモニウ
ムおよびホスホニウム塩、ポリエチレングリコール、ポ
リエチレングリコールエーテルならびに、1980年、
ワインハイム在フェルラーク、ヘミー社刊、デームロウ
らの「フェイズ、トランスファー、キャタリシス」37
−45頁および86−93頁に記載されているクラウン
エーテルが使用される。この相転移触媒は反応混合物容
積に対して1から10容量%、ことに3から5容量%の
量で使用される。
(VIII)との反応は、また相転移触媒の存在下に行
なわれ得る。この場合には水と2相を形成する溶媒、こ
とに塩素化炭化水素が使用される。この相転移溶媒とし
ては、このような目的に慣用されている4級アンモニウ
ムおよびホスホニウム塩、ポリエチレングリコール、ポ
リエチレングリコールエーテルならびに、1980年、
ワインハイム在フェルラーク、ヘミー社刊、デームロウ
らの「フェイズ、トランスファー、キャタリシス」37
−45頁および86−93頁に記載されているクラウン
エーテルが使用される。この相転移触媒は反応混合物容
積に対して1から10容量%、ことに3から5容量%の
量で使用される。
【0043】出発化合物(VI)のヒドロキシイミド
(VIII)との反応は、一般的に0から140℃、好
ましくは20から100℃、ことに40から80℃の温
度で行なわれる。この場合、ヒドロキシイミド(VII
I)を塩基と共に溶媒中に投入し、出発材料(VI)を
この溶液に添加するのが好ましい。その際、ヒドロキシ
イミドは比較的低温、例えば0から50℃で添加し、こ
の添加後に始めて反応混合物を本来の反応温度まで加熱
するのが有利である。
(VIII)との反応は、一般的に0から140℃、好
ましくは20から100℃、ことに40から80℃の温
度で行なわれる。この場合、ヒドロキシイミド(VII
I)を塩基と共に溶媒中に投入し、出発材料(VI)を
この溶液に添加するのが好ましい。その際、ヒドロキシ
イミドは比較的低温、例えば0から50℃で添加し、こ
の添加後に始めて反応混合物を本来の反応温度まで加熱
するのが有利である。
【0044】反応終了後、冷却された反応混合物は、水
を添加することにより結晶固体として、あるいは油状体
として生成ヒドロキシルアミド誘導体(IX)が単離さ
れる。このようにして得られたヒドロキシルアミン誘導
体は、必要に応じて再結晶あるいは抽出によりさらに精
製される。
を添加することにより結晶固体として、あるいは油状体
として生成ヒドロキシルアミド誘導体(IX)が単離さ
れる。このようにして得られたヒドロキシルアミン誘導
体は、必要に応じて再結晶あるいは抽出によりさらに精
製される。
【0045】ヒドロキシルアミン誘導体(IX)は、中
間貯蔵され、あるいは直ちに遊離アミノ基を有する誘導
体に転化され得る。この転化は例えば西独特許出願公開
3615973号あるいはここに引用されている文献に
記載されているそれ自体公知の方法により行なわれる。
好ましいのは上記公報の方法により、ヒドロキシルアミ
ン誘導体(III)をエタノールアミンにより分解する
ことであるが、これは他の無機塩基、アミン、ヒドラジ
ン、ヒドロキシルアミンなどによっても行なわれ得る。
間貯蔵され、あるいは直ちに遊離アミノ基を有する誘導
体に転化され得る。この転化は例えば西独特許出願公開
3615973号あるいはここに引用されている文献に
記載されているそれ自体公知の方法により行なわれる。
好ましいのは上記公報の方法により、ヒドロキシルアミ
ン誘導体(III)をエタノールアミンにより分解する
ことであるが、これは他の無機塩基、アミン、ヒドラジ
ン、ヒドロキシルアミンなどによっても行なわれ得る。
【0046】このような方法で得られた反応混合物か
ら、慣用の後処理で、例えば抽出あるいは晶出によりヒ
ドロキシルアミン誘導体(III)が単離される。この
誘導体の晶出性向を高めるため、無機酸もしくは有機酸
によりこれを塩に転化することがしばしば行なわれる。
このためこれら酸の希釈溶液中において、ことに当量で
反応せしめられる。得られたヒドロキシルアンモニウム
塩は、ヒドロキシルアミン誘導体と同じように遊離アミ
ノ基により直ちに除草有効物質(I)とするか、あるい
は必要に応じて貯蔵される。
ら、慣用の後処理で、例えば抽出あるいは晶出によりヒ
ドロキシルアミン誘導体(III)が単離される。この
誘導体の晶出性向を高めるため、無機酸もしくは有機酸
によりこれを塩に転化することがしばしば行なわれる。
このためこれら酸の希釈溶液中において、ことに当量で
反応せしめられる。得られたヒドロキシルアンモニウム
塩は、ヒドロキシルアミン誘導体と同じように遊離アミ
ノ基により直ちに除草有効物質(I)とするか、あるい
は必要に応じて貯蔵される。
【0047】式(I)のシクロヘキセノンとして好まし
いのは、その置換基が以下のものを意味する場合であ
る。
いのは、その置換基が以下のものを意味する場合であ
る。
【0048】R1がメチル、イソプロピル、n−ブチ
ル、i−ブチル、t−ブチルのようなアルキル基、こと
にエチルおよびn−プロピルを意味し、Aがプロピレ
ン、プロプ−2−エニレン、ペンチレン、ペント−2−
エニレン、ペント−3−エニレン、ペント−4−エンレ
ン、ヘキシレン、ヘキス−2−エニレン、ヘキス−3−
エニレン、ヘキス−4−エニレン、ヘキス−5−エニレ
ン。(それぞれ場合により3個までのメチルもしくはメ
チレンおよび/あるいは弗素もしくは塩素で置換されて
いてもよく、不飽和鎖の場合シス型でもトランス型でも
よい)、ことにプロプ−2−エニレンを意味し、Xが弗
素、塩素、臭素、沃素のようなハロゲン、ことに弗素、
塩素を、メチル、エチル、プロピル、1−メチルエチ
ル、ブチル、1−メチルプロピル、2−メチルプロピ
ル、1,1−ジメチルエチルのようなアルキル、ことに
メチルを、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、1−メチ
ルエトキシ、ブトキシ、1−メチルプロポキシ、2−メ
チルプロポキシ、1,1−ジメチルエトキシのようなオ
キシ、ことにメトキシ、エトキシ、1−メチルエトキシ
および1,1−ジメチルエトキシを、メチルチオ、エチ
ルチオ、プロピオチオ、1−メチルエチルチオ、ブチル
チオ、1−メチルプロピルチオ、2−メチルプロピルチ
オ、1,1−ジメチルエチルチオのようなアルキルチ
オ、ことにメチルチオおよびエチルチオを、フルオルメ
チル、ジフルオルメチル、トリフルオルメチル、クロル
ジフルオルメチル、ジクロルフルオルメチル、トリクロ
ルメチル、1−フルオルエチル、2−フルオルエチル、
2,2−ジフルオルエチル、2,2,2−トリフルオル
エチル、2−クロル−2,2−ジフルオルエチル、2,
2−ジクロル−2−フルオルエチル、2,2,2−トリ
クロルエチル、ペンタフルオルエチルのようなハロゲン
アルキル、ことにジフルオルメチル、トリフルオルメチ
ル、2,2,2−トルフルオルエチルおよびペンタフル
オルエチルを、ジフルオルメトキシ、トリフルオルメト
キシ、クロル−ジフルオルメトキシ、ジクロルフルオル
メトキシ、1−フルオルエトキシ、2−フルオルエトキ
シ、2,2−ジフルオルエトキシ、1,1,2,2−テ
トラフルオルエトキシ、2,2,2−トリフルオルエト
キシ、2−クロル−1,1,2−トリフルオルエトキ
シ、ペンタフルオルエトキシのようなハロゲンアルコキ
シ、ことにトリフルメトキシを、メトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、1−
メチルエトキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル、
1,1−ジメチルエトキシカルボニルのようなアルコキ
シカルボニル、ことにメトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニルおよび1,1−ジメチルエトキシカルボニル、
そのうちでも特にメトキシカルボニルを、さらに水素、
ニトロ、シアノ、ベンズオキシカルボニル、フェノキシ
およびフェニル(芳香族基は置換されていてもよく、置
換基としては、ことにニトロ、シアノ、カルボキシル、
ベンジルオキシカルボニルならびに前述したハロゲン、
アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、ハロゲンアルキ
ル、ハロゲンアルコキシおよび/あるいはアルコキシカ
ルボニルが挙げられるが、非置換あるいはモノ置換が好
ましい)を、nが1,2あるいは3、ことに1あるいは
2(Xが複数の場合、これらは同じでも異なってもよ
い)を意味する場合である。
ル、i−ブチル、t−ブチルのようなアルキル基、こと
にエチルおよびn−プロピルを意味し、Aがプロピレ
ン、プロプ−2−エニレン、ペンチレン、ペント−2−
エニレン、ペント−3−エニレン、ペント−4−エンレ
ン、ヘキシレン、ヘキス−2−エニレン、ヘキス−3−
エニレン、ヘキス−4−エニレン、ヘキス−5−エニレ
ン。(それぞれ場合により3個までのメチルもしくはメ
チレンおよび/あるいは弗素もしくは塩素で置換されて
いてもよく、不飽和鎖の場合シス型でもトランス型でも
