JP2752509B2 - 25―ヒドロキシプレビタミンd誘導体の製造方法 - Google Patents

25―ヒドロキシプレビタミンd誘導体の製造方法

Info

Publication number
JP2752509B2
JP2752509B2 JP2199476A JP19947690A JP2752509B2 JP 2752509 B2 JP2752509 B2 JP 2752509B2 JP 2199476 A JP2199476 A JP 2199476A JP 19947690 A JP19947690 A JP 19947690A JP 2752509 B2 JP2752509 B2 JP 2752509B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
reaction mixture
reaction
compound
wavelength
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2199476A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0489476A (ja
Inventor
直 中川
久道 柳井
万蔵 塩野
岳彦 村松
実紀夫 森
壮泰 天野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KURARE KK
IHI Corp
Original Assignee
KURARE KK
IHI Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KURARE KK, IHI Corp filed Critical KURARE KK
Priority to JP2199476A priority Critical patent/JP2752509B2/ja
Publication of JPH0489476A publication Critical patent/JPH0489476A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2752509B2 publication Critical patent/JP2752509B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Steroid Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は25−ヒドロキシプレビタミンD誘導体の製造
方法に関する。
本発明によって提供される25−ヒドロキシプレビタミ
ンD誘導体は、骨量を増やすことが報告されており、骨
粗鬆症などの治療薬として期待されている24,25−ジヒ
ドロキシビタミンD3などの25−ヒドロキシビタミンD誘
導体の合成中間体として有用である。
[従来の技術] 従来、ビタミンD誘導体の製造は、多くの場合におい
て対応するステロイド−5,7−ジエン誘導体に紫外線を
照射することによりそのB環を開裂し、得られる(6Z)
−9,10−セコステロイド−5(10),6,8−トリエン誘導
体を熱エネルギーにより異性化させ、9,10−セコステロ
イド−10(19),5,7−トリエン誘導体に変換させること
により行われている。この紫外線照射によるステロイド
−5,7−ジエン誘導体のB環の開裂反応は平衡反応であ
り、目的とする(6Z)−9,10−セコステロイド−5(1
0),6,8−トリエン誘導体の選択率を高めるためには対
応するステロイド−5,7−ジエン誘導体の交換率を抑え
て行う必要があることが知られている。そこで、25−ヒ
ドロキシビタミンD誘導体を工業的に製造する際には、
生成物である25−ヒドロキシビタミンD誘導体又は25−
ヒドロキシプレビタミンD誘導体と原料の対応するステ
ロイド−5,7−ジエン誘導体との分離が問題となる。
また、特定波長の紫外線(紫外レーザー光を含む)を
用いた7−デヒドロコレステロールの光開裂反応は知ら
れているが[ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル
・ソサィエティ(J.Am.Chem.Soc.)、第103巻、6781頁
(1981年)及び第104巻、5780頁(1982年)参照]、25
位に水酸基を有するビタミンD誘導体の製造に紫外レー
ザー光を使用した例は知られていない。
[発明が解決しようとする課題] 生成物である25−ヒドロキシビタミンD誘導体又は25
−ヒドロキシプレビタミン誘導体と原料の対応するステ
ロイド−5,7−ジエン誘導体との分離方法としては、薄
層クロマトグラフィ、カラムクロマトグラフィ、高速液
体クロマトグラフィなどのクロマトグラフィによる方
法、再結晶による方法などが考えられるが、生成物及び
原料が性質の似た異性体であることから、上記の分離方
法は必ずしも工業的に満足できるものではない。特に、
目的とする生成物が反応混合物中の主成分ではない場合
には、該生成物を反応混合物から単離精製するには煩雑
な工程が必要となる。
しかして、本発明の目的は、25−ヒドロキシビタミン
D誘導体に誘導可能な25−ヒドロキシプレビタミンD誘
導体を選択的かつ収率よく製造する方法を提供すること
にある。
[課題を解決するための手段] 本発明によれば、上記の目的は、 一般式(I) (式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子又は水酸基の保護
