JPH0489475A - ２５―ヒドロキシタキステロール誘導体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は２５−ヒドロキシタキステロール誘導体の製造
方法に関する。

本発明によって提供される２５−ヒドロキシタキステロ
ール誘導体は、骨量を増やすことが報告されており、骨
粗鬆症などの治療薬として期待されている２４．２５−
ジヒドロキシビタミンＤ、１などの２５−ヒドロキシビ
タミンＤ誘導体の合成中間体として有用である。

［従来の技術］ 従来、ビタミンＤ誘導体の製造は、多くの場合において
対応するステロイド−５，７−ジエン誘導体に紫外線を
照射することによりそのＢ環を開裂し、得られる（６Ｚ
）−９，１０−セコステロイド−５（１０）、６．８−
１リ工ン誘導体を熱エネルギーにより異性化させ、９．
１０−セコステロイド−１０（１９）、５．７−トリエ
ン誘導体に変換させることにより行われている。この紫
外線照射によるステロイド−５，７−ジエン誘導体のＢ
環の開裂反応は平衡反応であり、目的とする（６Ｚ）−
９，１０−セコステロイド−５（１０）、６．８−トリ
エン誘導体の選択率を高めるためには対応するステロイ
ド−５，７−ジエン誘導体の変換率を抑えて行う必要が
あることが知られている。そこで、２５−ヒドロキシビ
タミンＤ誘導体を工業的に製造する際には、生成物であ
る２５−ヒドロキシビタミンＤ誘導体又は２５ヒドロキ
シプレビタミンＤ誘導体と原料の対応するステロイド−
５，７−ジエン誘導体との分離が問題となる。

また、特定波長の紫外線（紫外レーザー光を含む）を用
いた７−ジヒドロコレステロールの光開裂反応は知られ
ているが［ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・
ソサイエテイ（Ｊ、Ａｍ。

Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、）、第１０３巻、６７８１頁（１９
８１年）及び第１０４巻、５７８０頁（１９８２年）参
照］、２５位に水酸基を有するビタミンＤ誘導体の製造
に紫外レーザー光を使用した例は知られていない。

［発明が解決しようとする課題］ 生成物である２５−ヒドロキシビタミンＤ誘導体又は２
５−ヒドロキシプレビタミン誘導体と原料の対応するス
テロイド−５，７−ジエン誘導体との分離方法としては
、薄層クロマトグラフィ、カラムクロマトグラフィ、高
速液体クロマトグラフィなどのクロマトグラフィによる
方法、再結晶による方法などが考えられるが、生成物及
び原料が性質の似た異性体であることから、上記の分離
方法は必ずしも工業的に満足できるものではない。特に
、目的とする生成物が反応混合物中の主成分ではない場
合には、該生成物を反応混合物から単離精製するには煩
雑な工程が必要となる。

しかして、本発明の目的は、２５−ヒドロキシビタミン
Ｄ誘導体に誘導可能な２５−ヒドロキシタキステロール
誘導体を選択的かつ収率よく製造する方法を提供するこ
とにある。

［課題を解決するための手段］ 本発明によれば、上記の目的は、−形成（Ｉ）れる基を
表し、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ水素原子又は水酸基の保
護基を表す） で示される２５−ヒドロキシプロビタミンＤ誘導体［以
下、これを化合物（１）と称するコに波長１９０〜３１
０ｎｍの範囲から選ばれる波長を有する紫外レーザー光
［以下、これを紫外レーザー光（Ａ）と称する］を照射
することを特徴とする一般式（Ｉ［） （式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ水素原子又は水酸基の
保護基を表し、Ｘｌは水素原子若しくは式ＯＲ３で示さ
れる基を表し、かつＸ２は水素原子を表すか、又はＸｌ
とＸ２は一緒になってオクソ基を表し、Ｙは水素原子又
は式−ＯＲ’で示さ（式中、ＲＩ　　Ｒ２、ＸＩ　、Ｘ
２及びＹはそれぞれ前記定義のとおりである） で示される２５−ヒドロキシタキステロール誘導体［以
下、これを化合物（ＩＩ）と称する］の製造方法を提供
することにより達成される。