よい)、ことにプロプ−2−エニレンを意味し、Xが弗
素、塩素、臭素、沃素のようなハロゲン、ことに弗素、
塩素を、メチル、エチル、プロピル、1−メチルエチ
ル、ブチル、1−メチルプロピル、2−メチルプロピ
ル、1,1−ジメチルエチルのようなアルキル、ことに
メチルを、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、1−メチ
ルエトキシ、ブトキシ、1−メチルプロポキシ、2−メ
チルプロポキシ、1,1−ジメチルエトキシのようなオ
キシ、ことにメトキシ、エトキシ、1−メチルエトキシ
および1,1−ジメチルエトキシを、メチルチオ、エチ
ルチオ、プロピオチオ、1−メチルエチルチオ、ブチル
チオ、1−メチルプロピルチオ、2−メチルプロピルチ
オ、1,1−ジメチルエチルチオのようなアルキルチ
オ、ことにメチルチオおよびエチルチオを、フルオルメ
チル、ジフルオルメチル、トリフルオルメチル、クロル
ジフルオルメチル、ジクロルフルオルメチル、トリクロ
ルメチル、1−フルオルエチル、2−フルオルエチル、
2,2−ジフルオルエチル、2,2,2−トリフルオル
エチル、2−クロル−2,2−ジフルオルエチル、2,
2−ジクロル−2−フルオルエチル、2,2,2−トリ
クロルエチル、ペンタフルオルエチルのようなハロゲン
アルキル、ことにジフルオルメチル、トリフルオルメチ
ル、2,2,2−トルフルオルエチルおよびペンタフル
オルエチルを、ジフルオルメトキシ、トリフルオルメト
キシ、クロル−ジフルオルメトキシ、ジクロルフルオル
メトキシ、1−フルオルエトキシ、2−フルオルエトキ
シ、2,2−ジフルオルエトキシ、1,1,2,2−テ
トラフルオルエトキシ、2,2,2−トリフルオルエト
キシ、2−クロル−1,1,2−トリフルオルエトキ
シ、ペンタフルオルエトキシのようなハロゲンアルコキ
シ、ことにトリフルメトキシを、メトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、1−
メチルエトキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル、
1,1−ジメチルエトキシカルボニルのようなアルコキ
シカルボニル、ことにメトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニルおよび1,1−ジメチルエトキシカルボニル、
そのうちでも特にメトキシカルボニルを、さらに水素、
ニトロ、シアノ、ベンズオキシカルボニル、フェノキシ
およびフェニル(芳香族基は置換されていてもよく、置
換基としては、ことにニトロ、シアノ、カルボキシル、
ベンジルオキシカルボニルならびに前述したハロゲン、
アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、ハロゲンアルキ
ル、ハロゲンアルコキシおよび/あるいはアルコキシカ
ルボニルが挙げられるが、非置換あるいはモノ置換が好
ましい)を、nが1,2あるいは3、ことに1あるいは
2(Xが複数の場合、これらは同じでも異なってもよ
い)を意味する場合である。
【0049】さらに式(I)における置換基として、R
2がR1につき上述したアルキルであって、Xにつき上述
したようなアルコキシもしくはアルキルチオをことに1
−、2−あるいは3−位に持っているもの、ことに2−
エチルチオプロピルを、テトラヒドロフラニル、テトラ
ヒドロチエニル、ジオキソラニル、ジチオラニル、オキ
サチオラニルのような5員ヘテロシクロアルキル、こと
にテトラヒドロフラニルおよびジオキオラニル(これら
環はXにつき上述したC1−C4アルキル、C1−C4アル
コキシ、C1−C4アルキルチオおよび/あるいはC1−
C4ハロゲンアルキルを持っていてもよい)を、ピロリ
ル、ピラゾリル、イミダゾリル、イソオキサゾリル、オ
キサゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、フラニル、
チエニルのような5員ヘテロアリール、ことにイソオキ
サゾリルおよびフラニルを、テトラヒドロピラン−3−
イル、ジヒドロピラン−3−イル、テトラヒドロピラン
−4−イル、ジヒドロピラン−4−イル、テトラヒドロ
チオピラン−3−イル、ジヒドロチオピラン−3−イ
ル、テトラヒドロチオピラン−4−イル、ジヒドロチオ
ピラン−4−イル、ジオキセパン−5−イルのような6
員もしくは7員のヘテロフェニルあるいはピリジル(X
につき前述したアルキル、アルコキシ、アルキルチオお
よび/あるいはハロゲンアルキルを持っていてもよい)
を意味する場合である。
2がR1につき上述したアルキルであって、Xにつき上述
したようなアルコキシもしくはアルキルチオをことに1
−、2−あるいは3−位に持っているもの、ことに2−
エチルチオプロピルを、テトラヒドロフラニル、テトラ
ヒドロチエニル、ジオキソラニル、ジチオラニル、オキ
サチオラニルのような5員ヘテロシクロアルキル、こと
にテトラヒドロフラニルおよびジオキオラニル(これら
環はXにつき上述したC1−C4アルキル、C1−C4アル
コキシ、C1−C4アルキルチオおよび/あるいはC1−
C4ハロゲンアルキルを持っていてもよい)を、ピロリ
ル、ピラゾリル、イミダゾリル、イソオキサゾリル、オ
キサゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、フラニル、
チエニルのような5員ヘテロアリール、ことにイソオキ
サゾリルおよびフラニルを、テトラヒドロピラン−3−
イル、ジヒドロピラン−3−イル、テトラヒドロピラン
−4−イル、ジヒドロピラン−4−イル、テトラヒドロ
チオピラン−3−イル、ジヒドロチオピラン−3−イ
ル、テトラヒドロチオピラン−4−イル、ジヒドロチオ
ピラン−4−イル、ジオキセパン−5−イルのような6
員もしくは7員のヘテロフェニルあるいはピリジル(X
につき前述したアルキル、アルコキシ、アルキルチオお
よび/あるいはハロゲンアルキルを持っていてもよい)
を意味する場合である。
【0050】ただし、5員ヘテロ芳香族環は置換基とし
て以下の基を持っていてもよい。すなわちXについて前
述したハロゲン、ことに弗素および塩素、メトキシメチ
ル、2−メトキシエチル、2−メトキシプロピル、3−
メトキシプロピル、2−メトキシ−1−メチルエチル、
エトキシメチル、2−エトキシエチル、2−エトキシプ
ロピル、3−エトキシプロピル、2−エトキシ−1−メ
チルエチル、1−エトキシ−1−メチルエチルのような
アルコキシアルキル、ことにメトキシエチルおよびエト
キシエチル、エテニル、1−プロペニル、2−プロペニ
ル、1−メチルエテニル、1−ブテニル、2−ブテニ
ル、3−ブテニル、1−メチル−1−プロペニル、1−
メチル−2−プロペニル、2−メチル−1−プロペニ
ル、2−メチル−2−プロペニル、1−ペンテニル、2
−ペンテニル、3−ペンテニル、4−ペンテニル、1−
メチル−1−ブテニル、2−メチル−1−ブテニル、3
−メチル−1−ブテニル、1−メチル−2−ブテニル、
2−メチル−2−ブテニル、3−メチル−2−ブテニ
ル、2−メチル−3−ブテニル、3−メチル−3−ブテ
ニル、1,1−ジメチル−2−プロペニル、1−ジメチ
ル−1−プロペニル、1,2−ジメチル−2−プロペニ
ル、1−エチル−1−プロペニル、1−エチル−2−プ
ロペニル、1−ヘキセニル、2−ヘキセニル、3−ヘキ
セニル、4−ヘキセニル、5−ヘキセニル、1−メチル
−1−ペンテニル、2−メチル−1−ペンテニル、3−
メチル−1−ペンテニル、4−メチル−1−ペンテニ
ル、1−メチル−2−ペンテニル、2−メチル−2−ペ
ンテニル、3−メチル−2−ペンテニル、4−メチル−
2−ペンテニル、1−メチル−3−ペンテニル、2−メ
チル−3−ペンテニル、3−メチル−3−ペンテニル、
4−メチル−3−ペンテニル、1−メチル−4−ペンテ
ニル、2−メチル−4−ペンテニル、3−メチル−4−
ペンテニル、4−メチル−4−ペンテニル、1,1−ジ
メチル−2−ブテニル、1,1−ジメチル−3−ブテニ
ル、1,2−ジメチル−1−ブテニル、1,2−ジメチ
ル−2−ブテニル、1,1−ジメチル−3−ブテニル、
1,2−ジメチル−1−ブテニル、1,2−ジメチル−
2−ブテニル、1,2−ジメチル−3−ブテニル、1,
3−ジメチル−1−ブテニル、1,3−ジメチル−2−
ブテニル、1,3−ジメチル−3−ブテニル、2,2−
ジメチル−3−ブテニル、2,3−ジメチル−1−ブテ
ニル、2,3−ジメチル−2−ブテニル、2,3−ジメ
チル−3−ブテニル、3,3−ジメチル−1−ブテニ
ル、1−エチル−1−ブテニル、1−エチル−2−ブテ
ニル、1−エチル−3−ブテニル、2−エチル−1−ブ
テニル、2−エチル−2−ブテニル、2−エチル−3−
ブテニル、1,1,2−トリメチル−2−プロペニル、
1−エチル−1−メチル−2−プロペニル、1−エチル
−2−メチル−1−プロペニル、1−エチル−2−メチ
ル−2−プロペニルのようなアルケニル、ことに1−メ
チルエテニルないし対応するアルケニルオキシおよび/
あるいはハロゲンアルキルを持っていてもよい。