基を表し、X1は水素原子若しくは式−OR3で示される基
を表し、かつX2は水素原子を表すか、又はX1とX2は一緒
になってオクソ基を表し、Yは水素原子又は式−OR4
示される基を表し、R3及びR4はそれぞれ水素原子又は水
酸基の保護基を表す) で示される25−ヒドロキシタキステロール誘導体[以
下、これを化合物(I)と称する]に波長280〜400nmの
範囲から選ばれる波長を有する紫外レーザー光を照射す
ることを特徴とする一般式(II) (式中、R1、R2、X1、X2及びYはそれぞれ請求項1記載
の定義のとおりである) で示される25−ヒドロキシプレビタミンD誘導体[以
下、これを化合物(II)と称する]の製造方法、 一般式(III) (式中、R1、R2、X1、X2及びYはそれぞれ請求項1記載
の定義のとおりである) で示される25−ヒドロキシプロビタミンD誘導体[以
下、これを化合物(III)と称する]に波長190〜310nm
の範囲から選ばれる波長を有する紫外レーザー光と波長
280〜400nmの範囲から選ばれ、かつ前記の紫外レーザー
光よりも長い波長を有する紫外レーザー光を逐次的に又
は同時に照射することを特徴とする化合物(II)の製造
方法、及び 化合物(III)に波長190〜310nmの範囲から選ばれる
波長を有する紫外レーザー光を照射することにより化合
物(I)を得、該化合物(I)に波長280〜400nmの範囲
から選ばれ、かつ前記の紫外レーザー光よりも長い波長
を有する紫外レーザー光を照射することを特徴とする化
合物(II)の製造方法を提供することにより達成され
る。
上記の一般式におけるR1、R2、R3及びR4が表す水酸基
の保護基としては、アシル基、アルコキシカルボニル
基、三置換シリル基、置換基を有していてもよいアルコ
キシメチル基などが挙げられるが、水酸基の保護基とし
て機能する限りどのような保護基でもよい。アシル基と
しては、例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル
基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピ
バロイル基などの低級アルカノイル基;ベンゾイル基、
ニトロベンゾイル基、ジニトロベンゾイル基、トリメチ
ルベンゾイル基などのアレノイル基;メトキシアセチル
基、フェノキシアセチル基、クロルアセチル基、ジクロ
ルアセチル基、トリクロルアセチル基、トリフルオロア
セチル基などの置換アセチル基などが挙げられる。アル
コキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル
基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル
基、イソブトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボ
ニル基などの低級アルコキシカルボニル基;フェノキシ
カルボニル基、p−メチルフェノキシカルボニル基、p
−ニトロフェノキシカルボニル基、p−クロルフェノキ
シカルボニル基、p−ブロムフェノキシカルボニル基な
どのアレノキシカルボニル基;ベンジルオキシカルボニ
ル基、p−ブロモベンジルオキシカルボニル基、p−ニ
トロベンジルオキシカルボニル基などのアラルコキシカ
ルボニル基;アリルオキシカルボニル基、メタリルオキ
シカルボニル基、ジメチルアリルオキシカルボニル基な
どのアルケニルオキシカルボニル基などが挙げられる。
三置換シリル基としては、例えばトリメチルシリル基、
トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、tert
−ブチルジメチルシリル基などのトリアルキルシリル
基;tert−ブチルジフェニルシリル基などのアルキルジ
アリールシリル基などが挙げられる。置換基を有してい
てもよいアルコキシメチル基としては、例えばメトキシ
メチル基、メトキシエトキシメチル基、ベンジルオキシ
メチル基などのアルコキシメチル基;エトキシエチル
基、メトキシイソプロピル基、メトキシ−4−テトラヒ
ドロピラニル基などの置換アルコキシメチル基;2−テト
ラヒドロピラニル基、2−エトラヒドロフラニル基など
のオクサシクロアルカン−2−イル基などが挙げられ
る。また、R2、R3及びR4のうち2つが一緒になってメチ
レン基、エチリデン基、イソプロピリデン基、ベンジリ
デン基、シクロヘキシリデン基などのアルキリデン基を
表す場合もある。
化合物(III)に波長190〜310nmの範囲から選ばれる
波長を有する紫外レーザー光[以下、これを紫外レーザ
ー光(A)と称する]を照射することよって化合物(II
I)を化合物(I)に変換する反応、化合物(I)に波
長280〜400nmの範囲から選ばれ、かつ紫外レーザー光
(A)よりも長い波長を有する紫外レーザー光[以下、
これを紫外レーザー光(B)と称する]を照射すること
によって化合物(I)を化合物(II)に変換する反応、
及び化合物(III)に紫外レーザー光(A)と紫外レー
ザー光(B)とを逐次的に又は同時にう照射することに
よって化合物(III)を化合物(I)に変換する反応
は、いずれも溶媒中で行うのが好ましい。溶媒として
は、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、リグ
