JPH0494792A - プリント印刷基板製造廃液の処理方法 - Google Patents

プリント印刷基板製造廃液の処理方法

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JPH0494792A
JPH0494792A JP2210414A JP21041490A JPH0494792A JP H0494792 A JPH0494792 A JP H0494792A JP 2210414 A JP2210414 A JP 2210414A JP 21041490 A JP21041490 A JP 21041490A JP H0494792 A JPH0494792 A JP H0494792A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、プリント印刷基板製造廃液の処理方法に係り
、特に回路パターン形成用の導体金属薄膜を選択的にエ
ツチングする際に用いたエツチングレジスト膜の現像処
理廃液及びこのレジスト成分を回路パターンから剥離す
る際に用いた剥離処理廃液中に含まれるレジス1へ成分
、乳酸系有機物質に起因するC OI)の除去に好適な
廃液処理方法に関する。
[従来の技術] プリント印刷基板製造工程などから排出される回路パタ
ーン形成相レジスI・の現像・剥離廃液は、乳化・可溶
化したレジスト成分及び乳酸系有機物質を含有するため
COD (Chemjcal○xygenD eman
dの略)が高く、また、導体材料としての銅等の重金属
類をも含有しているので、河川などに排出する前に重金
属類の除去と共にCOD除去等の廃液処理が行われてい
る。
高濃度のCOD値を示す現像・剥離廃液にはアルカリ現
像型ドライフィルムの現像・剥離廃液がある。この廃液
はアルカリ液で、従来の処理方法は、例えば特開平1−
27689号公報に記載の様に酸性凝集による沈降分離
方法を採ってきた。
つまり、アルカリ性の廃液に醜を加えて酸性にしてレジ
ス1へ等を析出させる凝集処理方法である。
[発明が解決しようとする課題] しかし、電着型UVレジストのように現像・剥離廃液の
pHが2以下の酸性廃液の場合には、従来のpI−11
0以」二であるアルカリ現像・剥離廃液の酸性凝集処理
方法をそのまま採用することはできない。そのため、こ
の電着型UVレジスト廃液のような酸性廃液処理方法で
はp I−Tを一旦3.5に一4二げ、凝集させ濾過し
て固液分離してから、二次処理として活性炭処理する方
法が採用されている。
しかしこの処理方法ではpHが3.5を超えると、処理
液の粘着性が非常に強くなり、液全体が固まりを形成し
固化するため、作業性が悪化し沈降分離方法による処理
を妨げている。
したがって、本発明の目的は、」1記従来の問題点を解
消することにあり、電着型UVレジスト現像・剥離廃液
のような酸性廃液であっても、廃液のレジスト成分及び
乳酸系有機物質に起因する高濃度のCOD及び重金属類
の除去率が高く、かつ濾過・脱水処理等が容易な沈降分
は方法による改良されたレジスト現像・剥離廃液の処理
方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 本発明者等は、電着型UVレジス1〜現像・剥離廃液の
如き酸性廃液の凝集沈降処理について種々実験検討した
ところ以下に述へるような知見を得た。すなわち、CO
D、重金属類の除去率を高め、凝集物の粘着あるいは固
化を妨止する方法の研究過程で、廃液に予めカルシウム
及び重金属類を含有するめっき汚泥を添加して廃液中に
乳化・可溶化しているレジスト成分及び乳酸系有機物質
を包括あるいは吸着させた後に、苛性ソーダを添加して
一度アルカリ性とし、硫酸を添加して再び酸性に戻して
から、石灰乳を添加して中和する工程を経ることにより
、凝集物は粘着あるいは大きな固まりを形成することな
く、分散性及び沈降性が極めて良好になるという知見を
得た。
然かして本発明の廃液処理方法は、上記の知見にもとす