て以下の基を持っていてもよい。すなわちXについて前
述したハロゲン、ことに弗素および塩素、メトキシメチ
ル、2−メトキシエチル、2−メトキシプロピル、3−
メトキシプロピル、2−メトキシ−1−メチルエチル、
エトキシメチル、2−エトキシエチル、2−エトキシプ
ロピル、3−エトキシプロピル、2−エトキシ−1−メ
チルエチル、1−エトキシ−1−メチルエチルのような
アルコキシアルキル、ことにメトキシエチルおよびエト
キシエチル、エテニル、1−プロペニル、2−プロペニ
ル、1−メチルエテニル、1−ブテニル、2−ブテニ
ル、3−ブテニル、1−メチル−1−プロペニル、1−
メチル−2−プロペニル、2−メチル−1−プロペニ
ル、2−メチル−2−プロペニル、1−ペンテニル、2
−ペンテニル、3−ペンテニル、4−ペンテニル、1−
メチル−1−ブテニル、2−メチル−1−ブテニル、3
−メチル−1−ブテニル、1−メチル−2−ブテニル、
2−メチル−2−ブテニル、3−メチル−2−ブテニ
ル、2−メチル−3−ブテニル、3−メチル−3−ブテ
ニル、1,1−ジメチル−2−プロペニル、1−ジメチ
ル−1−プロペニル、1,2−ジメチル−2−プロペニ
ル、1−エチル−1−プロペニル、1−エチル−2−プ
ロペニル、1−ヘキセニル、2−ヘキセニル、3−ヘキ
セニル、4−ヘキセニル、5−ヘキセニル、1−メチル
−1−ペンテニル、2−メチル−1−ペンテニル、3−
メチル−1−ペンテニル、4−メチル−1−ペンテニ
ル、1−メチル−2−ペンテニル、2−メチル−2−ペ
ンテニル、3−メチル−2−ペンテニル、4−メチル−
2−ペンテニル、1−メチル−3−ペンテニル、2−メ
チル−3−ペンテニル、3−メチル−3−ペンテニル、
4−メチル−3−ペンテニル、1−メチル−4−ペンテ
ニル、2−メチル−4−ペンテニル、3−メチル−4−
ペンテニル、4−メチル−4−ペンテニル、1,1−ジ
メチル−2−ブテニル、1,1−ジメチル−3−ブテニ
ル、1,2−ジメチル−1−ブテニル、1,2−ジメチ
ル−2−ブテニル、1,1−ジメチル−3−ブテニル、
1,2−ジメチル−1−ブテニル、1,2−ジメチル−
2−ブテニル、1,2−ジメチル−3−ブテニル、1,
3−ジメチル−1−ブテニル、1,3−ジメチル−2−
ブテニル、1,3−ジメチル−3−ブテニル、2,2−
ジメチル−3−ブテニル、2,3−ジメチル−1−ブテ
ニル、2,3−ジメチル−2−ブテニル、2,3−ジメ
チル−3−ブテニル、3,3−ジメチル−1−ブテニ
ル、1−エチル−1−ブテニル、1−エチル−2−ブテ
ニル、1−エチル−3−ブテニル、2−エチル−1−ブ
テニル、2−エチル−2−ブテニル、2−エチル−3−
ブテニル、1,1,2−トリメチル−2−プロペニル、
1−エチル−1−メチル−2−プロペニル、1−エチル
−2−メチル−1−プロペニル、1−エチル−2−メチ
ル−2−プロペニルのようなアルケニル、ことに1−メ
チルエテニルないし対応するアルケニルオキシおよび/
あるいはハロゲンアルキルを持っていてもよい。
【0051】上記6員、7員ヘテロ環は、上述した置換
基のほかにさらにヒドロキシ基を持っていてもよい。
基のほかにさらにヒドロキシ基を持っていてもよい。
【0052】上記フェニル、ピリジルの場合には、置換
基として上述したもののほかにさらにシアノ、ニトロお
よびアミノを持っていてもよく、アミノはさらにアルキ
ルおよび/あるいはアルケニルによりモノもしくはジ置
換されていてもよい。
基として上述したもののほかにさらにシアノ、ニトロお
よびアミノを持っていてもよく、アミノはさらにアルキ
ルおよび/あるいはアルケニルによりモノもしくはジ置
換されていてもよい。
【0053】アミノの置換基としては、さらに以下のも
のが挙げられる。すなわちエチニル、1−プロピニル、
2−プロピニル、1−ブチニル、2−ブチニル、3−ブ
チニル、1−メチル−2−プロピニル、1−ペンチニ
ル、2−ペンチニル、3−ペンチニル、4−ペンチニ
ル、1−メチル−3−ブチニル、2−メチル−3−ブチ
ニル、1−メチル−2−ブチニル、3−メチル−1−ブ
チニル、1,1−ジメチル−2−プロピニル、1−エチ
ル−2−プロピニル、1−ヘキシニル、2−ヘキシニ
ル、3−ヘキシニル、4−ヘキシニル、5−ヘキシニ
ル、1−メチル−3−ペンチニル、2−ペンチル−4−
ペンチニル、3−メチル−1−ペンチニル、3−メチル
−4−ペンチニル、4−メチル−1−ペンチニル、4−
メチル−2−ペンチニル、1,1−ジメチル−2−ブチ
ニル、1,1−ジメチル−3−ブチニル、1,2−ジメ
チル−3−ブチニル、2,2−ジメチル−3−ブチニ
ル、3,3−ジメチル−1−ブチニル、1−エチル−2
−ブチニル、1−エチル−3−ブチニル、2−エチル−
3−ブチニル、1−エチル−1−メチル−2−プロピニ
ルのようなアルキニル、ことに2−プロピニルおよび2
−ブチニルおよび/あるいはアセチル、プロピオニル、
ブチリル、2−メチル−プロピオニル、ペンタノイル、
2−メチルブチリル、3−メチルブチリル、2,2−ジ
メチルプロピオニル、ヘキサノイル、2−メチルペンタ
ノイル、3−メチルペンタノイル、4−メチルペンタノ
イル、2,2−ジメチルブチリル、2,3−ジメチルブ
チリル、3,3−ジメチルブチリル、2−エチルブチリ
ルのようなアシル、ことにアセチルおよびプロピオニル
あるいはベンゾイルである。
のが挙げられる。すなわちエチニル、1−プロピニル、
2−プロピニル、1−ブチニル、2−ブチニル、3−ブ
チニル、1−メチル−2−プロピニル、1−ペンチニ
ル、2−ペンチニル、3−ペンチニル、4−ペンチニ
ル、1−メチル−3−ブチニル、2−メチル−3−ブチ
ニル、1−メチル−2−ブチニル、3−メチル−1−ブ
チニル、1,1−ジメチル−2−プロピニル、1−エチ
ル−2−プロピニル、1−ヘキシニル、2−ヘキシニ
ル、3−ヘキシニル、4−ヘキシニル、5−ヘキシニ
ル、1−メチル−3−ペンチニル、2−ペンチル−4−
ペンチニル、3−メチル−1−ペンチニル、3−メチル
−4−ペンチニル、4−メチル−1−ペンチニル、4−
メチル−2−ペンチニル、1,1−ジメチル−2−ブチ
ニル、1,1−ジメチル−3−ブチニル、1,2−ジメ
チル−3−ブチニル、2,2−ジメチル−3−ブチニ
ル、3,3−ジメチル−1−ブチニル、1−エチル−2
−ブチニル、1−エチル−3−ブチニル、2−エチル−
3−ブチニル、1−エチル−1−メチル−2−プロピニ
ルのようなアルキニル、ことに2−プロピニルおよび2
−ブチニルおよび/あるいはアセチル、プロピオニル、
ブチリル、2−メチル−プロピオニル、ペンタノイル、
2−メチルブチリル、3−メチルブチリル、2,2−ジ
メチルプロピオニル、ヘキサノイル、2−メチルペンタ
ノイル、3−メチルペンタノイル、4−メチルペンタノ
イル、2,2−ジメチルブチリル、2,3−ジメチルブ
チリル、3,3−ジメチルブチリル、2−エチルブチリ
ルのようなアシル、ことにアセチルおよびプロピオニル
あるいはベンゾイルである。
【0054】式(I)の化合物の塩としては、農業的に
使用可能の塩、例えばカリウム塩、ナトリウム塩のよう
なアルカリ金属塩、カルシウム、マグネシウム、バリウ
ム塩のようなアルカリ土類金属塩、マンガン、銅、亜
鉛、鉄塩ならびにアンモニウム、ホスホニウム塩、スル
ホニウム塩、スルホキシニウム塩、例えばアンモニウム
塩、テトラアルキルアンモニウム塩、ベンジルトリアル
キルアンモニウム塩、トリアルキルスルホニウム塩、ト
リアルキルスルホキシニウム塩が挙げられる。
使用可能の塩、例えばカリウム塩、ナトリウム塩のよう
なアルカリ金属塩、カルシウム、マグネシウム、バリウ
ム塩のようなアルカリ土類金属塩、マンガン、銅、亜
鉛、鉄塩ならびにアンモニウム、ホスホニウム塩、スル
ホニウム塩、スルホキシニウム塩、例えばアンモニウム
塩、テトラアルキルアンモニウム塩、ベンジルトリアル
キルアンモニウム塩、トリアルキルスルホニウム塩、ト
リアルキルスルホキシニウム塩が挙げられる。
【0055】生物学的有効性の見地からシクロヘキセノ
ンオキシウムエーテルの具体例を以下の表に列記する。
ンオキシウムエーテルの具体例を以下の表に列記する。
【0056】
【表1】
【0057】
【表2】
【0058】
【表3】
【0059】
【表4】
【0060】
【表5】
【0061】
【表6】
【0062】
【表7】
【0063】
【表8】
【0064】
【表9】
【0065】
【表10】 シクロヘキセノンオキシムエーテルI又はこれを含有す
る除草剤は例えば直接的に噴霧可能な溶液、粉末、懸濁
液、更にまた高濃度の水性又は油性又はその他の懸濁液
又は分散液、エマルジョン、油性分散液、ペースト、ダ
スト剤、散布剤又は顆粒の形で噴霧、ミスト法、ダスト
法、散布法又は注入法によって適用することができる。
適用形式は、完全に使用目的に基づいて決定される;い
ずれの場合にも、本発明の 効物質の可能な限りの微細
分が保証されるべきである。
る除草剤は例えば直接的に噴霧可能な溶液、粉末、懸濁
液、更にまた高濃度の水性又は油性又はその他の懸濁液
又は分散液、エマルジョン、油性分散液、ペースト、ダ
スト剤、散布剤又は顆粒の形で噴霧、ミスト法、ダスト