ロイン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素
系溶媒;ブロムベンゼン、クロルベンゼン、四塩化炭
素、1,2−ジクロルエタン、1,2−ジブロムエタンなどの
ハロゲン化炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、エチルセロソルブなどのエ
ーテル系溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール
などのアルコール系溶媒などが使用され、その使用量
は、紫外レーザー光を照射する化合物に対して通常約50
〜500,000倍重量である。これらの反応は、通常約−50
℃〜120℃の範囲内の温度、好ましくは−10℃〜20℃の
範囲内の温度で行われる。
紫外レーザー光(B)の照射は、ベンゾフェノン、ア
セトフェノン、ブチロフェノン、9−フルオレノン、キ
サントンなどの増感剤の存在下に行うこともできる。増
感剤の使用量は、紫外レーザー光(B)を照射する化合
物1モルに対して約0.05〜50モルの範囲が望ましい。
紫外レーザー光(A)としては、波長220〜295nmの範
囲から選ばれる波長を有するものが好ましく、また紫外
レーザー光(B)としては、波長295〜380nmの範囲から
選ばれる波長を有するものが好ましい。紫外レーザー光
(A)を発振する紫外レーザーとしては、例えばアルゴ
ンイオンレーザー、フッ化クリプトンエキシマレーザ
ー、フッ化アルゴンエキシマレーザー、塩化クリプトン
エキシマレーザー、塩化キセノンエキシマレーザー、色
素レーザー、YAGレーザー、YAGレーザー励起色素レーザ
ー、エキシマレーザー励起色素レーザー、ルビーレーザ
ーなどが使用され、紫外レーザー光(B)を発振する紫
外レーザーとしては、例えば窒素レーザー、アルゴンイ
オンレーザー、クリプトンイオンレーザー、ヘリウム−
カドミウムレーザー、フッ化キセノンエキシマレーザ
ー、塩化キセノンエキシマレーザー、色素レーザー、YA
Gレーザー、YAGレーザー励起色素レーザー、エキシマレ
ーザー励起色素レーザー、ルビーレーザーなどが使用さ
れる。
化合物(III)に紫外レーザー光(A)を照射するこ
とにより得られた化合物(I)を含む反応混合物はその
まま次の反応に付することができるが、反応混合物から
化合物(I)を通常の有機化合物の単離・精製において
用いられている方法と同様にして単離・精製したのちに
次の反応に付することもできる。化合物(I)の反応混
合物からの単離・精製は、例えば反応混合物を減圧下に
濃縮したのち、残渣を再結晶、クロマトグラフィなどに
より精製することにより行われる。
上記のようにして得られた化合物(II)の反応混合物
からの単離・精製は、通常の有機化合物の単離・精製に
おいて用いられている方法と同様にして行われる。例え
ば、反応混合物を減圧下に濃縮したのち、残渣を再結
晶、クロマトグラフィなどにより精製することにより行
われる。また、化合物(II)を単離・精製することなく
次の反応に付することもできる。
化合物(II)は熱エネルギーによる異性化反応を付し
たのち、必要に応じて生成物を水酸基の脱保護反応に付
することにより一般式(IV) (式中、X3は水素原子若しくは水酸基を表し、かつX4
水素原子を表すか、又はX3とX4は一緒になってオクソ基
を表し、Y1は水素原子又は水酸基を表す) で示される25−ヒドロキシビタミンD誘導体[以下、こ
れを化合物(IV)と称する]に誘導される。
熱エネルギーによる異性化反応は、通常約0〜120℃
の範囲内の温度で行われる。この反応は通常溶媒中で行
われ、使用される溶媒としては、前述の化合物(III)
を化合物(I)に変換する反応において用いられる溶媒
などが挙げられる。
必要に応じて行われる水酸基の脱保護反応は、通常の
水酸基の脱保護において用いられる方法と同様にして行
われる。
このようにして得られた化合物(IV)の反応混合物か
らの単離・精製は、通常の有機化合物の単離・精製にお
いて用いられている方法と同様にして行われる。例え
ば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテル、酢酸
エチル、塩化メチレンなどの有機溶媒により抽出し、必
要に応じて希塩酸、希硫酸、重曹水、水、食塩水などで
洗浄することにより中性とし、硫酸ナトリウム、硫酸マ
グネシウムなどの乾燥剤を用いて脱水したのち、減圧下
に濃縮し、残渣を再結晶、クロマトグラフィなどにより
精製することにより行われる。
[実施例] 以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本
発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
実施例1 コレスタ−5,7−ジエン−3β,25−ジオール67.4mgを
ジエチルエーテル200mlに溶解し、得られた溶液にアル
ゴンガスを通じながら−2〜−5℃の範囲内の温度でフ
ッ化クリプトンエキシマレーザー(照射パワー1.5W、繰
り返し数70Hz)を用いて波長248nmの紫外レーザー光を1
8.75分間照射した。反応混合物を高速液体クロマトグラ
フィにより分析したところ、コレスタ−5,7−ジエン−
3β,25−ジオールの変換率は91%、(6E)−9,10−セ
ココレスタ−5(10),6,8−トリエン−3β,25−ジオ
ールの選択率は62%であった。反応終了後、反応混合物
を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロマトグラフィに
より精製し、(6E)−9,10−セココレスタ−5(10),
6,8−トリエン−3β,25−ジオール31.0mgを得た(収率
46%)。これをジエチルエーテル120mlに溶解し、得ら
れた溶液に9−フルオレノン18.0mgを加え、アルゴンガ
スを通じながら−2〜−5℃の範囲内の温度でフッ化キ
セノンエキシマレーザー(照射パワー0.5W、繰り返し数
70Hz)を用いて波長351nmの紫外レーザー光を7分間照
射した。反応混合物を高速液体クロマトグラフィにより
分析したところ、(6E)−9,10−セココレスタ−5(1
0),6,8−トリエン−3β,25−ジオールの変換率は90
%、(6Z)−9,10−セココレスタ−5(10),6,8−トリ
エン−3β,25−ジオールの選択率は86%であった。反
応終了後、反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液
体クロマトグラフィにより精製し、下記の物性値を示す
(6Z)−9,10−セココレスタ−5(10),6,8−トリエン
−3β,25−ジオールを20.3mgを得た(収率65%)。
紫外吸収スペクトル(λmax):260nm 質量スペクトル(m/z):400(M+) 実施例2 コレスタ−5,7−ジエン−3β,25−ジオール67.4mgを
ジエチルエーテル200mlに溶解し、得られた溶液にアル
ゴンガスを通じながら−2〜−5℃の範囲内の温度でフ
ッ化クリプトンエキシマレーザー(照射パワー1.5W、繰
り返し数70Hz)を用いて波長248nmの紫外レーザー光を1
8.75分間照射した。反応終了後、反応混合物に9−フル
オレノン30.4mgを加え、アルゴンガスを通じながら−2
〜−5℃の範囲内の温度でフッ化キセノンエキシマレー
ザー(照射パワー0.5W、繰り返し数70Hz)を用いて波長
351nmの紫外レーザー光を9分間照射した。反応混合物
を高速液体クロマトグラフィにより分析したところ、コ
レスタ−5,7ジエン−3β,25−ジオールの変換率は91
%、(6Z)−9,10−セココレスタ−5(10),6,8−トリ
エン−3β,25−ジオールの選択率は74%であった。反
応終了後、反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液
体クロマトグラフィにより精製し、実施例1で得られた
ものと同じ物性値を示す(6Z)−9,10−セココレスタ−
5(10),6,8−トリエン−3β,25−ジオールを34.5mg
を得た(収率51%)。
比較例1 コレスタ−5,7−ジエン−3β,25−ジオール67.4mgを
ジエチルエーテル200mlに溶解し、得られた溶液にアル
ゴンガスを通じながら5〜10℃の範囲内の温度で、400W
高圧水銀灯を用い、バイコール(Vycor)フィルタを通
して、3分間紫外線を照射した。反応混合物を高速液体
クロマトグラフィで分析したところ、コレスタ−5,7−
ジエン−3β,25−ジオールの変換率39%、(6Z)−9,1
0−セココレクター5(10),6,8−トリエン−3β,25−
ジオールの選択率は44%であった。反応終了後、反応混
合物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロマトグラフ
ィにより精製し、実施例1で得られたものと同じ物性値
を示す(6Z)−9,10−セココレスタ−5(10),6,8−ト
リエン−3β,25−ジオールを7.1mg得た(収率11%)。
参考例1 実施例2と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
9,10−セココレスタ−5(10),6,8−トリエン−3β,2
5−ジオールを含む反応混合物を得た。反応混合物減圧
下に濃縮し、残渣にヘキサン100mlを加え、アルゴン雰
囲気下に2時間加熱還流した。反応混合物を室温まで放
冷したのち、減圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロマト
グラフィで精製し、下記の物性値を示す9,10−セココレ
スタ−5,7,10(19)−トリエン−3β,25−ジオールを4
0.6mg得た(収率60%)。このものの物性値は文献値と
一致した。
紫外吸収スペクトル(λmax):265nm 質量スペクトル(m/z):400(M+) 比較例2 比較例1と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
9,10−セココレスタ−5(10),6,8−トリエン−3β,2
5−ジオールを含む反応混合物を得た。反応混合物を減
圧下に濃縮し、残渣にヘキサン100mlを加え、アルゴン
雰囲気下に2時間加熱還流した。反応混合物を高速液体
クロマトグラフィにより分析したところ、コレスタ−5,
7−ジエン−3β,25−ジオールの変換率43%、9,10−セ
ココレスタ−5,7,(10)(19)−トリエン−3β,25−
ジオールの選択率は42%であった。反応混合物を室温ま
で放冷したのち、減圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロ
マトグラフィにより精製し、参考例1で得られたものと
同じ物性値を示す9,10−セココレスタ−5,7,10(19)−
トリエン−3β,25−ジオール9.7mg得た(収率14%)。
実施例3 コレスタ−5,7−ジエン−3β,24,25−トリオール70.