き為されたものであり、電着型UVレジス1〜現像・剥
離廃液の如き酸性廃液中に含有するレジスト成分・乳酸
系有機物質に起因するCOD及び銅等の重金属類の除去
率が高く、かつ、濾過・脱水性の良い処理方法として次
の3つの工程から成っている。
(1)、プリンl−印刷基板製造工程から排出される電
着型UVレジスト現像・剥離廃液の如き酸性廃液の凝集
沈降処理において、廃液に汚泥を添加してpHを2乃至
3に調整し、廃液中の乳化・可溶化したレジスト成分を
汚泥に包括あるいは吸着させる第1工程。
(2)第1工程の処理液にアルカリ金属を含むアルカリ
性溶液を添加してp I(を7乃至9に調整した後、鉱
酸を添加して再びρ■]を2乃至3に調整する第2工程
(3)第2工程の処理液に水酸化カルシウムもしくは炭
酸カルシウムの如きアルカリ土類金属の水酸化物もしく
は炭酸塩を添加して、)H9乃至12に調整し、処理液
中のレジスト成分及び乳酸系有機物質を、第1工程で添
加した汚泥に包括あるいは吸着させた後、凝集剤を添加
して凝集沈降分離する第3工程。
」1記の3つの工程のうち、第2工程終了後の処理液の
pI−Iが2乃至3てあり、第1工程の終了後の状態と
同じであることから、第2工程は、見掛け」−不要とみ
られるが、この第2工程なしでは次の第3工程で良好な
処理水及び凝集物を得ることができないので、不可欠の
ものである。これらについては次ぎの作用の項で作用の
説明と共に詳細に説明する。
[作用] 次に、本発明の廃液処理方法を作用と共に具体的に詳細
に説明する。
本発明の処理対象となる廃液は、プリント印刷基板製造
工場などから排出される電着型UVレジスト現像廃液、
同剥離廃液及びこの両廃液の混合廃液の如き酸性廃液で
ある。混合廃液に才Sいては、その比率に特に限度はな
く、各々O及至100%に亘る。以下の説明では酸性廃
液の代表例として電着型UVレジス1への現像・剥離液
をもって説明する。
先ず、電着型UVレジスト現像廃液は、乳酸系有機物質
を1規定含有した水溶液により、レジス1〜の未架橋部
分を溶解し、現像せしめた成分が乳化・可溶化した pH1,,5及至2、 C0D30,000mg/Q及至 60.000mg/D、、 銅  30mg/氾以下 の廃液である。
−・方、同剥離廃液は乳酸系有機物質を3規定含有した
水溶液により、」1記レジストの架橋部分を膨潤し、剥
離せしめ、濾過除去した後のレジスト成分が乳化・可溶
化した pH1,2乃至1.8、 C0D50,000mg/11乃至 150.000mg/D、、 銅  30m g/ρ以下 の廃液である。さらに、混合廃液は、上記の両廃液の特
性の範囲内にある。
以下、特に断らない限りこれら三種類の廃液を電着型U
Vレジスト現像・剥離廃液あるいは単に廃液と呼称する
次に、本発明の第1工程で用いる汚泥は、無機性廃水の
凝集沈降分離により生ずるスラリ状の汚泥であり、通常
は重金属類として飼、鉄、他にカルシウムを含有するめ
っき汚泥である。また、硅そう土、酸性白土、ベントナ
イ1〜、バーライ1−1石灰苦土等のケイ素、マグネシ
ウム、アルミニウム及びカルシウムの少なくとも1種を
含有する金属酸化物土質類を懸濁させた泥状物、また、
有機性廃水の生物処理で発生する活性汚泥、さらにはこ
れら異なる汚泥同士の混合物もしくは汚泥と泥状物との
混合物であってもよい。そして、この汚泥、泥状物の作
用は、廃液中の溶解成分を小さな凝集物とし凝集させ、
廃液全体が凝集固化するのを防止する。また、汚泥、泥
状物の添加量は、実用的には容量比で廃液の1/20〜
1/4%、より好ましくは1/15〜1/]o%である
次に、本発明の第2工程で用いるアルカリ水溶液はアル
カリ金属の水酸化物及び炭酸塩の少なくとも1種を含み
、実用的には苛性ソーダ水溶液が好ましく、苛性カリ、
炭酸ソーダであってもよい。
この工程でのアルカリ金属の作用は廃液中の乳酸成分と
反応し、乳酸のカルボキシル基の水素を買換し、石ケン
が生成することにより凝集し易くなるものと思われる。
廃液を貼にアルカリ性にするのであれはアンモニア水で