上記の一般式におけるＲ１　、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４が表
す水酸基の保護基としては、アシル基、アルコキシカル
ボニル基、三置換シリル基、置換基を有していてもよい
アルコキシメチル基などが挙げられるが、水酸基の保護
基として機能する限りどのような保護基でもよい　アシ
ル基としては、例えばアセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル
基、ピバロイル基などの低級アルカノイル基；ベンゾイ
ル基、ニトロベンゾイル基、ジニトロベンゾイル基、ト
リメチルベンゾイル基などのアレノイル基°メトキシア
セチル基、フェノキシアセチル基、クロルアセチル基、
ジクロルアセチル基、トリクロルアセチル基、トリフル
オロアセチル基などの置換アセチル基などが挙げられる
。アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボ
ニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボ
ニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニル基などの低級アルコキシカルボニル基、フ
ェノキシカルボニル基、ｐ−メチルフェノキシカルボニ
ル基、ｐ−二トロフェノキシカルボニル基、ｐ−クロル
フェノキシカルボニル基、ｐ−ブロムフェノキシカルボ
ニル基などのアレツキジカルボニル基；ベンジルオキシ
カルボニル基、ｐ−ブロモベンジルオキシカルボニル基
、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基などのアラル
コキシカルボニル基：アリルオキシカルボニル基、メタ
リルオキシカルボニル基、ジメチルアリルオキシカルボ
ニル基などのアルケニルオキシカルボニル基などが挙げ
られる。

三置換シリル基としては、例えばトリメチルシリル基、
トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリル基などのトリアルキルシリ
ル基；　ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基などのア
ルキルジアリールシリル基などが挙げられる。置換基を
有していてもよいアルコキシメチル基としては、例えば
メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、ベンジ
ルオキシメチル基などのアルコキシメチル基：エトキシ
エチル基、メトキシイソプロピル基、メトキシ−４−テ
トラヒドロピラニル基などの置換アルコキシメチル基：
２−テトラヒドロピラニル基、２−テトラヒドロフラニ
ル基などのオフサシクロアルカン−２−イル基などが挙
げられる。また、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち２つが一緒
になってメチレン基、エチリデン基、イソプロピリデン
基、ベンジリデン基、シクロへキシリデン基などのアル
キリデン基を表す場合もある。

化合物（Ｉ）を化合物（ＩＩ）に変換させるに際して使
用される紫外レーザー光（Ａ）としては、２２０〜２９
５ｎｍの範囲から選ばれる波長を有するものが好ましい
。紫外レーザー光（Ａ）を発振する紫外レーザーとして
は、例えばアルゴンイオンレーザ−、フッ化クリプトン
エキシマレーザフッ化アルゴンエキシマレーザ−塩化ク
リプトンエキシマレーザ−１塩化キセノンエキシマレー
ザ−１色素レーザー　ＹＡＧレーザ−ＹＡＧレーザー励
起色素レーザー　エキシマレーザ励起色素レーザー、ル
ビーレーザーなどが使用される。

上記の反応は通常溶媒中で行うのが好ましく、溶媒とし
ては、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、リ
グロイン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水
素系溶媒；ブロムベンゼン、クロルベンゼン、四塩化炭
素、１．２−ジクロルエタン、１．２−ジブロムエタン
などのハロゲン化炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルセロソルブな
どのエーテル系溶媒；メタノール、エタノール、プロパ
ツールなどのアルコール系溶媒などが用いられる。溶媒
の使用量は化合物（１）に対して、通常約５０〜５００
．Ｏ○０倍重最重量る。

反応は通常約−５０℃〜１２０℃の範囲内の温度、好ま
しくは約−１０℃〜２０℃の範囲内の温度で行われる。

このようにして得られた化合物（ｎ）の反応混合物から
の単離・精製は、通常の有機化合物の単離・精製におい
て用いられる方法と同様にして行なわれる０例えば、反
応混合物を減圧下に濃縮したのち、残渣を再結晶、クロ
マトグラフィなどにより精製することにより行われる。