法、散布法又は注入法によって適用することができる。
適用形式は、完全に使用目的に基づいて決定される;い
ずれの場合にも、本発明の 効物質の可能な限りの微細
分が保証されるべきである。
【0066】化合物Iは通常直接飛散可能の溶液、乳濁
液、ペースト又は油分散液を製造するために適する。不
活性な添加剤としては中位乃至高位の沸点の鉱油留分例
えば燈油又はディーゼル油、更にコールタール油等、並
びに植物性又は動物性産出源の油、脂肪族、環状及び芳
香族炭化水素例えばトルオール、キシロール、パラフィ
ン、テトラヒドロナフタリン、アルキル置換ナフタリン
又はその誘導体、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサノ
ン、クロルベンゾール、イソフォロン等、強極性溶剤例
えばジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフォキシ
ド、N−メチルピロリドン、水が使用される。
液、ペースト又は油分散液を製造するために適する。不
活性な添加剤としては中位乃至高位の沸点の鉱油留分例
えば燈油又はディーゼル油、更にコールタール油等、並
びに植物性又は動物性産出源の油、脂肪族、環状及び芳
香族炭化水素例えばトルオール、キシロール、パラフィ
ン、テトラヒドロナフタリン、アルキル置換ナフタリン
又はその誘導体、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサノ
ン、クロルベンゾール、イソフォロン等、強極性溶剤例
えばジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフォキシ
ド、N−メチルピロリドン、水が使用される。
【0067】水性使用形は乳濁液濃縮物、分散液、ペー
スト、湿潤可能の粉末又は水分散可能な顆粒より水の添
加により製造することができる。乳濁液、ペースト又は
油分散液を製造するためには、物質はそのまま又は油又
は溶剤中に溶解して、湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳化
剤により水中に均質に混合されることができる。しかも
有効物質及、湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳化剤及び場
合により溶剤又は油よりなる濃縮物を製造することもで
き、これは水にて希釈するのに適する。
スト、湿潤可能の粉末又は水分散可能な顆粒より水の添
加により製造することができる。乳濁液、ペースト又は
油分散液を製造するためには、物質はそのまま又は油又
は溶剤中に溶解して、湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳化
剤により水中に均質に混合されることができる。しかも
有効物質及、湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳化剤及び場
合により溶剤又は油よりなる濃縮物を製造することもで
き、これは水にて希釈するのに適する。
【0068】表面活性物質としては次のものが挙げられ
る:リグニンスルフォン酸、ナフタリンスルフォン酸、
フェノールスルフォン酸及びジブチルナフタリンスルフ
ォン酸等の芳香族スルフォン酸並びに脂肪酸の各アルカ
リ塩、アルカリ土類塩、アンモニウム塩、アルキルスル
フォナート、アルキルアリールスルフォナート、アルキ
ルスルファート、ラウリルエーテルスルファート、脂肪
アルコールスルファート、硫酸化ヘキサデカノール、ヘ
プタデカノール及びオクタデカノールの塩、並びに脂肪
アルコールグリコールエーテルの塩、スルフォン化ナフ
タリン及びナフタリン誘導体とフォルムアルデヒドとの
縮合生成物、ナフタリン或はナフタリンスルフォン酸と
フェノール及びフォルムアルデヒドとの縮合生成物、ポ
リオキシエチレン−オクチルフェノールエーテル、エト
キシル化イソオクチルフェノール、オクチルフェノー
ル、ノニルフェノール、アルキルフェノールポリグリコ
ールエーテル、トリブチルフェニルポリグリコールエー
テル、アルキルアリールポリエーテルアルコール、イソ
トリデシルアルコール、脂肪アルコールエチレンオキシ
ド−縮合物、エトキシル化ヒマシ油、ポリオキシエチレ
ンアルキルエーテル、ポリオキシプロピレン、ラウリル
アルコールポリグリコールエーテルアセタート、ソルビ
ットエステル、リグニン−亜硫酸廃液及びメチル繊維
素。
る:リグニンスルフォン酸、ナフタリンスルフォン酸、
フェノールスルフォン酸及びジブチルナフタリンスルフ
ォン酸等の芳香族スルフォン酸並びに脂肪酸の各アルカ
リ塩、アルカリ土類塩、アンモニウム塩、アルキルスル
フォナート、アルキルアリールスルフォナート、アルキ
ルスルファート、ラウリルエーテルスルファート、脂肪
アルコールスルファート、硫酸化ヘキサデカノール、ヘ
プタデカノール及びオクタデカノールの塩、並びに脂肪
アルコールグリコールエーテルの塩、スルフォン化ナフ
タリン及びナフタリン誘導体とフォルムアルデヒドとの
縮合生成物、ナフタリン或はナフタリンスルフォン酸と
フェノール及びフォルムアルデヒドとの縮合生成物、ポ
リオキシエチレン−オクチルフェノールエーテル、エト
キシル化イソオクチルフェノール、オクチルフェノー
ル、ノニルフェノール、アルキルフェノールポリグリコ
ールエーテル、トリブチルフェニルポリグリコールエー
テル、アルキルアリールポリエーテルアルコール、イソ
トリデシルアルコール、脂肪アルコールエチレンオキシ
ド−縮合物、エトキシル化ヒマシ油、ポリオキシエチレ
ンアルキルエーテル、ポリオキシプロピレン、ラウリル
アルコールポリグリコールエーテルアセタート、ソルビ
ットエステル、リグニン−亜硫酸廃液及びメチル繊維
素。
【0069】粉末、散布剤及び振りかけ剤は有効物質と
固状担体物質とを混合又は一緒に磨砕することにより製
造することができる。
固状担体物質とを混合又は一緒に磨砕することにより製
造することができる。
【0070】粒状体例えば被覆−、透浸−及び均質粒状
体は、有効物質を固状担体物質に結合することにより製
造することができる。固状担体物質は例えば鉱物土例え
ば珪酸、珪酸ゲル、珪酸塩、滑石、カオリン、石灰石、
石灰、白亜、膠塊粒土、石灰質黄色粘土、粘土、白雲
石、珪藻土、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、酸化
マグネシウム、磨砕合成樹脂、肥料例えば硫酸アンモニ
ウム、燐酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、尿素及び
植物性生成物例えば穀物粉、樹皮、木材及びクルミ穀
粉、繊維素粉末及び他の固状担体物質である。
体は、有効物質を固状担体物質に結合することにより製
造することができる。固状担体物質は例えば鉱物土例え
ば珪酸、珪酸ゲル、珪酸塩、滑石、カオリン、石灰石、
石灰、白亜、膠塊粒土、石灰質黄色粘土、粘土、白雲
石、珪藻土、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、酸化
マグネシウム、磨砕合成樹脂、肥料例えば硫酸アンモニ
ウム、燐酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、尿素及び
植物性生成物例えば穀物粉、樹皮、木材及びクルミ穀
粉、繊維素粉末及び他の固状担体物質である。
【0071】使用形は有効物質を通常0.1乃至95重
量%殊に0.5乃至90重量%を含有する。有効物質は
純度90〜100%、好ましくは95〜100%(NM
Rスペクトルによる)で使用される。
量%殊に0.5乃至90重量%を含有する。有効物質は
純度90〜100%、好ましくは95〜100%(NM
Rスペクトルによる)で使用される。
【0072】調剤は一般的に0.1から95重量%、こ
とに0.5から90重量%の有効物質を含有する。この
場合、有効物質は90から100%、ことに95から1
00%の純度(NMR/HPLC/GCスペクトルによ
る)のものが使用される。
とに0.5から90重量%の有効物質を含有する。この
場合、有効物質は90から100%、ことに95から1
00%の純度(NMR/HPLC/GCスペクトルによ
る)のものが使用される。
【0073】製剤例は以下の通りである。
【0074】I.90重量部の化合物1.1を、N−メ
チル−α−ピロリドン10重量部と混合する時は、極め
て小さい滴の形にて使用するのに適する溶液が得られ
る。
チル−α−ピロリドン10重量部と混合する時は、極め
て小さい滴の形にて使用するのに適する溶液が得られ
る。
【0075】II 20重量部の化合物1.2を、キシ
ロール80重量部、エチレンオキシド8乃至10モルを
オレイン酸−N−モノエタノールアミド1モルに付加し
た付加生成物10重量部、ドデシルベンゾールスルフォ
ン酸のカルシウム塩5重量部及びエチレンオキシド40
モルをヒマシ油1モルに付加した付加生成物5重量部よ
りなる混合物中に溶解する。この溶液を水100000
重量部に注入しかつ細分布することにより有効成分0.