もよいはずであるが、これては効果が期待できず、また
、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物は
、添加した場合に処理水が凝集・固化してし2まうので
この工程では望ましくない。
また、この第2工程でアルカリ性にした後、酸性に戻す
際に添加する鉱酸には、硫酸を通常用いるか、塩酸等の
無機酸であってもよい。さらに上記の鉱酸に銅、−価の
鉄、三価の鉄、亜鉛、ニッケル、正価のクロム等の重金
属類及び過酸化水素を含有するものであってもよい。こ
れは、共沈効果を持たせるために有効であり、そのため
に通常、鉱酸としては、化学研磨、酸洗等の工程から排
出される老廃液を用いると経済的に有利である。
そして、この鉱酸添加による廃液の酸性化の作用(pI
−I2乃至3に調整)は、次ぎの第3工程で水酸化カル
シウム等のアルカリ土類金属の水酸化物を十分に添加し
たいためである。
次に、本発明の第3工程で用いるアルカリ土類金属の水
酸化物としては、マグネシウム、カルシウム、ストロン
チュウム、バリウム等の水酸化物であるが、実用的には
水酸化カルシウムであり、通常石灰乳が望ましい。しか
し、水酸化カルシウムの替りに水酸化マグネシウムの併
用あるいは水酸化マグネシウム単独で用いてもよい。
また、凝集剤はアニオン系高分子凝集剤が望ましいが、
カチオン、ノニオン系の高分子凝集剤でもよく、さらに
塩鉄、PAC等の無機凝集剤であってもよい。凝集剤の
実用」―好ましい添加量は、廃液イOOQに対し0.1
重量%の凝集剤溶液1〜20Q程度である。
次に、廃液の処理方法であるが、通常バッチ処理が望ま
しく、下記にその方法の一例を示す。
先ず、第1工程では廃液を処理槽に注入し、撹押下で汚
泥を添加し、pH2乃至3に調整する。
ここで汚泥を添加しない場合には、次の第2工程で苛性
ソーダを添加した時、油状あるいは粘着性のある成分が
乳上・遊離して取扱いがむつかしくなる。
第2工程では、第1工程の処理液を撹拌下で5%苛性ソ
ーダを添加し、先ずpHを7乃至9に調整する。この時
、酸性側では発泡するが第1工程の汚泥が消泡の役目も
している。その後、20%硫酸を添加してp Hを2乃
至3に戻す。これは、吹の第3工程での中和により良好
な処理水及び凝集物を得るためであり、硫酸はp H調
整剤として使用するものである。
第3工程では、第2工程の処理液を撹拌下で10%石灰
乳を添加し、pH9乃至】2に調整し、これに凝集剤を
添加して凝柴沈降させる。この工程において、処理液中
のレジスト成分、乳酸系有機物質及び銅等の重金属類は
、凝集物に包括あるいけ吸着して共沈するので、COD
、重金属類の除去率が高い処理水が上澄液として得られ
る。然して、凝集物を含む処理水は真空脱水機等で濾過
し、」二澄液は中和処理し、さらに必要に応じて、生物
処理、活性炭吸着等の高次処理を行うことがある。
[実施例] 以下、本発明の詳細な説明する。
実施例1゜ 第1工程では、バッチ処理槽にプリント基板製造工場よ
り排出の電着型UVレジスト現像・剥離廃液(現像廃液
:剥l!ll1l廃液=1:1、比重  1.0、  
  p)11..6、COD  71 、 OOOm 
g/ Q、銅        1 4  m  g  
/  Q  )   4 0 0  Q  しこ 、め
っき汚泥(比重1.0、pH10,5、SV 5%、銅
2 、800 m g / Q、鉄  3,500mg
/氾、 カルシウム 18 、 OOOm g / Q )をp
 T−12、5になるまで概ね50Q添加し、第2工程
では、先づ5%苛性ソーダを添加してp H8に調整し
た後、20%硫酸を添加して1) H2、5に調整した
第3工程では、10%石灰乳を添加してp I−110
、5に調整した後、アニオン系高分子凝隼剤0.」−%
溶液を4Q添加して凝集物を沈降分離し、処理水を−1
−′a、液として得た。かくして得られた上澄液は、C
OI)  1 、600 m g / Q、銅0 、3
 m g / Qであった。
したがって、この処理によって、CODの残存率が1.