化合物（ｎ）を２５位に水酸基を有するビタミンＤ誘導
体に誘導するためには、化合物（ＩＩ）の反応混合物か
らの単離・精製は必ずしも必要ではなく、化合物（ＩＩ
）を含む反応混合物をそのまま次の反応に付することも
できる。

化合物（ｎ）は、例えばこれに波長２８０〜４００　ｎ
ｍの範囲から選ばれ、かつ紫外レーザ光（Ａ）よりも長
い波長を有する紫外線レーザ光［以下、これを紫外レー
ザー光（Ｅｌ）と称する］を照射し、得られた生成物を
熱エネルギーにより異性化させ、さらに必要に応じて水
酸基の脱保護を行うことにより一般式（Ｉ［ｌ）（式中
、Ｘ３は水素原子若しくは水酸基を表し、かつｘ４は水
素原子を表すか、又はＸ３とＸ４は一緒になってオクソ
基を表し、Ｙｌは水素原子又は水酸基を表す） で示される２５−ヒドロキシビタミンＤ誘導体［以下、
これを化合物（ＩＩＩ）と称する］へ変換される。

紫外レーザー光（Ｂ）の照射下に行う反応は、溶媒中で
行うのが好ましく、溶媒としては、例えば前述の化合物
（Ｉ）を化合物（ＩＩ）に変換する反応で用いられる溶
媒などが使用される。溶媒の使用量は化合物（１１）に
対して通常約５０〜５００，０００倍重量である。反応
は通常約５０℃〜１２０℃の範囲内の温度、好ましくは
約−１０℃〜２０℃の範囲内の温度で行われる。

紫外レーザー光（Ｂ）としては、波長２９５〜３８０ｎ
ｍの範囲から選ばれる波長を有するものが好ましい、紫
外レーザー光（Ｂ）を発振する紫外レーザーとしては、
例えば窒素レーザー、アルゴンイオンレーザ−、クリプ
トンイオンレーザヘリウム−カドミウムレーザー、フッ
化キセノンエキシマレーザ−塩化キセノンエキシマレー
ザ−１色素レーザー　ＹＡＧレーザ−、ＹＡＧレーザー
励起色素レーザー　エキシマレーザ−励起色素レーザー
、ルビーレーザーなどが使用される。また、この反応は
ベンゾフェノン、アセトフェノン、ブチロフェノン、９
−フルオレノン、キサントンなどの増感剤の存在下に行
うことができる。増感剤の使用量は化合物（■）１モル
に対して約０．０５〜５０モルの範囲が好ましい。

熱エネルギーによる異性化反応は、通常約Ｏ〜１２０℃
の範囲内の温度で行われる。この反応は通常溶媒中で行
われ、使用される溶媒としては、前述の化合物（１）を
化合物（ＩＩ）に変換する反応において用いられる溶媒
などが挙げられる。

これら紫外レーザー光（Ｂ）照射下の反応、次いで熱エ
ネルギーによる異性化反応により得られる化合物は、通
常の有機化合物の単離・精製において用いられる方法と
同様にして単離・精製することもできるが、単離・精製
することなく次の水酸基の脱保護反応に付することもで
きる。

必要に応じて行われる水酸基の脱保護反応は、通常の水
酸基の脱保護において用いられる方法と同様にして行わ
れる。

このようにして得られた化合物（ＩＩＩ）の反応混合物
からの単離・精製は、通常の有機化合物の単離・精製に
おいて用いられている方法と同様にして行われる。例え
ば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテル、酢酸
エチル、塩化メチレンなどの有機溶媒で抽出し、必要に
応じて希塩酸、希硫酸、重曹水、水、食塩水などで洗浄
することにより中性とし、硫酸ナトリウム、硫酸マグネ
シウムなどの乾燥剤を用いて脱水したのち、減圧下に濃
縮し、残渣を再結晶、クロマトグラフィなどにより精製
することにより行われる。