02重量%を含有する水性分散液が得られる。
ロール80重量部、エチレンオキシド8乃至10モルを
オレイン酸−N−モノエタノールアミド1モルに付加し
た付加生成物10重量部、ドデシルベンゾールスルフォ
ン酸のカルシウム塩5重量部及びエチレンオキシド40
モルをヒマシ油1モルに付加した付加生成物5重量部よ
りなる混合物中に溶解する。この溶液を水100000
重量部に注入しかつ細分布することにより有効成分0.
02重量%を含有する水性分散液が得られる。
【0076】III.20重量部の化合物1.4を、シ
クロヘキサノン40重量部、イソブタノール30重量
部、エチレンオキシド40モルをヒマシ油1モルに付加
した付加生成物20重量部よりなる混合物中に溶解す
る。この溶液を水100000重量部に注入しかつ細分
布することにより有効成分0.02重量%を含有する水
性分散液が得られる。
クロヘキサノン40重量部、イソブタノール30重量
部、エチレンオキシド40モルをヒマシ油1モルに付加
した付加生成物20重量部よりなる混合物中に溶解す
る。この溶液を水100000重量部に注入しかつ細分
布することにより有効成分0.02重量%を含有する水
性分散液が得られる。
【0077】IV.20重量部の化合物1.17をシク
ロヘキサノール25重量部、沸点210乃至280℃の
鉱油留分65重量部及びエチレンオキシド40モルをヒ
マシ油1モルに付加した付加生成物10重量部よりなる
混合物中に溶解する。この溶液を水100000重量部
に注入しかつ細分布することにより有効成分0.02重
量%を含有する水性分散液が得られる。
ロヘキサノール25重量部、沸点210乃至280℃の
鉱油留分65重量部及びエチレンオキシド40モルをヒ
マシ油1モルに付加した付加生成物10重量部よりなる
混合物中に溶解する。この溶液を水100000重量部
に注入しかつ細分布することにより有効成分0.02重
量%を含有する水性分散液が得られる。
【0078】V.80重量部の化合物2.2を、ジイソ
ブチル−ナフタリン−α−スルフォン酸のナトリウム塩
3重量部、亜硫酸−廃液よりのリグニンスルフォン酸の
ナトリウム塩10重量部及び粉末状珪酸ゲル7重量部と
充分に混和し、かつハンマーミル中において磨砕する。
この混合物を水20000重量部に細分布することによ
り有効成分0.1重量%を含有する噴霧液が得られる。
ブチル−ナフタリン−α−スルフォン酸のナトリウム塩
3重量部、亜硫酸−廃液よりのリグニンスルフォン酸の
ナトリウム塩10重量部及び粉末状珪酸ゲル7重量部と
充分に混和し、かつハンマーミル中において磨砕する。
この混合物を水20000重量部に細分布することによ
り有効成分0.1重量%を含有する噴霧液が得られる。
【0079】VI.3重量部の化合物2.4を、細粒状
カオリン97重量部と密に混和する。かくして有効物質
3重量%を含有する噴霧剤が得られる。
カオリン97重量部と密に混和する。かくして有効物質
3重量%を含有する噴霧剤が得られる。
【0080】VII.30重量部の化合物2.7を、粉
末状珪酸ゲル92重量部及びこの珪酸ゲルの表面上に吹
きつけられたパラフィン油8重量部よりなる混合物と密
に混和する。かくして良好な接着性を有する有効物質の
製剤が得られる。
末状珪酸ゲル92重量部及びこの珪酸ゲルの表面上に吹
きつけられたパラフィン油8重量部よりなる混合物と密
に混和する。かくして良好な接着性を有する有効物質の
製剤が得られる。
【0081】VIII.40重量部の化合物3.1を、
フェノールスルフォン酸−尿素−フォルムアルデヒド−
縮合物のナトリウム塩10重量部、珪酸ゲル2重量部及
び水48重量部と密に混和する。安定な水性分散液が得
られる。この分散液は更に水で希釈することができる。
フェノールスルフォン酸−尿素−フォルムアルデヒド−
縮合物のナトリウム塩10重量部、珪酸ゲル2重量部及
び水48重量部と密に混和する。安定な水性分散液が得
られる。この分散液は更に水で希釈することができる。
【0082】IX.20重量部の化合物4.1を、ドデ
シルベンゾールスルフォン酸のカルシウム塩2重量部、
脂肪アルコールポリグリコールエーテル8重量部、フェ
ノールスルフォン酸−尿素−フォルムアルデヒド−縮合
物のナトリウム塩20重量部及びパラフィン系鉱油68
重量部と密に混和する。安定な油状分散液が得られる。
シルベンゾールスルフォン酸のカルシウム塩2重量部、
脂肪アルコールポリグリコールエーテル8重量部、フェ
ノールスルフォン酸−尿素−フォルムアルデヒド−縮合
物のナトリウム塩20重量部及びパラフィン系鉱油68
重量部と密に混和する。安定な油状分散液が得られる。
【0083】X.10重量部の化合物3.17を、ジイ
ソブチル−ナフタリン−α−スルフォン酸のナトリウム
塩4重量部、亜硫酸−廃液よりのリグニンスルフォン酸
のナトリウム塩20重量部、珪酸ゲル38重量部及びカ
オリン38重量部と充分に混和し、かつハンマーミル中
において磨砕する。この混合物を水10000重量部に
細分布することにより有効成分0.1重量%を含有する
噴霧液が得られる。
ソブチル−ナフタリン−α−スルフォン酸のナトリウム
塩4重量部、亜硫酸−廃液よりのリグニンスルフォン酸
のナトリウム塩20重量部、珪酸ゲル38重量部及びカ
オリン38重量部と充分に混和し、かつハンマーミル中
において磨砕する。この混合物を水10000重量部に
細分布することにより有効成分0.1重量%を含有する
噴霧液が得られる。
【0084】除草剤ないし有効物質の施用は、事前処理
法によっても事後処理法によっても行なわれ得る。この
有効物質の特定の栽培植物による容認性が低度である場
合には除草剤は噴霧器を使用して、敏感な栽培植物葉面
にかからないように、その下方に生育する好ましからざ
る植物の葉面あるいは露出地表面に施こされる。
法によっても事後処理法によっても行なわれ得る。この
有効物質の特定の栽培植物による容認性が低度である場
合には除草剤は噴霧器を使用して、敏感な栽培植物葉面
にかからないように、その下方に生育する好ましからざ
る植物の葉面あるいは露出地表面に施こされる。
【0085】有効物質量は、使用目的、季節、目的植物
の種類、生長段階に応じて、0.001から3.0kg
/ha、ことに0.01から2.0kg/haの範囲に
おいて使用される。
の種類、生長段階に応じて、0.001から3.0kg
/ha、ことに0.01から2.0kg/haの範囲に
おいて使用される。
【0086】施用方法の多様性にかんがみて、本発明化
合物あるいはこれを含有する剤は、多種多様の栽培植物
のための有害植物ないし雑草を防除するために使用され
得る。この栽培植物の例を以下に掲記する。 タマネギ(Allium cepa) パイナップル(Ananas comosus) ナンキンマメ(Arachis hypogaea) アスパラガス(Asparagus officina
lis) フダンソウ(Beta vulgaris spp.a
ltissima) サトウジシヤ(Beta vulgaris spp.