.600mg/ Q÷71,000mg/QX100=
2.25%でることから、除去率は100%−残存率(
2,25%)=97.75%となる。また、銅について
は残存率が0.3mg/Q÷14− m g / Q 
X ]、 OO= 2.14%であることから、除去率
は100%−残存率(2,14%)97.86%となる
一方、凝集物を含む処理水はオリバ形真空脱水機で脱水
処理したが、凝集物は全く粘着せず、また大きな固まり
もなく、濾過・脱水性が極めて良かった。
なお、第1図は、この第3工程で10%石灰乳の添加量
を変えて処理水のp、 )−Tを変化させた場合の処理
水のCODの減少状況を示した特性曲線図であり、p 
H9〜」2において著しいCODの減少効果が認められ
た。
[比較例1] 実施例1の第2工程の処理を行うことなく、他は実施例
1と同様な処理を行った。この比較例の場合は、処理液
全体が固化してしまい、真空脱水機による濾過・脱水処
理が困難であった。
[比較例2コ 実施例1の第3工程で用いた10%石灰乳を5%苛性ソ
ーダとしたほかは、実施例1と同様な処理を行った。す
なわち、p Hの調整を石灰乳の代わりに苛性ソーダに
て行い、実施例1と同等のpH10,5に調整した。か
くして得られた処理済み廃液の」二澄液は、C0D52
,000mg/Q、銅4 、8 m g / 11であ
り、凝集物は沈降・分離性が極めて悪かった。
この例から明らかなように、廃液のp Hを好ましい領
域に調整しても、この第3工程では苛性ソ−ダのような
アルカリ金属の水酸化物では効果が極めて少なく、カル
シウムの如きアルカリ土類金属が有効であることを示し
ている。
実施例2゜ 実施例1の電着型UVレジスト現像・剥離廃液を単独の
現像廃液(比重1.0、pH1,9、COD 4 、1
60 m g / Q、銅15 m g / Q )と
したほかは、実施例1と同様な処理を行った。
かくして得られた処理済み廃液の」−澄液は、COD 
1 、800 m g / Q、銅0 、3 m g 
/ D、であり、凝集物は脱水性が極めて良かった。
実施例3゜ 実施例1の電着型UVレジスト現像・剥離廃液を単独の
剥離廃液(比重1 、 Q 、p H1,、5、C0D
79,200mg/Q、銅12mg/Q)としたほかは
、実施例1と同様な処理を行った。
かくして得られた処理済み廃液の上澄液は、C0D2,
800mg/D、、銅0 、3 m g / nであり
、凝集物は脱水性が極めて良かった。
なお、」−記実施例では第2工程のアルカリ添加による
p、 H調整として苛性ソーダを用いたが、その他リチ
ウムやカリウム等のアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩も
しくはこれら両者の混合物でも同等の効果が得られる。
また、第3工程のアルカリ添加によるp、 H調整とし
て石灰乳(水酸化カルシウム)を用いたが、その他マグ
ネシウム、ストロンチュウム、バリウム等のアルカリ土
類金属の水酸化物、炭酸塩もしくはこれら両者の混合物
でも同等の効果が得られる。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、電着型UVレジ
スト現像・剥離廃液の如きプリント印刷基板の製造工程
から排出される酸性廃液の凝集沈降処理において、第1
工程で廃液に汚泥を添加した後に、第2工程でアルカリ
金属元素を含むアルカリ溶液を添加してpHを上昇させ
た後、鉱酸を添加して再度p I−Iを元に戻し、さら
に第3]二程で水酸化カルシウムの如きアルカリ土類金
属の水酸化物、炭酸塩もしくはこれら両者の混合物を添