1mgをジエチルエーテル−エタノール混合溶液200ml(容
量比2対1)に溶解し、得られた溶液に−5〜0℃の範
囲内の温度でフッ化クリプトンエキシマレーザー(照射
パワー1.5W、繰り返し数70Hz)を用いて波長248nmの紫
外レーザー光を20.5分間照射した。反応混合物を高速液
体クロマトグラフィにより分析したところ、コレスタ−
5,7−ジエン−3β,24,25−トリオールの変換率は91
%、(6E)−9,10−セココレスタ−5(10),6,8−トリ
エン−3β,24,25−トリオールの選択率は61%であっ
た。反応終了後、反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を
高速液体クロマトグラフィにより精製し、(6E)−9,10
−セココレスタ−5(10),6,8−トリエン−3β,24,25
−トリオール36.5mgを得た(収率52%)。これをジエチ
ルエーテル−エタノール混合溶液120ml(容量比2対
1)に溶解し、得られた溶液に9−フルオレノン19.8mg
を加え、アルゴンガスを通じながら−5〜10℃の範囲内
の温度でフッ化キセノンエキシマレーザー(照射パワー
0.5W、繰り返し数70Hz)を用いて波長351nmの紫外レー
ザー光を50分間照射した。反応終了後、反応混合物を減
圧下に濃縮し、残渣を高速液体クロマトグラフィにより
精製し、下記の物性値を示す(6Z)−9,10−セココレス
タ−5(10),6,8−トリンエン−3β,24,25−トリオー
ルを21.7mgを得た(収率59%)。
紫外吸収スペクトル(λmax):261nm 質量スペクトル(m/z):416(M+) 実施例4 コレスタ−5,7−ジエン−3β,24,25−トリオール70.
1mgをジエチルエーテル−エタノール混合溶液200ml(容
量比2対1)に溶解し、得られた溶液にアルゴンガスを
通じながら−5〜0℃の範囲内の温度でフッ化クリプト
ンエキシマレーザー(照射パワー1.5W、繰り返し数70H
z)を用いて波長248nmの紫外レーザー光を20.5分間照射
した。反応終了後、反応混合物に9−フルオレノン30.4
mgを加え、アルゴンガスを通じながら−5〜0℃の範囲
内の温度でフッ化キセノンエキシマレーザー(照射パワ
ー0.5W、繰り返し数70Hz)を用いて波長351nmの紫外レ
ーザー光を85分間照射した。反応混合物を高速液体クロ
マトグラフィにより分析したところ、コレスタ−5,7−
ジエン−3β,24,25−トリオールの変換率は90%、(6
Z)−9,10−セココレスタ−5(10),6,8−トリエン−
3β,24,25−トリオールの選択率は67%であった。反応
終了後、反応混合物を減圧下に濃縮し、残渣を高速液体
クロマトグラフィにより精製し、実施例3で得られたも
のと同じ物性値を示す(6Z)−9,10−セココレスタ−5
(10),6,8−トリンエン−3β,24,25−トリオールを3
6.0mgを得た(収率51%)。
参考例2 実施例4と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
9,10−セココレスタ−5(10),6,8−トリンエン−3
β,24,25−トリオールを含む反応混合物を得た。反応混
合物を減圧下に濃縮し、得られた残渣にヘキサン100ml
を加え、アルゴン雰囲気下に2時間加熱還流した。反応
混合物を高速液体クロマトグラフィにより分析したとこ
ろ、コレスタ−5,7−ジエン−3β,24,25−トリオール
の変換率は91%、9,10−セココレスタ−5,7,10(19)−
トリエン−3β,24,25−トリオールの選択率は68%であ
った。反応混合物を室温まで放冷したのち、減圧下に濃
縮し、残渣を高速液体クロマトグラフィにより精製、下
記の物性値を示す9,10−セココレスタ−5,7,10(19)−
トリエン−3β,24,25−トリオールを41.9mg得た(収率
60%)。このものの物性値は文献値と一致した。
紫外吸収スペクトル(λmax):265nm 質量スペクトル(m/z):416(M+) 実施例5 実施例2においてコレスタ−5,7−ジエン−3β,24,2
5−ジオール67.4mgの代わりに25,26−O−イソプロピリ
デン−3−メトキシカルボニルオキシコレスタ−5,7−
ジエン−25,26−ジオール82.2mgを用い、9−フルオレ
ノン30.4mgの代わりにベンゾフェノン29.1mgを用い、か
つフッ化キセノンエキシマレーザー(照射パワー0.5W、
繰り返し数70Hz)を用いて波長351nmの紫外レーザー光
を9分間照射する代わりに窒素レーザー(照射パワー0.
