JPH0467605B2 - - Google Patents
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- JPH0467605B2 JPH0467605B2 JP21340484A JP21340484A JPH0467605B2 JP H0467605 B2 JPH0467605 B2 JP H0467605B2 JP 21340484 A JP21340484 A JP 21340484A JP 21340484 A JP21340484 A JP 21340484A JP H0467605 B2 JPH0467605 B2 JP H0467605B2
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 36
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 claims description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
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- Optical Transform (AREA)
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、三角測量方式の測距装置に関するも
のである。
のである。
従来、この種の三角測量方式の測距装置は第８
図に示すように、発光ダイオードよりなる投光素
子１２および投光用レンズ１３にて構成さ、被測
定物体Ｍに対して光ビームを投光する投光手段１
と、被測定物体Ｍからの反射光を受光して集光す
る受光用レンズ２０よりなる受光手段２とを所定
間隔BLをもつて配設し、集光スポツトＳの位置
に対応した位置信号を出力する１次元位置センサ
（PSD）３０よりなる位置検出手段３と、位置検
出手段３の出力に基いて被測定物体Ｍまでの距離
を演算する演算手段（図示せず）とで構成されて
いる。ここに、１次元位置センサ３０は第９図に
示すように、pin構造のフオトダイオードに属す
る両端に出力電極O1，O2を形成した光起電力素
子であり、表面に光スポツトS′が照射されると、
高抵抗のＰ層が光の入射位置と両出力電極O1，
O2までの距離に逆比例して分割され、各出力電
極O1，O2から光スポツトS′の位置に応じた出力
電流I1，I2が出力されるようになつている。この
場合、１次元位置センサ３０の長さをＬ、光スポ
ツトS′の一端部からの距離をXiとすれば、距離
Xiと出力電流I1，I2の関係は、 １／Xi＝（１＋I1／I2）／Ｌ ……(1) となる。なお、第１０図は等価回路図であり、出
力電極O1，O2に接続される負荷ZLには、Ｐ層の
分割抵抗Z1，Z2を介して電流源Ｉより電流I1，I2
が流れるようになつている。
図に示すように、発光ダイオードよりなる投光素
子１２および投光用レンズ１３にて構成さ、被測
定物体Ｍに対して光ビームを投光する投光手段１
と、被測定物体Ｍからの反射光を受光して集光す
る受光用レンズ２０よりなる受光手段２とを所定
間隔BLをもつて配設し、集光スポツトＳの位置
に対応した位置信号を出力する１次元位置センサ
（PSD）３０よりなる位置検出手段３と、位置検
出手段３の出力に基いて被測定物体Ｍまでの距離
を演算する演算手段（図示せず）とで構成されて
いる。ここに、１次元位置センサ３０は第９図に
示すように、pin構造のフオトダイオードに属す
る両端に出力電極O1，O2を形成した光起電力素
子であり、表面に光スポツトS′が照射されると、
高抵抗のＰ層が光の入射位置と両出力電極O1，
O2までの距離に逆比例して分割され、各出力電
極O1，O2から光スポツトS′の位置に応じた出力
電流I1，I2が出力されるようになつている。この
場合、１次元位置センサ３０の長さをＬ、光スポ
ツトS′の一端部からの距離をXiとすれば、距離