［実施例］ 以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発
明はこれらの実施例により限定されるものではない。

実施例１ コレスタ−５，７−ジエン−３β、２５−ジオール６７
．４ｍｇをジエチノに−チル２００　ｍ　ｌに溶解し、
得られた溶液にアルゴンガスを通じながら−２〜−５℃
の範囲内の温度でフッ化クリプトンエキシマレーザ−（
照射パワー１，５Ｗ、繰り返し数７０Ｈｚ）を用いて波
長２４８　ｎｍの紫外レーザー光を１８．７５分間照射
した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィにより分
析したところ、コレスタ−５，７−ジエン−３β、２５
−ジオールの変換率は９１％、（６Ｅ）−９゜１０−セ
ココレスタ−５（１０）、６．８−トリエン−３β、２
５−ジオールの選択率は６２％であった。反応終了後、
反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロマト
グラフィにより精製し、下記の物性値を示す（６Ｅ）−
９，１０セココレスタ−５（１０）、６．８−トリエン
３β、２５−ジオールを３１、Ｏｍ　ｇ得た（収率４６
％）。

紫外吸収スペクトル（λｍａｘ）：２８０ｎｍ質量スペ
クトル（ｍ／ｚ）：　４００　（Ｍ”　）参考例１ 実施例１で得られた（６Ｅ）−９，１０−セココレスタ
−５（１０）、６．８−トリエン−３β、２５−ジオー
ル３１．０ｍｇ及び９−フルオレノン１８．９ｍｇをジ
エチルエーテル２００ｍ１に溶解し、得られた溶液にア
ルゴンガスを通じながら−２〜−５℃の範囲内の温度で
フッ化キセノンエキシマレーザ−（照射パワー０．５１
繰り返し数７０Ｈｚ）を用いて波長３５１　ｎｍの紫外
レーザー光を７分間照射した０反応終了後、反応混合物
を減圧下に濃縮し、残渣にヘキサン１００　ｍ　ｌを加
え、アルゴン雰囲気下に２時間加熱還流した。反応混合
物を室温まで放冷したのち、減圧下に濃縮し、残渣を高
速液体クロマトグラフィにより精製し、下記の物性値を
示す９゜１０−セココレスタ−５，７，１０（１Ｂ）−
トリエン−３β、２５−ジオールを２１．４ｍｇ得た（
収率６９％）、このものの物性値は文献値と一致した。

紫外吸収スペクトル（λｍａｘ）：２６５ｎｍ質量スペ
クトル（ｍ／ｚ）：　４００　（Ｍ″１）参考例２ 実施例１と同様にして反応を行うことにより（６Ｅ）−
９，１０−セココレスタ−５（１０）６．８−トリエン
−３β、２５−ジオールを含む反応混合物を得た。反応
混合物に９−フルオレノン３０．４ｍｇを加え、アルゴ
ンガスを通じながら−２〜−５℃の範囲内の温度でフッ
化キセノンエキシマレーザ−（照射パワー０．５Ｗ、繰
り返し数７０Ｈｚ）を用いて波長３５１　ｎｍの紫外レ
ーザー光を９分間照射した０反応混合物を減圧下に濃縮
し、残渣にヘキサン１００　ｍ　ｌを加え、アルゴン雰
囲気下に２時間加熱還流した。反応混合物を室温まで放
冷したのち、減圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロマト
グラフィで精製し、参考例１で得られたものと同じ物性
値を示す９．１０セココレスタ−５，７，１０（１９）
−トリエン３β、２５−ジオールを４０．６ｍｇ得た（
収率６０％）。