rapa) アカテンサイ(Beta vulgaris spp.
esculenta) ブラシーカ ナパス(変種ナパス)(Brassica
napus var.napus) ブラシーカ ナパス(変種ナポブラシーカ)(Bras
sica napusvar.napobrassic
a) ブラシーカ ラパ(変種シルベストリス)(Brass
ica rapavar.silvestris) トウツバキ(Camellis sinensis) ベニバナ(Carthamus tinctoriu
s) キヤリーヤイリノイネンシス(Carya illin
oinensis) マルブシユカン(Citrus limon) ナツミカン(Citrus sinensis) コーヒーノキ〔Coffea arabica(Cof
fea canephora,Coffea libe
rica)〕 キユウリ(Cucumis sativus) ギヨウギシバ(Cynodon dactylon) ニンジン(Daucus carota) アブラヤミ(Elaeis guineenis) イチゴ(Fragaria vesca) 大豆(Glycine max) 木棉〔Gossypium hirsutum(Gos
sypiumarboreum Gossypium herbaceum Gossy
piumvitifolium)〕 大麦(Hordeum vulgare) カラハナソウ(Humulus lupulus) アメリカイモ(Ipomoea batatas) オニグルミ(Juglans regia) レンズマメ(Lens culinaris) アマ(Linum usitatissimum) トマト(Lycopersicon lycopers
icum) リンゴ属(Malus spp.) キヤツサバ(Manihot esculenta) ムラサキウマゴヤシ(Medicago sativ
a) バシヨウ属(Musa spp.) タバコ〔Nicotiana tabacum(N.r
ustica)〕 オリーブ(Olea europaea) イネ(Oryza sativa) アズキ(Phaseolus lunatus) ゴガツササゲ(Phaseolus vulgari
s) トウヒ(Picea abies) マツ属(Pinus spp.) シロエンドウ(Pisum sativum) サクラ(Prunus avium) モモ(Prunus Persica) ナシ(Pyrus communis) サグリ(Ribes sylvestre) トウゴマ(Ricinus communis) サトウキビ(Saccharum officinar
um) ライムギ(Secale cereale) ジヤガイモ(Solanum tuberosum) モロコシ〔Sorghum bicolor(s.vu
lgare)〕 カカオノキ(Theobroma cacao) ムラサキツユクサ(Trifolium praten
se) 小麦(Triticum aestivum) トリテイカム、ドラム(Triticum duru
m) ソラマメ(Vicia faba) ブドウ(Vitis vinifera) トウモロコシ(Zea mays) 有効範囲を拡大し相乗効果を意図して、本発明化合物
(I)は、種々の他の除草剤あるいは植物成長制御剤と
混合され、同時に使用され得る。このような混合可能の
化合物として、ジアジン、4H−3,1−ベンズオキサ
ジン誘導体、ベンゾチアジアジノン、2,6−ジニトロ
アニリン、N−フェニルカルバマート、チオールカルバ
マート、ハロゲンカルボン酸、トリアジン、アミド、尿
素、ジフェニルエーテル、トリアジノン、ウラシル、ベ
ンゾフラン誘導体、シクロヘキサン−1,3−ジオン誘
導体、キノリンカルボン酸誘導体、アリールオキシ−、
ヘテロアリールオキシフェノキシプロピオン酸ならびに
その塩、エステル、アミドなどが挙げられる。
合物あるいはこれを含有する剤は、多種多様の栽培植物
のための有害植物ないし雑草を防除するために使用され
得る。この栽培植物の例を以下に掲記する。 タマネギ(Allium cepa) パイナップル(Ananas comosus) ナンキンマメ(Arachis hypogaea) アスパラガス(Asparagus officina
lis) フダンソウ(Beta vulgaris spp.a
ltissima) サトウジシヤ(Beta vulgaris spp.
rapa) アカテンサイ(Beta vulgaris spp.
esculenta) ブラシーカ ナパス(変種ナパス)(Brassica
napus var.napus) ブラシーカ ナパス(変種ナポブラシーカ)(Bras
sica napusvar.napobrassic
a) ブラシーカ ラパ(変種シルベストリス)(Brass
ica rapavar.silvestris) トウツバキ(Camellis sinensis) ベニバナ(Carthamus tinctoriu
s) キヤリーヤイリノイネンシス(Carya illin
oinensis) マルブシユカン(Citrus limon) ナツミカン(Citrus sinensis) コーヒーノキ〔Coffea arabica(Cof
fea canephora,Coffea libe
rica)〕 キユウリ(Cucumis sativus) ギヨウギシバ(Cynodon dactylon) ニンジン(Daucus carota) アブラヤミ(Elaeis guineenis) イチゴ(Fragaria vesca) 大豆(Glycine max) 木棉〔Gossypium hirsutum(Gos
sypiumarboreum Gossypium herbaceum Gossy
piumvitifolium)〕 大麦(Hordeum vulgare) カラハナソウ(Humulus lupulus) アメリカイモ(Ipomoea batatas) オニグルミ(Juglans regia) レンズマメ(Lens culinaris) アマ(Linum usitatissimum) トマト(Lycopersicon lycopers
icum) リンゴ属(Malus spp.) キヤツサバ(Manihot esculenta) ムラサキウマゴヤシ(Medicago sativ
a) バシヨウ属(Musa spp.) タバコ〔Nicotiana tabacum(N.r
ustica)〕 オリーブ(Olea europaea) イネ(Oryza sativa) アズキ(Phaseolus lunatus) ゴガツササゲ(Phaseolus vulgari
s) トウヒ(Picea abies) マツ属(Pinus spp.) シロエンドウ(Pisum sativum) サクラ(Prunus avium) モモ(Prunus Persica) ナシ(Pyrus communis) サグリ(Ribes sylvestre) トウゴマ(Ricinus communis) サトウキビ(Saccharum officinar
um) ライムギ(Secale cereale) ジヤガイモ(Solanum tuberosum) モロコシ〔Sorghum bicolor(s.vu
lgare)〕 カカオノキ(Theobroma cacao) ムラサキツユクサ(Trifolium praten
se) 小麦(Triticum aestivum) トリテイカム、ドラム(Triticum duru
m) ソラマメ(Vicia faba) ブドウ(Vitis vinifera) トウモロコシ(Zea mays) 有効範囲を拡大し相乗効果を意図して、本発明化合物
(I)は、種々の他の除草剤あるいは植物成長制御剤と
混合され、同時に使用され得る。このような混合可能の
化合物として、ジアジン、4H−3,1−ベンズオキサ
ジン誘導体、ベンゾチアジアジノン、2,6−ジニトロ
アニリン、N−フェニルカルバマート、チオールカルバ
マート、ハロゲンカルボン酸、トリアジン、アミド、尿
素、ジフェニルエーテル、トリアジノン、ウラシル、ベ
ンゾフラン誘導体、シクロヘキサン−1,3−ジオン誘
導体、キノリンカルボン酸誘導体、アリールオキシ−、
ヘテロアリールオキシフェノキシプロピオン酸ならびに
その塩、エステル、アミドなどが挙げられる。
【0087】さらに化合物(I)は単独でも、あるいは
他の除草剤、他の植物保護剤、例えば広義の殺虫剤、植
物病原菌殺菌剤ないし殺バクテリア剤などとも混合して
使用され得る。なお栄養障害、希元素欠乏症治療のため
の無機塩溶液とも混合可能である。その他各種の油、濃
縮油も添加することができる。
他の除草剤、他の植物保護剤、例えば広義の殺虫剤、植