Xiと出力電流I1，I2の関係は、 １／Xi＝（１＋I1／I2）／Ｌ ……(1) となる。なお、第１０図は等価回路図であり、出
力電極O1，O2に接続される負荷ZLには、Ｐ層の
分割抵抗Z1，Z2を介して電流源Ｉより電流I1，I2
が流れるようになつている。
また、(1)式はＬ：Xi＝（Z1＋Z2）：Z1から導出
される。
される。
いま、投光手段１からはスポツト径Ａに絞り込
まれた光ビームが投光されており、この光ビーム
の被測定物体Ｍによる反射光（拡散光）は受光手
段２によつて位置検出手段３上に集光され、この
集光スポツトＳの位置検出センサ３０上の位置
（距離Ｘ）に対応する出力電流I1，I2が位置検出
手段３から出力される。演算手段では位置検出手
段３から出力される集光スポツトＳの位置情報に
基いて被測定物体Ｍまでの距離Ｒが演算される。
ここに、受光用レンズ２０の焦点距離をＦ、受光
用レンズ２０の光軸から集光スポツトＳの中心位
置までの距離をＸとすれば、 Ｘ＝BL・Ｆ／Ｒ ……(2) となり、被測定物体Ｍまでの距離Ｒと、集光スポ
ツトＳの中心位置Ｘとは逆比例関係になつてい
る。ところで、このような測距装置にあつては、
被測定物体Ｍの反射率あるいは投光手段１から投
光される光ビームのレベルによる測距誤差が防止
されるようになつているものの、集光スポツトＳ
がビーム径Ａを持つていることによる測距誤差を
生じるという問題があつた。すなわち、光ビーム
径Ａがある程度の大きさを持つている場合におい
て、位置検出手段３上に集光された集光スポツト
Ｓもある径A′（所定の倍率で縮小されている）を
持つて分布している。ここに、被測定物体Ｍ表面
の反射率が一様であれば、集光スポツトＳの光強
度分布は第１１図ａに示すように投光された光ビ
ームと同様の分布を示し、輝度重心Ｗが集光スポ
ツトＳの中心位置Ｘに一致するので、輝度重心Ｗ
に基いた信号であるところの位置検出センサ３０
からの出力電流I1，I2は被測定物体Ｍまでの距離
Ｒに正確に対応した距離信号となり、測距誤差は
殆ど発生しない。しかしながら、被測定物体Ｍに
反射むらがあると、集光スポツトＳの光強度分布
は例えば第１１図ｂに示すようにピーク値が一方
にずれたものとなり、輝度重心Ｗが集光スポツト
Ｓの中心位置ＸからΔXだけずれることになる。
したがつて、位置検出手段３の出力電流I1，I2は
被測定物体Ｍまでの距離Ｒに対応しなくなり、測
距誤差が生じることになる。この場合測距誤差
ΔXの最大値ΔXmaxは ΔXmax＝Ａ・Ｆ／2R ……(3) となり、誤差率は 誤差率＝ΔXmax／Ｘ＝Ａ／2BL ……(4) となる。
まれた光ビームが投光されており、この光ビーム
の被測定物体Ｍによる反射光（拡散光）は受光手
段２によつて位置検出手段３上に集光され、この
集光スポツトＳの位置検出センサ３０上の位置
（距離Ｘ）に対応する出力電流I1，I2が位置検出
手段３から出力される。演算手段では位置検出手
段３から出力される集光スポツトＳの位置情報に
基いて被測定物体Ｍまでの距離Ｒが演算される。
ここに、受光用レンズ２０の焦点距離をＦ、受光
用レンズ２０の光軸から集光スポツトＳの中心位
置までの距離をＸとすれば、 Ｘ＝BL・Ｆ／Ｒ ……(2) となり、被測定物体Ｍまでの距離Ｒと、集光スポ
ツトＳの中心位置Ｘとは逆比例関係になつてい
る。ところで、このような測距装置にあつては、
被測定物体Ｍの反射率あるいは投光手段１から投
光される光ビームのレベルによる測距誤差が防止
されるようになつているものの、集光スポツトＳ
がビーム径Ａを持つていることによる測距誤差を
生じるという問題があつた。すなわち、光ビーム
径Ａがある程度の大きさを持つている場合におい
て、位置検出手段３上に集光された集光スポツト
Ｓもある径A′（所定の倍率で縮小されている）を
持つて分布している。ここに、被測定物体Ｍ表面
の反射率が一様であれば、集光スポツトＳの光強
度分布は第１１図ａに示すように投光された光ビ
ームと同様の分布を示し、輝度重心Ｗが集光スポ