コレスタ−５，７−ノニン−３β、２５−ジオール６７
．４ｍｇをジエチルエーテル２００　ｍ　ｌに溶解し、
得られた溶液にアルゴンガスを通じながら５〜１０℃の
範囲内の温度で、４００Ｗ高圧水銀灯を用い、バイコー
ル（Ｖｙｃｏｒ）フィルタを通して、３分間紫外線を照
射した０反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣にヘキサン
１００　ｍ　ｌを加え、アルゴン雰囲気下に２時間加熱
還流した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィによ
り分析したところ、コレスタ−５，７−ジエン３β、２
５−ジオールの変換率は４３％、９゜１０−セココレス
タ−５，７，１０（１９）−）−ツエン−３β、２５−
ジオールの選択率は４２％であった０反応混合物を室温
まで放冷したのち、減圧下に濃縮し、残渣を高速液体ク
ロマトグラフィにより精製し、参考例１で得られたもの
と同じ物性値を示す９．１０−セココレスタ−５゜７．
１０　（１９）−トリエン−３β、２５−ジオールを９
．７ｍｇ得た（収率１４％）。

比較例 実施例２ コレスタ−５，７−ジエン−３β、２４．２５−トリオ
−ルア０．１ｍｇをジエチルエーテルエタノール混合溶
液２００ｍ１（容量比２対１）に溶解し、得られた溶液
に一５〜０℃の範囲内の温度でフッ化クリプトンエキシ
マレーザ−（照射パワー１．５Ｗ、繰り返し数７０Ｈｚ
）を用いて波長２４８ｎｍの紫外レーザー光を２０．５
分間照射した０反応混合物を高速液体クロマトグラフィ
により分析したところ、コレスタ−５，７ジエンー３β
、２４．２５−トリオールの変換率は９１％、（ＢＥ）
−９，１０−七：＋コレスタ５　　　　（１０）、　　
　　６．　　　８　　−　　ト　　リ　　エ　　ン　　
−３β　　、　　　２　４　　。

２５−トリオールの選択率は６１％であった０反応終了
後、反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロ
マトグラフィにより精製し、下記の物性値を示す（６Ｅ
）−９，１０−セココレスタ−５（１０）　　　６．８
−１リエンー３β２４．２５−トリオールを３６．５ｍ
ｇ得た（収率５２％）。

紫外吸収スペクトル（λｍａｘ）：２８１ｎｍ質量スペ
クトル（ｍ／ｚ）：４１６　（Ｍ”　）参考例３ 実施例２で得られた（６Ｅ）−９，１０−セココレスタ
−５（１０）、６．８−１リエンー３β、２４．２５−
１−ジオール３６．５ｍｇをジエチルエーテル−エタノ
ール混合溶液１２０ｍ１（容量比２対１）に溶解し、得
られた溶液に９−フルオレノン１９．８ｍｇを加え、ア
ルゴンガスを通じながら一５〜０℃の範囲内の温度でフ
ッ化キセノンエキシマレーザ−（照射パワー０．５Ｗ。

繰り返し数７０Ｈｚ）を用いて波長３５１　ｎｍの紫外
レーザー光を５０分間照射した０反応終了後、反応混合
物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロマトグラフィ
により精製し、下記の物性値を示ｔ９，１０−セココレ
スタ−５，７，１０（１９）−１−リ　　エ　ン　−　
　３　　β　　、２４．２５−　　　ト　　リ　　オー
ルを２３．７ｍｇ得た（収率６５％）、このものの物性
値は文献値と一致した。

紫外吸収スペクトル（λｍａｘ）：２６５ｎｍ質量スペ
クトル（ｍ／　ｚ）　　：　４１６　（Ｍ”　）参考例
４ 実施例２と同様にして反応を行うことにより（ＢＥ）−
９，１０−セココレスタ−５（１０）６．８−　　　ト
　　リ　　エ　ン　−３β　、２４．２５−１−　　　
リ　　オールを含む反応混合物を得た０反応混合物に９
フルオレノン３０．４ｍｇを加え、アルゴンガスを通じ
ながら一５〜０℃の範囲内の温度でフッ化キセノンエキ
シマレーザ−（照射パワー０．５Ｗ１繰り返し数７０Ｈ
ｚ）を用いて波長３５１ｎｍの紫外レーザー光を８５分
間照射した０反応混合物を減圧下に濃縮し、得られた残
渣にヘキサン１００　ｍ　ｌを加え、アルゴン雰囲気下
に加熱還流した０反応混合物を高速液体クロマトグラフ
ィにより分析したところ、コレスタ−５，７−ジエン−
３β、２４．２５−トリオールの変換率は９１％、９．
１０−セココレスタ−５，７，１０（１９）　　−ト　
　リ　　エ　ン　−３β　、　　　　２４．　　　２５
−　　　ト　　リ　　オールの選択率は６８％であった
０反応混合物を室温まで放冷したのち、減圧下に濃縮し
、残渣を高速液体クロマトグラフィにより精製し、参考
例３において得られたものと同じ物性値を示す９．１０
−セココレスタ−５，７，１０（１９）−ト　　　リ　
　エ　　ン　−３β　　、　　　　２４．　　　２５−
１　　　リ　　オ　−　ル　を４１．９ｍｇ得た（収率
６０％）。