加することにより生しる凝集物に、廃液中のレジスフ 1・成分・乳酸系有機物質を包括あるいは吸着させるこ
とによって、廃液のCOD及び重金属類の除去率が高く
、かつ凝集物の濾過・脱水処理が容易で効率的な処理が
できるようになった。したがって、本発明は、プリント
印刷基板の製造における産業排水処理として極めて有効
であり、産業」二多大な貢献を成し得るものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例を示す第3工程での石灰乳
の添加量を変えて処理水のPHを変化させた場合のp 
I−T−処理水のCOD減少状況の関係を示した特性曲
線図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、プリント印刷基板製造工程から排出される酸性廃液
    タイプのレジスト現像・剥離廃液の凝集沈降処理におい
    て、前記廃液に汚泥を添加してpH2乃至3に調整し、
    廃液中の乳化・可溶化したレジスト成分を汚泥に包括あ
    るいは吸着させる第1工程と;前記第1工程の処理液に
    アルカリ金属元素を含むアルカリ溶液を添加してpH7
    乃至9に調整した後、鉱酸を添加して再びpH2乃至3
    に調整する第2工程と;前記第2工程の処理液にアルカ
    リ土類金属元素を含むアルカリ溶液を添加してpH9乃
    至12に調整し、廃液中のレジスト成分、乳酸系有機物
    質を第1工程で添加した汚泥に包括あるいは吸着させた
    後、凝集剤を添加して凝集沈降分離する第3工程とを有
    して成るプリント印刷基板製造廃液の処理方法。 2、上記第1工程で添加する汚泥が、無機性廃水の凝集
    沈降で発生した重金属類及びカルシウムを含有するめっ
    き汚泥;ケイ素、マグネシウム、アルミニウム及びカル
    シウムの少なくとも1種を含有する金属酸化物土質類を
    懸濁させた泥状物;及び有機性廃水の生物処理で発生す
    る活性汚泥から成る群の少なくとも1種から選択されて
    成る請求項1記載のプリント印刷基板製造廃液の処理方
    法。 3、上記第2工程で用いるアルカリ金属元素を含むアル
    カル溶液としては、アルカリ金属元素の水酸化物及び炭
    酸塩の少なくとも1種を溶解したアルカリ水溶液、鉱酸
    としては、硫酸及び塩酸の少なくとも1種を含有して成
    る請求項1記載のプリント印刷基板製造廃液の処理方法
    。 4、上記鉱酸に重金属及び過酸化水素の少なくとも1種
    を含有して成る請求項3記載のプリント印刷基板製造廃
    液の処理方法。 5、上記第3工程で用いるアルカリ土類金属元素を含む
    アルカリ溶液としては、カルシウム及びマグネシウムの
    少なくとも1種を含む請求項1記載のプリント印刷基板
    製造廃液の処理方法。 6、上記第3工程で用いる凝集剤としては、アニオン系
    、カチオン系及びノニオン系高分子凝集剤の少なくとも
    1種、もしくは無機凝集剤から成る請求項1記載のプリ
    ント印刷基板製造廃液の処理方法。 7、上記凝集剤の添加量を、廃液400lに対し0.1
    重量%の凝集剤溶液1〜20lとして成る請求項6記載
    のプリント印刷基板製造廃液の処理方法。 8、上記汚泥の添加量を、容量比で廃液の1/20〜1
    /4%として成る請求項1もしくは2記載のプリント印
    刷基板製造廃液の処理方法。
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