ツトＳの中心位置Ｘに一致するので、輝度重心Ｗ
に基いた信号であるところの位置検出センサ３０
からの出力電流I1，I2は被測定物体Ｍまでの距離
Ｒに正確に対応した距離信号となり、測距誤差は
殆ど発生しない。しかしながら、被測定物体Ｍに
反射むらがあると、集光スポツトＳの光強度分布
は例えば第１１図ｂに示すようにピーク値が一方
にずれたものとなり、輝度重心Ｗが集光スポツト
Ｓの中心位置ＸからΔXだけずれることになる。
したがつて、位置検出手段３の出力電流I1，I2は
被測定物体Ｍまでの距離Ｒに対応しなくなり、測
距誤差が生じることになる。この場合測距誤差
ΔXの最大値ΔXmaxは ΔXmax＝Ａ・Ｆ／2R ……(3) となり、誤差率は 誤差率＝ΔXmax／Ｘ＝Ａ／2BL ……(4) となる。
そこで、このような問題を解決するには光ビー
ム径Ａを小さくするか、投光手段１と受光手段２
との間の間隔（基線長）BLを大きくすれば良い
ことになるが、前者にあつては光学系が複雑にな
るとともに、光損失が大きくなるという不都合が
あり、後者にあつては光学系が大きくなつてしま
うという不都合があつた。
ム径Ａを小さくするか、投光手段１と受光手段２
との間の間隔（基線長）BLを大きくすれば良い
ことになるが、前者にあつては光学系が複雑にな
るとともに、光損失が大きくなるという不都合が
あり、後者にあつては光学系が大きくなつてしま
うという不都合があつた。
本発明は上記の点に鑑みて為されたものであ
り、その目的とするところは、光ビーム径がある
程度大きくても測距誤差を少なくすることがで
き、しかも、構造が簡単で小型の測距装置を提す
ることにある。
り、その目的とするところは、光ビーム径がある
程度大きくても測距誤差を少なくすることがで
き、しかも、構造が簡単で小型の測距装置を提す
ることにある。
実施例 １
第１図乃至第４図は本発明一実施例を示すもの
であり、従来例と同様の測距装置において、２個
の位置検出手段３ａ，３ｂを等位な受光位置に配
設するとともに、各位置検出手段３ａ，３ｂに集
光スポツトSa，Sbの移動方向に多数のスリツト
５が列設されたスリツト板６ａ，６ｂをスリツト
５が互いに等位な受光位置にならないように覆着
し、演算手段４にて両位置検出手段３ａ，３ｂ出
力を平均化した位置データに基いて被測定物体Ｍ
までの距離Ｒを演算するようにしたものであり、
ハーフミラー７は受光用レンズにより集光された
光を分波して位置検出手段３ａ，３ｂ上にそれぞ
れ集光させるビームスプリツタである。また、ス
リツト板６ａ，６ｂの各スリツト５のスリツト幅
はスリツトピツチＰの１／２となつており、各ス
リツト板６ａ，６ｂはスリツト５がＰ／２ずれる
ようにして位置検出手段３ａ，３ｂを形成する位
置検出センサ３０の受光面３０ａに覆着すること
により、等位な受光位置にならないようにしてあ
る。さらに、演算手段４は第４図に示すように、
各位置検出手段３ａ，３ｂの各出力電流I1，I2を
電圧信号Va1，Va2，Vb1，Vb2に変換するとと
もにバンドパスフイルタを具備した受光回路４０
a1，４０a2，４０b1，４０b2と、減算回路４２、
加算回路４３および除算回路４４にて形成される
２個の演算処理回路４１ａ，４１ｂと、両演算処
理回路４１ａ，４１ｂ出力（Va1−Va2）／
（Va1＋Va2）、（Vb1−Vb2）／（Vb1＋Vb2）を
平均化する平均化回路４５と、平均化回路４５出
力を信号処理して得られる距離データを出力回路
４７を介して出力する信号処理回路４６とで構成
されている。さらにまた、投光手段１の投光素子
１２は発振回路１０出力にてドライブ回路１１を
介して一定周期で点滅駆動されており、信処理回
路４６ではこの発振回路１０出力に同期して信号
処理を行うことによつて外乱光による誤動作を防
止するようになつている。
であり、従来例と同様の測距装置において、２個
の位置検出手段３ａ，３ｂを等位な受光位置に配
設するとともに、各位置検出手段３ａ，３ｂに集
光スポツトSa，Sbの移動方向に多数のスリツト