実施例３ 実施例１においてコレスタ−５，７−ジエン３β、２５
−ジオール６７．４ｍｇの代わりに２５．２６−０−イ
ソプロピリデン−３β−メトキシカルボニルオキシコレ
スタ−５，７−ジエン２５．２Ｂ−ジオール８２’、２
ｍｇを用いた以外は同様にして反応及び分離操作を行う
ことにより、下記の物性値を示す（６Ｅ）−２５，２６
０−イソプロピリデン−３β−メトキシカルボニルオキ
シ−９，１０−セココレスタ−５（１０）、６．８−ト
リエン−２５，２６−ジオールを４０．８ｍｇ得た（収
率５０％）。

紫外吸収スペクトル（λｍａｘ）：２８１ｎｍ質量スペ
クトル（ｍ／ｚ）　　：　５１４　（Ｍ′″）参考例５ 実施例３と同様にして反応を行うことにより（６Ｅ）−
２５，２６−０−イソプロピリデン３β−メトキシカル
ボニルオキシ−９，１０セココレスタ−５（１０）、６
．８−トリエン−２５，２６−ジオールを含む反応混合
物を得た。

反応混合物にベンゾフェノン２９．１ｍｇを加え、アル
ゴンガスを通じながら一５〜Ｏ℃の範囲内の温度で窒素
レーザー（照射パワー０．１Ｗ、繰り返し数２０Ｈｚ）
を用いて波長３３７ｎｍの紫外レーザー光を３０分間照
射した０反応混合物を減圧下に濃縮したのち、残渣にヘ
キサン１００ｍ１を加え、アルゴン雰囲気下に２時間加
熱還流した。反応混合物を室温まで放冷したのち、減圧
下に濃縮した。残渣にメタノール５　ｍ　ｌ及びｐトル
エンスルホン酸１０　ｍ　ｇを加え、アルゴン雰囲気下
に室温で４時間攪拌した。反応混合物を重曹で中和し、
減圧下にメタノールを留去した。残渣を酢酸エチルで希
釈し、水及び食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣にメタノール５　ｍ　
ｌ及び水酸化カリウム２０　ｍ　ｇを加え、アルゴン雰
囲気下に１時間加熱還流した。反応混合物を室温まで放
冷したのち、水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液
を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、
減圧下に濃縮した。残渣を高速液体グロマトグラフィに
より精製し、下記の物性値を示す９゜１０−セココレス
タ−５，７，ｔｏ　（１９）−トリエン−３β、２５．
２６−１リオールを４１゜３　ｍ　ｇ得た（収率６２％
）、このものの物性値は文献値と一致した。

紫外吸収スペクトル（λｍａｘ）：２６５ｎｍ質量スペ
クトル（ｍ／ｚ）　　：　４１６　（Ｍ”　）実施例４ 実施例１においてコレスタ−５，７−ジエン３β、２５
−ジオール［３７，４ｍｇの代わりに３β−（テトラヒ
ドロビラン−２−イル）オキシコレスタ−５，７−レニ
ン−２４−オン−２５−オール８０．０ｍｇを用いた以
外は同様にして反応及び分離操作を行うことにより、下
記の物性値を示す（６Ｅ）−３β−（テトラヒドロフラ
ン−２イル）オキシ−９，１０−セココレスタ−５（１
０）、６．８−ｈリエンー２４−オン−２５〜オールを
３６．５ｍｇ得た（収率４６％）。