1W、繰り返し数20Hz)を用いて波長337nmの紫外レーザ
ー光を30分間照射した以外は同様にして反応及び分離操
作を行うことにより、下記の物性値を示す(6Z)−25,2
6−O−イソプロピリイデン−3−メトキシカルボニル
オキシ−9,10−セココレスタ−5(10),6,8−トリエン
−25,26−ジオールを38.4mg得た(収率47%)。
紫外吸収スペクトル(λmax):261nm 質量スペクトル(m/z):514(M+) 参考例3 実施例5と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
25,26−O−イソプロピリイデン−3−メトキシカルボ
ニルオキシ−9,10−セココレスタ−5(10),6,8−トリ
エン−25,26−ジオールを含む反応混合物を得た。反応
混合物を減圧下に濃縮したのち、残渣にヘキサン100ml
を加え、アルゴン雰囲気下に2時間加熱還流した。反応
混合物を室温まで放冷したのち、減圧下に濃縮した。残
渣にメタノール5ml及びp−トルエンスルホン酸10mgを
加え、アルゴン雰囲気下に室温で4時間撹拌した。反応
混合物を重曹で中和し、減圧下にメタノールを留去し
た。残渣を酢酸エチルで希釈し、水及び食塩水で順次洗
浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下に濃縮した。
残渣にメタノール5ml及び水酸化カリウム20mgを加え、
アルゴン雰囲気下に1時間加熱還流した。反応混合物を
室温まで放冷したのち、水を加え、酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
したのち、減圧下に濃縮した。残渣を高速液体クロマト
グラフィにより精製し、下記の物性値を示す9,10−セコ
コレスタ−5,7,10(19)−トリエン−3β,25,26,−ト
リオールを41.3mg得た(収率62%)。このものの物性値
は文献値と一致した。
紫外吸収スペクトル(λmax):265nm 質量スペクトル(m/z):416(M+) 実施例6 実施例1においてコレスタ−5,7−ジエン−3β,25−
ジオール67.4mgの代わりに3β−(テトラヒドロピラン
−2−イル)オキシコレスタ−5,7−ジエン−24−オン
−25−オール80.0mgを用いた以外は同様にして反応及び
分離操作を行うことにより、下記の物性値を示す(6Z)
−3−β−(テトラヒドロピラン−2−イル)オキシ−
9,10−セココレスタ−5(10),6,8−トリエン−24−オ
ン−25−オール42.7mgを得た(収率53%)。
紫外吸収スペクトル(λmax):261nm 質量スペクトル(m/z):500(M+) 参考例4 実施例6と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
3−β−(テトラヒドロピラン−2−イル)オキシ−9,
10−セココレスタ−5(10),6,8−トリエン−24−オン
−25−オールを含む反応混合物を得た。反応混合物を減
圧下に濃縮し、残渣にヘキサン100mlを加え、アルゴン
雰囲気下に2時間加熱還流した。反応混合物を室温まで
放冷したのち、減圧下に濃縮した。残渣をメタノール5m
lに溶解し、得られた溶解にp−トルンエンスルホン酸
ピリジニウム5mgを加え、アルゴン雰囲気下に室温で3
時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、食塩
水で洗浄したのち、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下
に濃縮した。残渣を高速液体クロマトグラフィにより精
製し、下記の物性値を示す9,10−セココレスタ−5,7,10
(19)−トリエン−24−オン−3β−25−ジオールを3
9.2mgを得た(収率59%)。このものの物性値は文献値
と一致した。
紫外吸収スペクトル(λmax):265nm 質量スペクトル(m/z):414(M+) 実施例7 3β−アセトキシコレスタ−5,7−ジエン−25−オー
ル70.7mgをジエチルエーテル200mlに溶解し、得られた
溶液にアルゴンガスを通じながら−5〜0℃の範囲内の
温度でYAGレーザーの第4高調波(照射パワー1W、繰り
返し数50Hz;波長266nm)を25.3分間照射した。反応終了
後、反応混合物に9−フルオレノン30.4mgを加え、アル
ゴンガスを通じながら−5〜0℃の範囲内の温度でYAG
レーザーの第3高調波(照射パワー1W、繰り返し数50H
z;波長355nm)を34分間照射した。反応混合物を減圧下
に濃縮し、残渣を高速液体クロマトグラフィにより精製
し、下記の物性値を示す(6Z)−3β−アセトキシ−9,
10−セココレスタ−5(10),6,8−トリエン−25−オー
ルを35.1mg得た(収率50%)。
紫外吸収スペクトル(λmax):262nm 質量スペクトル(m/z):442(M+) 参考例5 実施例7と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
3β−アセトキシ−9,10−セココレスタ−5(10),6,8
−トリエン−25−オールを含む反応混合物を得た。反応
混合物を減圧下に濃縮し、残渣にヘキサン100mlを加
え、アルゴン雰囲気下に2時間加熱還流した。反応混合
物を室温まで放冷したのち、減圧下に濃縮した。残渣に
メタノール10ml及び炭酸カリウム10mgを加え、アルゴン
雰囲気下に室温で3時間撹拌した。反応混合物を水で希
釈し、酢酸エチルで抽出し、抽出液を食塩水で洗浄し、
硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣を
高速液体クロマトグラフィにより精製し、参考例1で得