５が列設されたスリツト板６ａ，６ｂをスリツト
５が互いに等位な受光位置にならないように覆着
し、演算手段４にて両位置検出手段３ａ，３ｂ出
力を平均化した位置データに基いて被測定物体Ｍ
までの距離Ｒを演算するようにしたものであり、
ハーフミラー７は受光用レンズにより集光された
光を分波して位置検出手段３ａ，３ｂ上にそれぞ
れ集光させるビームスプリツタである。また、ス
リツト板６ａ，６ｂの各スリツト５のスリツト幅
はスリツトピツチＰの１／２となつており、各ス
リツト板６ａ，６ｂはスリツト５がＰ／２ずれる
ようにして位置検出手段３ａ，３ｂを形成する位
置検出センサ３０の受光面３０ａに覆着すること
により、等位な受光位置にならないようにしてあ
る。さらに、演算手段４は第４図に示すように、
各位置検出手段３ａ，３ｂの各出力電流I1，I2を
電圧信号Va1，Va2，Vb1，Vb2に変換するとと
もにバンドパスフイルタを具備した受光回路４０
a1，４０a2，４０b1，４０b2と、減算回路４２、
加算回路４３および除算回路４４にて形成される
２個の演算処理回路４１ａ，４１ｂと、両演算処
理回路４１ａ，４１ｂ出力（Va1−Va2）／
（Va1＋Va2）、（Vb1−Vb2）／（Vb1＋Vb2）を
平均化する平均化回路４５と、平均化回路４５出
力を信号処理して得られる距離データを出力回路
４７を介して出力する信号処理回路４６とで構成
されている。さらにまた、投光手段１の投光素子
１２は発振回路１０出力にてドライブ回路１１を
介して一定周期で点滅駆動されており、信処理回
路４６ではこの発振回路１０出力に同期して信号
処理を行うことによつて外乱光による誤動作を防
止するようになつている。
以下、実施例の動作について説明する。いま、
被測定物体Ｍの反射率が一様でなく、第５図ａ，
ｂに示すように、光ビームの輝度重心Ｗが一方に
ずれた集光スポツトSa，Sbが各位置検出手段３
ａ，３ｂ上に集光されている場合において、各位
置検出手段３ａ，３ｂの受光面には各スリツト板
６ａ，６ｂのスリツト５を通して光が照射される
ことになるので、集光スポツトSa，Sbのスリツ
ト５にて分割された半部の輝度重心Wa，Wbに
基いた出力電流I1，I2が位置検出手段３ａ，３ｂ
からそれぞれ出力されることになる。すなわち、
集光スポツトSa，Sbの中心位置は、各位置検出
手段３ａ，３ｂにて、あたかもXa，Xbであるか
のように検出される。この位置検出信号たる出力
電流Ia1，Ia2，Ib1，Ib2は演算処理部４１ａ，４
１ｂにて演算され、平均化回路４５にて平均化さ
れて信号処理回路４６に送られ、この平均化回路
４５出力に基いて得られる測距データが出力回路
４７を介して出力される。この場合、測距データ
は集光スポツトSa，Sbの位置検出手段３ａ，３
ｂにて検出された中心位置Xa，Xbの平均値Xc
に対応したものであり、この平均値Xcと集光ス
ポツトSa，Sbの中心位置ＸとのずれΔX′は従来
例における△Ｘに比べて大幅に小さくなる。した
がつて、投光手段１から投光される光ビームのビ
ーム径Ａがある程度大きく、被測定物体Ｍによる
反射むらがあつても測距誤差を少なくできること
になる。
被測定物体Ｍの反射率が一様でなく、第５図ａ，
ｂに示すように、光ビームの輝度重心Ｗが一方に
ずれた集光スポツトSa，Sbが各位置検出手段３
ａ，３ｂ上に集光されている場合において、各位
置検出手段３ａ，３ｂの受光面には各スリツト板
６ａ，６ｂのスリツト５を通して光が照射される
ことになるので、集光スポツトSa，Sbのスリツ
ト５にて分割された半部の輝度重心Wa，Wbに
基いた出力電流I1，I2が位置検出手段３ａ，３ｂ
からそれぞれ出力されることになる。すなわち、
集光スポツトSa，Sbの中心位置は、各位置検出
手段３ａ，３ｂにて、あたかもXa，Xbであるか
のように検出される。この位置検出信号たる出力
電流Ia1，Ia2，Ib1，Ib2は演算処理部４１ａ，４
１ｂにて演算され、平均化回路４５にて平均化さ