物病原菌殺菌剤ないし殺バクテリア剤などとも混合して
使用され得る。なお栄養障害、希元素欠乏症治療のため
の無機塩溶液とも混合可能である。その他各種の油、濃
縮油も添加することができる。
【0088】以上の合成実施例Iに記載されている処理
法は、さらに他の化合物(I)を製造するため、出発材
料を対応する化合物と変えるだけで準用されることがで
きる。このようにして製造された本発明化合物をそれぞ
れの物性と共に以下の表に示す。物性を欠く掲記化合物
は、これに類似するものとほぼ同様の性質を有するべき
であり、同様の構造から同様の作用を示すべきものであ
る。
法は、さらに他の化合物(I)を製造するため、出発材
料を対応する化合物と変えるだけで準用されることがで
きる。このようにして製造された本発明化合物をそれぞ
れの物性と共に以下の表に示す。物性を欠く掲記化合物
は、これに類似するものとほぼ同様の性質を有するべき
であり、同様の構造から同様の作用を示すべきものであ
る。
【0089】合成実施例 I.シクロヘキセノンオキシムエーテル(I)の製造 350ミリリットルの無水N−メチルピロリドンに相次
いで18.5g(0.11モル)のN−ヒドロキシフタ
ルイミドおよび31.4g(0.11モル)の1−ブロ
ム−[3−(4−ブロムフェニル)]−プロプ−2−エ
ンを添加し、次いで室温で12.1g(0.12モル)
のトリエチルアミンを滴下添加した。20℃における4
日間の撹拌後、反応混合物を1.5リットルの氷水中に
投入し、濾別し、水およびイソプロパノールで後洗浄処
理した。融点161−162℃のN−[3−(4−ブロ
ムフェニル)−プロプ−2−エニルオキシ]−フタルイ
ミド34.3g(理論量の86.8%)が得られた。
いで18.5g(0.11モル)のN−ヒドロキシフタ
ルイミドおよび31.4g(0.11モル)の1−ブロ
ム−[3−(4−ブロムフェニル)]−プロプ−2−エ
ンを添加し、次いで室温で12.1g(0.12モル)
のトリエチルアミンを滴下添加した。20℃における4
日間の撹拌後、反応混合物を1.5リットルの氷水中に
投入し、濾別し、水およびイソプロパノールで後洗浄処
理した。融点161−162℃のN−[3−(4−ブロ
ムフェニル)−プロプ−2−エニルオキシ]−フタルイ
ミド34.3g(理論量の86.8%)が得られた。
【0090】このN−[3−(4−ブロムフェニル)−
プロプ−2−エニルオキシ]−フタルイミド33.4g
(0.093モル)を50ミリリットルのエタノールア
ミンに少しずつ添加し、これにより温度が30℃まで上
昇した。60℃で2時間撹拌した後、冷却し、これに2
00ミリリットルのジクロルメタンを添加した。これを
氷水中に投入し、有機相を乾燥、濃縮し、石油エーテル
から晶出させた。融点35−38℃の3−(4−ブロム
フェニル)−プロプ−2−エニルオキシアミン20.0
g(理論量の95.3%)が得られた。
プロプ−2−エニルオキシ]−フタルイミド33.4g
(0.093モル)を50ミリリットルのエタノールア
ミンに少しずつ添加し、これにより温度が30℃まで上
昇した。60℃で2時間撹拌した後、冷却し、これに2
00ミリリットルのジクロルメタンを添加した。これを
氷水中に投入し、有機相を乾燥、濃縮し、石油エーテル
から晶出させた。融点35−38℃の3−(4−ブロム
フェニル)−プロプ−2−エニルオキシアミン20.0
g(理論量の95.3%)が得られた。
【0091】3.0g(0.011モル)の2−プロピ
オニル−5−(3−テトラヒドロチオピラニル)−シク
ロヘキサン−1,3−ジオンと3.0g(0.013モ
ル)の上記3−(4−ブロムフェニル)−プロプ−2−
エニルオキシアミンを、100ミリリットルのメタノー
ル中、20℃で16時間撹拌した。析出反応生成物を0
℃で吸引濾別し、氷冷メタノールおよび石油エーテルで
後洗浄した。乾燥して、融点97−99℃の2−[1−
(3−ブロムフェニル)−プロプ−2−エニルオキシイ
ミノ)−プロピル]−5,3−テトラヒドロチオピラニ
ル)−シクロヘキス−2−エン−1−オン3.7g(理
論量の68.4%)を得た。
オニル−5−(3−テトラヒドロチオピラニル)−シク
ロヘキサン−1,3−ジオンと3.0g(0.013モ
ル)の上記3−(4−ブロムフェニル)−プロプ−2−
エニルオキシアミンを、100ミリリットルのメタノー
ル中、20℃で16時間撹拌した。析出反応生成物を0
℃で吸引濾別し、氷冷メタノールおよび石油エーテルで
後洗浄した。乾燥して、融点97−99℃の2−[1−
(3−ブロムフェニル)−プロプ−2−エニルオキシイ
ミノ)−プロピル]−5,3−テトラヒドロチオピラニ
ル)−シクロヘキス−2−エン−1−オン3.7g(理
論量の68.4%)を得た。
【0092】
【表11】
【0093】
【表12】
【0094】
【表13】
【0095】
【表14】
【0096】
【表15】
【0097】
【表16】
【0098】
【表17】
【0099】
【表18】
【0100】
【表19】
【0101】
【表20】
【0102】
【表21】
【0103】
【表22】
【0104】
【表23】
【0105】
【表24】
【0106】
【表25】
【0107】
【表26】 II.ヒドロキシルアミン(III)の製造 E−5−アミノオキシ−1−フェニル−1−ペンテン
(化合物番号5.14)
(化合物番号5.14)
【0108】
【化14】 (E)−N−(5−フェニル−4−ペンテニルオキシ)
−フタルイミド 75.4g(0.335モル)の5−ブロム−1−フェ
ニル−1−ペンタン(E−5−フェニル−4−ペンタン
酸エチルエステルをリチウムアルミニウムヒドリドで還
元し、アルコールを三臭化燐で処理して製造)を、34
0ミリリットルのN−メチルピロリジン−2−オン、5
4.7g(0.335モル)のN−ヒドロキシフタルイ
ミドおよび5gのカリウムヨジドから成る混合物中に4
0℃において30分間にわたり滴下添加した。60℃に
おいてさらに4時間撹拌し、冷却してから1.2リット
ルの氷水中に投入し、固体分を吸引濾別し、水洗し、イ
ソプロパノールから晶出させた。収量91.4g(89
%)、融点93−94℃
−フタルイミド 75.4g(0.335モル)の5−ブロム−1−フェ
ニル−1−ペンタン(E−5−フェニル−4−ペンタン
酸エチルエステルをリチウムアルミニウムヒドリドで還
元し、アルコールを三臭化燐で処理して製造)を、34
0ミリリットルのN−メチルピロリジン−2−オン、5
4.7g(0.335モル)のN−ヒドロキシフタルイ
ミドおよび5gのカリウムヨジドから成る混合物中に4
0℃において30分間にわたり滴下添加した。60℃に
おいてさらに4時間撹拌し、冷却してから1.2リット
ルの氷水中に投入し、固体分を吸引濾別し、水洗し、イ
ソプロパノールから晶出させた。収量91.4g(89
%)、融点93−94℃
【0109】
【外1】 δ(ppm)=1.75−1.95(m、2H)、2.
3−2.5(m、2H)、4.21(t、2H)、6.
25−6.55(m、2H)、7.1−7.5(m、5
H)、7.87(s、4H)。
3−2.5(m、2H)、4.21(t、2H)、6.
25−6.55(m、2H)、7.1−7.5(m、5
H)、7.87(s、4H)。
【0110】E−5−アミノオキシ−1−フェニル−1
−ペンテン 前項で得たフタルイミドエーテル87.8g(0.28
6モル)を130ミリリットルのエタノールアミン中に
投入し、60℃で3時間撹拌後、室温に冷却し、200
ミリリットルの氷水中に投入した。200ミリリットル
の飽和食塩水を添加し、ジクロルメタンで抽出(それぞ
れ150ミリリットルで3回)して表記化合物を得た。
精製有機相を飽和食塩水で洗浄(それぞれ100ミリリ
ットルで3回)し、乾燥し、減圧下で濃縮した。収量4
0g(79%)。
−ペンテン 前項で得たフタルイミドエーテル87.8g(0.28
6モル)を130ミリリットルのエタノールアミン中に
投入し、60℃で3時間撹拌後、室温に冷却し、200
ミリリットルの氷水中に投入した。200ミリリットル
の飽和食塩水を添加し、ジクロルメタンで抽出(それぞ
れ150ミリリットルで3回)して表記化合物を得た。
精製有機相を飽和食塩水で洗浄(それぞれ100ミリリ
ットルで3回)し、乾燥し、減圧下で濃縮した。収量4
0g(79%)。
【0111】
【外2】 δ(ppm)=1.7−1.86(m、2H)、2.2
−2.37(m、2H)、3.72(t、2H)、5.
35(広幅s、2H)、6.1−6.3(m、1H)、
6.4(d、1H)、7.1−7.4(m、5H)。
−2.37(m、2H)、3.72(t、2H)、5.