られたものと同じ物性値を示す9,10−セココレスタ−5,
7,10(19)−トリエン−3β,25−ジオールを37.7mg得
た(収率59%)。
実施例8 実施例1においてコレスタ−5,7,ジエン−3β,25−
ジオール67.4mgの代わりに3β−tert−ブチルジメチル
シリルオキシコレスタ−5,7−ジエン−24,25−ジオール
84.8mgを用いた以外は同様にして反応及び分離操作を行
うことにより、下記の物性値を示す(6Z)−3β−tert
−ブチルジメチルシリルオキシ−9,10−セココレスタ−
5(10),6,8−トリエン−24,25−ジオールを40.9mg得
た(収率48%)。
紫外吸収スペクトル(λmax):261nm 質量スペクトル(m/z):530(M+) 参考例6 実施例8と同様にして反応を行うことにより(6Z)−
3β−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−9,10−セコ
コレスタ−5(10),6,8−トリエン−24,25−ジオール
を含む反応混合物を得た。反応混合物を減圧下に濃縮
し、得られた残渣にヘキサン100mlを加え、アルゴン雰
囲気下に2時間加熱還流した。反応混合物を室温まで放
冷したのち、減圧下に濃縮した。残渣をテトラヒドロフ
ラン10mlに溶解し、得られた溶液に1規定フッ化テトラ
ブチルアンモニウム−テトラヒドロフラン溶液0.5mlを
加え、アルゴン雰囲気下に室温で4時間撹拌した。反応
混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出し、抽出液を重曹
水及び食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
し、減圧下に濃縮した。残渣を高速液体クロマトグラフ
ィにより精製し、参考例3において得られたものと同じ
物性値を示す9,10−セココレスタ5,7,10(19)−トリエ
ン−3β,24,250トリオールを41.3mg得た(収率62
%)。
[発明の効果] 本発明によれば、化合物(II)を選択的にかつ収率よ
く製造することができる。
本発明により製造される化合物(II)は化合物(IV)
に容易に誘導される。本発明によれば選択的かつ収率よ
く化合物(II)が得られることから、紫外レーザー光照
射後に得られる反応混合物からの化合物(II)の分離操
作が極めて容易となり、また前記反応混合物をそのまま
又は該反応混合物から分離された化合物(II)を熱エネ
ルギーによる異性化反応、次いで必要に応じて水酸基の
脱保護反応に対する場合には、得られる反応混合物から
の化合物(IV)の分離操作が極めて容易となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村松 岳彦 東京都江東区豊洲3丁目1番15号 石川 島播磨重工業株式会社内 (72)発明者 森 実紀夫 東京都江東区豊洲3丁目1番15号 石川 島播磨重工業株式会社内 (72)発明者 天野 壮泰 東京都江東区豊洲3丁目1番15号 石川 島播磨重工業株式会社内 審査官 藤森 知郎 (56)参考文献 特公 昭50−37665(JP,B1) J.Am.Chem.Soc.103 (1981)P.6781〜P.6783 J.Am.Chem.Soc.104 (1982)P.5780〜P.5781

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 (式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子又は水酸基の保護
    基を表し、X1は水素原子若しくは式−OR3で示される基
    を表し、かつX2は水素原子を表すか、又はX1とX2は一緒
    になってオクソ基を表し、Yは水素原子又は式−OR4
    示される基を表し、R3及びR4はそれぞれ水素原子又は水
    酸基の保護基を表す) で示される25−ヒドロキシタキステロール誘導体に波長
    280〜400nmの範囲から選ばれる波長を有する紫外レーザ
    ー光を照射することを特徴とする一般式 (式中、R1、R2、X1、X2及びYはそれぞれ前記定義のと
    おりである) で示される25−ヒドロキシプレビタミンD誘導体の製造
    方法。
  2. 【請求項2】一般式 (式中、R1、R2、X1、X2及びYはそれぞれ請求項1記載
    の定義のとおりである) で示される25−ヒドロキシプレビタミンD誘導体に波長
    190〜310nmの範囲から選ばれる波長を有する紫外レーザ
    ー光と波長280〜400nmの範囲から選ばれ、かつ前記の紫
    外レーザー光よりも長い波長を有する紫外レーザー光を
    逐次的に又は同時に照射することを特徴とする一般式 (式中、R1、R2、X1、X2及びYはそれぞれ前記定義のと
    おりである) で示される25−ヒドロキシプレビタミンD誘導体の製造
    方法。
  3. 【請求項3】一般式 (式中、R1、R2、X1、X2及びYはそれぞれ請求項1記載
    の定義のとおりである) で示される25−ヒドロキシプロビタミンD誘導体に波長
    190〜310nmの範囲から選ばれる波長を有する紫外レーザ
    ー光を照射することにより一般式 (式中、R1、R2、X1、X2及びYはそれぞれ前記定義のと
    おりである) で示される25−ヒドロキシタキステロール誘導体を得、
    該25−ヒドロキシタキステロール誘導体に波長280〜400
    nmの範囲から選ばれ、かつ前記の紫外レーザー光よりも
    長い波長を有する紫外レーザー光を照射することを特徴
    とする一般式 (式中、R1、R2、X1、X2及びYはそれぞれ前記定義のと