れて信号処理回路４６に送られ、この平均化回路
４５出力に基いて得られる測距データが出力回路
４７を介して出力される。この場合、測距データ
は集光スポツトSa，Sbの位置検出手段３ａ，３
ｂにて検出された中心位置Xa，Xbの平均値Xc
に対応したものであり、この平均値Xcと集光ス
ポツトSa，Sbの中心位置ＸとのずれΔX′は従来
例における△Ｘに比べて大幅に小さくなる。した
がつて、投光手段１から投光される光ビームのビ
ーム径Ａがある程度大きく、被測定物体Ｍによる
反射むらがあつても測距誤差を少なくできること
になる。
実施例 ２
第６図は他の実施例を示すもので、３個の位置
検出手段３ａ，３ｂ，３ｃを等位な受光位置に配
設し、各位置検出手段３ａ，３ｂ，３ｃにスリツ
ト幅がピツチＰの３分の１が列設されたスリツト
板６ａ，６ｂ，６ｃを被着することにより、測距
誤差をより少なくするようにしたものであり、各
スリツト板６ａ，６ｂ，６ｃは、スリツト５が
Ｐ／３づつずらせて位置検出手段に覆着され、各
スリツト板６ａ，６ｂ，６ｃのスリツト５が互い
に等位な受光位置にならないようにしている。な
お、Ｎ個の位置検出手段を設ける場合にはスリツ
ト５の幅はＰ／Ｎとなり、各位置検出手段に対応
して演算処理回路が設けられることは言うまでも
ない。
検出手段３ａ，３ｂ，３ｃを等位な受光位置に配
設し、各位置検出手段３ａ，３ｂ，３ｃにスリツ
ト幅がピツチＰの３分の１が列設されたスリツト
板６ａ，６ｂ，６ｃを被着することにより、測距
誤差をより少なくするようにしたものであり、各
スリツト板６ａ，６ｂ，６ｃは、スリツト５が
Ｐ／３づつずらせて位置検出手段に覆着され、各
スリツト板６ａ，６ｂ，６ｃのスリツト５が互い
に等位な受光位置にならないようにしている。な
お、Ｎ個の位置検出手段を設ける場合にはスリツ
ト５の幅はＰ／Ｎとなり、各位置検出手段に対応
して演算処理回路が設けられることは言うまでも
ない。
実施例 ３
第７図は第２の発明の実施例を示すもので、位
置検出手段３に覆着されるスリツト板６をスリツ
ト５の列設方向（矢印方向）に振動させる振動手
段（図示せず）を設け、演算手段４にて位置検出
手段３出力の積分値に基いて被測定物体Ｍまでの
距離を演算するようにしたものであり、振動手段
によるスリツト板６の振動振幅はＰ／２となつて
いる。なお、この場合における演算手段４は、第
４図回路における一方の演算処理回路４１ａの除
算回路４４出力を積分する積分回路を設け、この
積分回路出力を信号処理回路４６にて信号処理
し、出力回路４７を介して測距データを出力する
ようにしたものとなる。
置検出手段３に覆着されるスリツト板６をスリツ
ト５の列設方向（矢印方向）に振動させる振動手
段（図示せず）を設け、演算手段４にて位置検出
手段３出力の積分値に基いて被測定物体Ｍまでの
距離を演算するようにしたものであり、振動手段
によるスリツト板６の振動振幅はＰ／２となつて
いる。なお、この場合における演算手段４は、第
４図回路における一方の演算処理回路４１ａの除
算回路４４出力を積分する積分回路を設け、この
積分回路出力を信号処理回路４６にて信号処理
し、出力回路４７を介して測距データを出力する
ようにしたものとなる。
いま、実施例３にあつては、第７図ｂに示すよ
うに、駆動回路４８によつてスリツト板６をＰ／
２の振幅（ａ〜ｂ）で振動させ、位置検出手段３
から出力される検出信号を受光回路４０a1，４０
a2および演算処理回路４１ａにて実施例１と同様
に信号処理し、除算回路４４から出力される信号
を積分回路４５ａにて積分処理して実施例１の平
均化回路４５から出力される信号と同等の信号を
得るようにしている。すなわち、スリツト板６が
ａに位置するときの除算回路４４出力をVaとし、
スリツト板６がｂに位置するときの除算回路４４
出力をVbとすれば、積分回路４４出力Ｖとして
（Va＋Vb）／２に相当する信号が得られること
になる。したがつて、積分回路４４出力として平
均化された測距誤差の少ない測距信号が得られ、