紫外吸収スペクトル（λｍａｘ）：２８２ｎｍ質量スペ
クトル（ｍ／ｚ）：　５００　（Ｍ”）参考例６ 実施例４と同様にして反応を行うことにより（６Ｅ）−
３β−（テトラヒドロフラン−２イル）オキシ−９，１
０−セココレスタ−５（１０）、６．８−トリエン−２
４−オン−２５−オールを含む反応混合物を得た０反応
混合物に９フルオレノン３０．４ｍｇを加え、アルゴン
ガスを通じながら−２〜−５℃の範囲内の温度でフッ化
キセノンエキシマレーザ−（照射パワー０．５Ｗ、繰り
返し数７０Ｈｚ）を用いて波長３５１ｎｍの紫外レーザ
ー光を９分間照射した。

反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣にヘキサン１００　
ｍ　ｌを加え、アルゴン雰囲気下に２時間加熱還流した
０反応混合物を室温まで放冷したのち、減圧下に濃縮し
た。残渣をメタノール５　ｍ　ｌに溶解し、得られた溶
液にｐ−ｈルエンスルホン酸ピリジニウム５　ｍ　ｇを
加え、アルゴン雰囲気下に室温で３時間攪拌した０反応
混合物を酢酸エチルで希釈し、食塩水で洗浄したのち、
硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣を
高速液体グロマトグラフィで精製し、下記の物性値を示
す９．１０−セココレスタ−５，９，１０（１９）−１
リエンー２４−オン−３β、２５−ジオールを３９．２
ｍｇ得た（収率５９％）、このものの物性値は文献値と
一致した。

紫外吸収スペクトル（λｍａｘ）：２６５ｎｍ質量スペ
クトル（ｍ／ｚ）：４１４　（Ｍ”）実施例５ ３β−アセトキシコレスタ−５，７−ノニン−２５−オ
ール７０．７ｍｇをジエチルエーテル２００　ｍ　ｌに
溶解し、得られた溶液にアルゴンガスを通じながら一５
〜ｏ℃の範囲内の温度でＹＡＧレーザーの第４高調波（
照射パワーＩＷ、繰り返し数５０Ｈｚ　；波長２８６ｎ
ｍ）を２５．３分間照射した０反応終了後、反応混合物
を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体グロマトグラフイに
より精製し、下記の物性値を示す（ＢＥ）−３β−アセ
トキシ−９，１０−セココレスタ−５（１０）、６．８
−１−クエン−２５−オールを３５．７ｍｇ得た（収率
５０％）。

紫外吸収スペクトル（λｍａｘ）：２８１ｎｍ質量スペ
クトル（ｍ／Ｚ）：　４４２　（Ｍ”″）参考例７ 実施例５と同様にして反応を行うことにより（６Ｅ）−
３β−アセトキシ−９，１０−セココレスタ−５（１０
）、６．８−トリエン−２５オールを含む反応混合物を
得た。反応混合物に９−フルオレノン３０．４ｍｇを加
え、アルゴンガスを通じながら一５〜０℃の範囲内の温
度でＹＡＧレーザーの第３高調波（照射パワーＩＷ、繰
り返し数５０Ｈｚ；波長３５５ｎｍ）を３４分間照射し
た０反応終了後、反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣に
ヘキサン１００　ｍ　ｌを加え、アルゴン雰囲気下に２
時間加熱還流した。反応混合物を室温まで放冷したのち
、減圧下に濃縮した。残渣にメタノール１０　ｍ　ｌ及
び炭酸カリウムｌ　Ｏｍｇを加え、アルゴン雰囲気下に
室温で３時間攪拌した。反応混合物を水で希釈し、酢酸
エチルで抽出し、抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリ
ウム上で乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣を高速液体グ
ロマトグラフィで精製し、参考例１で得られたものと同
じ物性値を示す９，１０−セココレスタ５．７．１０　
（１９）−トリエン−３β、２５ジオールを３７．７ｍ
ｇ得た（収率５９％）。