    おりである) で示される25−ヒドロキシプレビタミンD誘導体の製造
    方法。
JP2199476A 1990-07-26 1990-07-26 25―ヒドロキシプレビタミンd誘導体の製造方法 Expired - Lifetime JP2752509B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2199476A JP2752509B2 (ja) 1990-07-26 1990-07-26 25―ヒドロキシプレビタミンd誘導体の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2199476A JP2752509B2 (ja) 1990-07-26 1990-07-26 25―ヒドロキシプレビタミンd誘導体の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0489476A JPH0489476A (ja) 1992-03-23
JP2752509B2 true JP2752509B2 (ja) 1998-05-18

Family

ID=16408438

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2199476A Expired - Lifetime JP2752509B2 (ja) 1990-07-26 1990-07-26 25―ヒドロキシプレビタミンd誘導体の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2752509B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ATE350150T1 (de) 1998-07-03 2007-01-15 Chugai Pharmaceutical Co Ltd Ultraviolett-bestrahlungsvorrichtung für photochemische reaktionen und verfahren zur zubereitung von vitamin-d-präparaten unter verwendung der vorrichtung

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
J.Am.Chem.Soc.103(1981)P.6781〜P.6783
J.Am.Chem.Soc.104(1982)P.5780〜P.5781

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0489476A (ja) 1992-03-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
GB2142922A (en) Steroid intermediates in the synthesis of-hydroxyvitamin d2
IE50426B1 (en) Vitamin d derivatives
US4284577A (en) Novel vitamin D3 derivative and process for preparing the same
JPS591278B2 (ja) 7−デヒドロコレステロ−ル誘導体及びその製造方法
JP2752507B2 (ja) 1α―ヒドロキシプレビタミンD誘導体の製造方法
JP2752506B2 (ja) 1α―ヒドロキシタキステロール誘導体の製造方法
JP2752509B2 (ja) 25―ヒドロキシプレビタミンd誘導体の製造方法
Morzycki et al. Synthesis of 25-hydroxyvitamin D2 and its 24-epimer
CA3136913A1 (en) Improved, cost effective process for synthesis of vitamin d3 and its analogue calcifediol from ergosterol
JP2752508B2 (ja) 25―ヒドロキシタキステロール誘導体の製造方法
US4292249A (en) 25-Hydroxy-24-oxocholestane derivatives and preparation thereof
US4038272A (en) Stereospecific syntheses of 24r,25- and 24s,25-dihydroxycholesterol and alkanoyl derivatives thereof
JPH05222089A (ja) 1α,3β,25−トリヒドロキシ−24−ホモコレスタ−5,22−ジエン化合物
US4397847A (en) Method of treatment
JPS643880B2 (ja)
JP3105973B2 (ja) 活性型ビタミンd誘導体の製造法
JP2984406B2 (ja) ステロイド誘導体の製造法
JP2695473B2 (ja) 24―オキソステロイド誘導体及びその製造方法
JP3227263B2 (ja) 光学活性オレフィンの製造方法
JP2782244B2 (ja) 新規なビタミンd▲下2▼フッ素誘導体
JP2925382B2 (ja) 1α−ヒドロキシビタミンD2誘導体の製造方法
JP2856838B2 (ja) ステロイド誘導体の製造方法
JP2714392B2 (ja) ステロイド誘導体の製造法
JP3483155B2 (ja) 1α,25−ジヒドロキシビタミンD4およびD7の製造法
JPH06256302A (ja) 1−低級アルキルビタミンd誘導体