しかも、本実施例では、１個の位置検出手段３を
用いているだけであるので、実施例１に比べて構
成が簡単になつて小型化でき、コストを安くする
ことができる。
うに、駆動回路４８によつてスリツト板６をＰ／
２の振幅（ａ〜ｂ）で振動させ、位置検出手段３
から出力される検出信号を受光回路４０a1，４０
a2および演算処理回路４１ａにて実施例１と同様
に信号処理し、除算回路４４から出力される信号
を積分回路４５ａにて積分処理して実施例１の平
均化回路４５から出力される信号と同等の信号を
得るようにしている。すなわち、スリツト板６が
ａに位置するときの除算回路４４出力をVaとし、
スリツト板６がｂに位置するときの除算回路４４
出力をVbとすれば、積分回路４４出力Ｖとして
（Va＋Vb）／２に相当する信号が得られること
になる。したがつて、積分回路４４出力として平
均化された測距誤差の少ない測距信号が得られ、
しかも、本実施例では、１個の位置検出手段３を
用いているだけであるので、実施例１に比べて構
成が簡単になつて小型化でき、コストを安くする
ことができる。
本発明は上述のように構成されており、第１発
明は、複数の位置検出手段を等位な受光位置に配
設するとともに、各位置検出手段に集光スポツト
の移動方向に多数のスリツトが列設されたスリツ
ト板をスリツトが互いに等位な受光位置にならな
いように覆着し、演算手段にて全位置検出手段出
力を平均化した位置データに基いて被測定物体ま
での距離を演算するようにしたものであるので、
光ビーム径がある程度大きく、被測定物体による
反射むらがあつても測距誤差を少なくすることが
でき、しかも、投光手段の光学系の構造が簡単に
なるとともに、小型化ができるという効果があ
る。また、第２発明は、集光スポツトの移動方向
に多数のスリツトが列設されたスリツト板を位置
検出手段に覆着し、上記スリツト板の遮光部幅と
スリツト幅とを等しくするとともに、スリツトピ
ツチを集光スポツト径と略等しくし、上記スリツ
ト板をスリツトの列設方向にスリツトピツチの
１／２の振動振幅で振動させる振動手段を設け、
演算手段にて位置検出手段出力の積分値に基いて
被測定物体までの距離を演算するようにしたもの
であり、上記第１発明と同様の効果を有するもの
を１個の位置検出手段にて形成できるので、構成
がより簡単になるとともにより小型化でき、コス
トも安くできるという効果がある。
明は、複数の位置検出手段を等位な受光位置に配
設するとともに、各位置検出手段に集光スポツト
の移動方向に多数のスリツトが列設されたスリツ
ト板をスリツトが互いに等位な受光位置にならな
いように覆着し、演算手段にて全位置検出手段出
力を平均化した位置データに基いて被測定物体ま
での距離を演算するようにしたものであるので、
光ビーム径がある程度大きく、被測定物体による
反射むらがあつても測距誤差を少なくすることが
でき、しかも、投光手段の光学系の構造が簡単に
なるとともに、小型化ができるという効果があ
る。また、第２発明は、集光スポツトの移動方向
に多数のスリツトが列設されたスリツト板を位置
検出手段に覆着し、上記スリツト板の遮光部幅と
スリツト幅とを等しくするとともに、スリツトピ
ツチを集光スポツト径と略等しくし、上記スリツ
ト板をスリツトの列設方向にスリツトピツチの
１／２の振動振幅で振動させる振動手段を設け、
演算手段にて位置検出手段出力の積分値に基いて
被測定物体までの距離を演算するようにしたもの
であり、上記第１発明と同様の効果を有するもの
を１個の位置検出手段にて形成できるので、構成
がより簡単になるとともにより小型化でき、コス
トも安くできるという効果がある。
第１図は本発明一実施例の概略構成図、第２図
は同上の要部分解斜視図、第３図ａ，ｂは同上の
要部平面図、第４図は同上の回路図、第５図は同
上の動作説明図、第６図は他の実施例の要部平面
図、第７図ａはさらに他の実施例の構成図、第７
図ｂは同上の要部ブロツク図、第８図は従来例の
概略構成図、第９図乃至第１１図は同上の動作説