実施例６ 実施例１においてコレスタ−５，７−ジエン１α、３β
−ジオール６７．４ｍｇの代わりに３β−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ−コレスタ−５，７−レニン
−２４，２５−ジオール８４．８ｍｇを用いた以外は同
様にして反応及び分離操作を行うことにより、下記の物
性値を示す（６Ｅ）−３β−ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ−９，１０−セココレスタ−５（１０）、
６．８−１リエンー２４．２５−ジオールを４１．４ｍ
ｇ得た（収率４９％）。

紫外吸収スペクトル（λｍａｘ）：２８１ｎｍ質量スペ
クトル（ｍ／　ｚ）　　：　５３０　（Ｍ”　）参考例
８ 実施例６と同様にして反応を行うことにより（６Ｅ）−
３β−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−９，１
０−セココレスタ−５（１０）６．８−トリエン−２４
，２５−ジオールを含む反応混合物を得た。反応混合物
に９−フルオレノン３０．４ｍｇを加え、アルゴンガス
を通じながら一５〜０℃の範囲内の温度でフッ化キセノ
ンエキシマレーザ−（照射−パワー０．５Ｗ、繰り返し
数７０Ｈｚ）を用いて波長３５１ｎｍの紫外レーザー光
を８５分間照射した。反応終了後、反応混合物を減圧下
に濃縮し、得られた残渣にヘキサ：／　１００　ｍ　ｌ
を加え、アルゴン雰囲気下に加熱還流した。反応混合物
を室温まで放冷したのち、減圧下に濃縮した。残渣をテ
トラヒドロフラン１０ｍ１に溶解し、得られた溶液に１
規定フツ化テトラブチル°アンモニウム−テトラヒドロ
フラン溶液０．５ｍｌを加え、アルゴン雰囲気下に室温
で４時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチル
で抽出し、抽出液を重曹水及び食塩水で順次洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣を高
速液体クロマトグラフィにより精製し、参考例３におい
て得られたものと同じ物性値を示す９．１０−セココレ
スタ−５，７，１０（１９）　　−ト　　リ　　エ　ン
　−３β　、２４．２５−　　　ト　　リ　　オールを
４１．３ｍｇ得た（収率６２％）。

［発明の効果］ 本発明によれば、化合物（Ｉｌ）を選択的かつ収率よく
製造することができる。

本発明により製造される化合物（ＩＩ）は化合物（ＩＩ
Ｉ）に容易に誘導される。本発明によれば、選択的かつ
収率よく化合物（ｎ）が得られることから、紫外レーザ
ー光（Ａ）照射後に得られる反応混合物からの化合物（
ＩＩ）の分離操作が極めて容易となり、また前記反応混
合物をそのまま又は該反応・混合物から分離された化合
物（ＩＩ）を熱エネルギーによる異性化反応、次いで必
要に応じて水酸基の脱保護反応に付する場合には、得ら
れる反応混合物からの化合物（Ｉ［Ｉ）の分離操作が極
めて容易となる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１及びＲ＾２はそれぞれ水素原子又は水酸
   基の保護基を表し、Ｘ＾１は水素原子若しくは式−ＯＲ
   ＾３で示される基を表し、かつＸ＾２は水素原子を表す
   か、又はＸ＾１とＸ＾２は一緒になつてオクソ基を表し
   、Ｙは水素原子又は式−ＯＲ＾４で示される基を表し、
   Ｒ＾３及びＲ＾４はそれぞれ水素原子又は水酸基の保護
   基を表す） で示される２５−ヒドロキシプロビタミンＤ誘導体に波
   長１９０〜３１０ｎｍの範囲から選ばれる波長を有する
   紫外レーザー光を照射することを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｘ＾１、Ｘ＾２及びＹはそれ
   ぞれ前記定義のとおりである） で示される２５−ヒドロキシタキステロール誘導体の製
   造方法。