35(広幅s、2H)、6.1−6.3(m、1H)、
6.4(d、1H)、7.1−7.4(m、5H)。
【0112】対応する方法で下表5に掲記の化合物を得
た。
た。
【0113】
【表27】 使用実施例 式(I)のシクロヘキセノンオキシムエーテルの除草効
果を温室実験でテストした。
果を温室実験でテストした。
【0114】栽培容器として腐葉土3.0%を含有する
ローム砂土を充填したプラスチック製植木鉢を使用し
た。
ローム砂土を充填したプラスチック製植木鉢を使用し
た。
【0115】事前処理の場合、水に懸濁ないし乳化させ
た有効物質を噴霧器により播種直後の植木鉢に施与し
た。発芽および成育を促進するために軽く灌水し、次い
で透視し得るプラスチックシートにより植物の成長まで
植木鉢を被覆した。この被覆は有効物質が効を奏さない
限り被験植物が一斉に発芽するのに有効である。
た有効物質を噴霧器により播種直後の植木鉢に施与し
た。発芽および成育を促進するために軽く灌水し、次い
で透視し得るプラスチックシートにより植物の成長まで
植木鉢を被覆した。この被覆は有効物質が効を奏さない
限り被験植物が一斉に発芽するのに有効である。
【0116】事後処理の場合には、被験植物の草丈が3
から15cmとなったところで始めて水に懸濁させある
いは乳濁させた有効物質で処理する。事後処理のための
有効物質使用量は0.25kg/haとした。
から15cmとなったところで始めて水に懸濁させある
いは乳濁させた有効物質で処理する。事後処理のための
有効物質使用量は0.25kg/haとした。
【0117】被験植物はその種類に応じて15−25℃
と20−35℃の温室部分に保持した。実験期間は2か
ら4週間とし、この間被験植物を管理し、それぞれの処
理に対する反応を観察した。
と20−35℃の温室部分に保持した。実験期間は2か
ら4週間とし、この間被験植物を管理し、それぞれの処
理に対する反応を観察した。
【0118】これを0から100の段階法で評価した
が、100は植物が発芽しないか、少くとも地表上部分
が完全に枯死したことを意味し、0は植物に全く障害が
ないか常態的生育があったことを意味する。温室実験に
使用した植物は以下の通りである。
が、100は植物が発芽しないか、少くとも地表上部分
が完全に枯死したことを意味し、0は植物に全く障害が
ないか常態的生育があったことを意味する。温室実験に
使用した植物は以下の通りである。
【0119】温室試験で使用した植物種は次のものであ
る。 イネ (Oryza sativa) イヌビエ (Echinochloa cru
s−galli) ヒメシバ (Digitaria sangu
inalis) 事後処理で0.25kg/haの有効物質を使用(化合
物番号1.1)して禾本科の雑草は極めて良好に防除さ
れ、しかも被験植物の稻による容認性を示した。
る。 イネ (Oryza sativa) イヌビエ (Echinochloa cru
s−galli) ヒメシバ (Digitaria sangu
inalis) 事後処理で0.25kg/haの有効物質を使用(化合
物番号1.1)して禾本科の雑草は極めて良好に防除さ
れ、しかも被験植物の稻による容認性を示した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A01N 43/18 A 8930−4H 43/30 8930−4H 43/32 8930−4H 43/36 A 8930−4H 43/80 101 8930−4H 102 8930−4H C07C 251/36 9160−4H 251/50 9160−4H 251/52 9160−4H 251/54 9160−4H 251/60 9160−4H 255/62 6917−4H 323/47 7419−4H C07D 261/02 9283−4C 261/04 9283−4C 261/08 9283−4C 275/02 7019−4C 307/14 7729−4C 309/06 6701−4C 317/26 7729−4C 319/06 7729−4C 333/16 7729−4C 333/58 7729−4C 335/02 7729−4C 339/06 7729−4C (72)発明者 ウルフ、ミスリツツ ドイツ連邦共和国、6730、ノイシユタツ ト、アム、ヘルツエル、40 (72)発明者 アルブレヒト、ハロイス ドイツ連邦共和国、6700、ルートヴイヒス ハーフエン、タイヒガセ、13 (72)発明者 ノルベルト、ゲツ ドイツ連邦共和国、6520、ヴオルムス、 1、シエフアーシユトラーセ、25 (72)発明者 ブルーノ、ヴユルツアー ドイツ連邦共和国、6701、オターシユタツ ト、リユデイガーシユトラーセ、13 (72)発明者 ヘルムート、ヴアルター ドイツ連邦共和国、6719、オブリツヒハイ ム、グリユーンシユタツター、シユトラー セ、82 (72)発明者 カール−オツトー、ヴエストフアレン ドイツ連邦共和国、6720、シユパイヤー、 マウスベルクヴエーク、53 (72)発明者 マテイアス、ゲルバー ドイツ連邦共和国、6704、ムターシユタツ ト、リターシユトラーセ、3
Claims (1)
- 【請求項1】一般式(I) 【化1】 で表わされ、かつR1がC1−C6アルキル基を意味し、 Aが3個までのC1−C3アルキル基および/あるいはハ
ロゲン原子あるいはメチレン基を持っていてもよい
C3、C5、C6アルキル鎖あるいはC3、C5、C6アルケ
ニル鎖を意味し、 Xが水素、ニトロ、シアノ、ハロゲン、C1−C4アルキ
ル、C1−C4アルコキシ、フェノキシ、C1−C4アルキ
ルチオ、C1−C4ハロゲンアルキル、C1−C4ハロゲン
アルコキシ、カルボキシル、C1−C4アルコキシカルボ
ニル、ベンジルオキシカルボニルおよび/あるいはフェ
ニル(ただし芳香族置換基はそれ自体1から3個の以下
の基、すなわちニトロ、シアノ、ハロゲン、C1−C4ア
ルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4アルキルチオ、
C1−C4ハロゲンアルキル、C1−C4ハロゲンアルコキ
シ、カルボキシル、C1−C4アルコキシカルボニルおよ
びベンジルオキシカルボニルのいずれかを持っていても
よい)、C1−C4アルコキシ−C1−C6アルキルを意味
し、 nが1から3の数値、Xがハロゲンである場合には1か
ら5の数値を意味し、 R2がC1−C4アルコキシ−C1−C6アルキル基あるい
はC1−C4アルキルチオ−C1−C6アルキル基を、 3個までの以下の基、すなわちC1−C4アルキル、C1
−C4アルコキシ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハ
ロゲンアルキル、ヒドロキシおよびハロゲンのいずれか
を持っていてもよいC3−C7シクロアルキル基あるいは
C5−C7シクロアルケニル基を、 1個あるいは2個のヘテロ原子、酸素および硫黄のいず
れかを有し、1個から3個の以下の基、すなわちC1−
C4アルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4アルキル
チオおよびC1−C4ハロゲンアルキルのいずれかを持っ
ていてもよい、5員の飽和ヘテロ環を、 1個あるいは2個のヘテロ原子、酸素および硫黄のいず
れかを有し、1個から3個の以下の基、すなわちヒドロ
キシ、ハロゲン、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキ
シ、C1−C4アルキルチオおよびC1−C4ハロゲンアル
キルのいずれかを持っていてもよい、飽和あるいは全体
的もしくは部分的に不飽和の6員もしくは7員のヘテロ
環を、 1個あるいは2個の窒素原子および酸素もしくは硫黄原
子を有し、1個から3個の以下の基、すなわちハロゲ
ン、シアノ、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、
C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハロゲンアルキル、C
2−C6アルケニル、C2−C6アルケニルオキシ、C2−
C6ハロゲンアルケニルおよびC1−C4アルコキシ−C1
−C4アルキルのいずれかを持っていてもよい5員のヘ
テロ芳香族環を、 1個から3個までの以下の基、すなわちハロゲン、ニト
ロ、シアノ、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、
C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハロゲンアルキル、C
3−C6アルケニルオキシ、C3−C6アルキニルオキシお
よび−NR3R4のいずれかを持っていてもよいフェニル
基あるいはピリジル基を意味し、 R3が水素、C1−C4アルキル基、C3−C6アルケニル
基あるいはC3−C6アルキニル基を、 R4が水素、C1−C4アルキル基、C3−C6アルケニル
基、C3−C6アルキニル基、C1−C6アシル基あるいは
ベンゾイル基(この芳香族環は1個から3個の以下の
基、すなわちニトロ、シアノ、ハロゲン、C1−C4アル
キル、C1−C4アルコキシ、C1−C4アルキルチオおよ
びC1−C4ハロゲンアルキルのいずれかを持っていても
よい)を意味することを特徴とするシクロヘキセノンオ
キシムエーテル、ならびにその農業的に使用し得る塩
と、C1−C10カルボン酸および無機酸のエステル。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4014983A DE4014983A1 (de) | 1990-05-09 | 1990-05-09 | Cyclohexenonoximether, verfahren und zwischenprodukte zu ihrer herstellung und ihre verwendung als herbizide |
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---|---|
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TW221367B (ja) * | 1991-11-15 | 1994-03-01 | Dunlena Pty Ltd | |
DE4201720A1 (de) * | 1992-01-23 | 1993-07-29 | Basf Ag | Thiochromenonderivate als antidots und sie enthaltende herbizide mittel |
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WO1994026696A1 (en) * | 1993-05-11 | 1994-11-24 | Dunlena Pty. Limited | Herbicidal cyclohexanes |
DE19510183A1 (de) * | 1994-03-31 | 1995-10-05 | Basf Ag | 5-(Sulf-/Carbamoylmethyl)-cyclohexenonoximether |
DK0861026T3 (da) * | 1995-09-20 | 2003-04-22 | Basf Ag | Synergistiske herbicide blandinger indeholdende cyclohexenonoximethere |
DE19545212A1 (de) * | 1995-12-05 | 1997-06-12 | Basf Ag | Cyclohexenonoximether-Metallsalze |
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