明図である。 １は投光手段、２は受光手段、３，３ａ，３
ｂ，３ｃは位置検出手段、４は演算手段、５はス
リツト、６，６ａ，６ｂ，６ｃはスリツト板であ
る。
は同上の要部分解斜視図、第３図ａ，ｂは同上の
要部平面図、第４図は同上の回路図、第５図は同
上の動作説明図、第６図は他の実施例の要部平面
図、第７図ａはさらに他の実施例の構成図、第７
図ｂは同上の要部ブロツク図、第８図は従来例の
概略構成図、第９図乃至第１１図は同上の動作説
明図である。 １は投光手段、２は受光手段、３，３ａ，３
ｂ，３ｃは位置検出手段、４は演算手段、５はス
リツト、６，６ａ，６ｂ，６ｃはスリツト板であ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 被測定物体に対して光ビームを投光する投光
手段と、被測定物体からの反射光を受光して集光
する受光手段とを所定間隔をもつて配設し、集光
スポツトの位置に対応した位置信号を出力する１
次元位置センサよりなる位置検出手段と、位置検
出手段出力に基いて被測定物体までの距離を演算
する演算手段とよりなる測距装置において、複数
の位置検出手段を等位な受光位置に配設するとと
もに、各位置検出手段に集光スポツトの移動方向
に多数のスリツトが列設されたスリツト板をスリ
ツトが互いに等位な受光位置にならないように覆
着し、演算手段にて全位置検出手段出力を平均化
した位置データに基いて被測定物体までの距離を
演算するようにしたことを特徴とする測距装置。 ２ 被測定物体に対して光ビームを投光する投光
手段と、被測定物体からの反射光を受光して集光
する受光手段とを所定間隔をもつて配設し、集光
スポツトの位置に対応した位置信号を出力する１
次元位置センサよりなる位置検出手段と、位置検
出手段出力に基いて被測定物体までの距離を演算
する演算手段とよりなる測距装置において、集光
スポツトの移動方向に多数のスリツトが列設され
たスリツト板を位置検出手段に覆着し、上記スリ
ツト板の遮光部幅とスリツト幅とを等しくすると
ともに、スリツトピツチを集光スポツト径と略等
しくし、上記スリツト板をスリツトの列設方向に
スリツトピツチの１／２の振動振幅で振動させる
振動手段を設け、演算手段にて位置検出手段出力
の積分値に基いて被測定物体までの距離を演算す
るようにしたことを特徴とする測距装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21340484A JPS6191513A (ja) | 1984-10-12 | 1984-10-12 | 測距装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21340484A JPS6191513A (ja) | 1984-10-12 | 1984-10-12 | 測距装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6191513A JPS6191513A (ja) | 1986-05-09 |
| JPH0467605B2 true JPH0467605B2 (ja) | 1992-10-28 |
Family
ID=16638658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21340484A Granted JPS6191513A (ja) | 1984-10-12 | 1984-10-12 | 測距装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6191513A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4476682B2 (ja) * | 2003-05-16 | 2010-06-09 | 株式会社ミツトヨ | 光電式エンコーダ |
| JP4954598B2 (ja) * | 2006-04-24 | 2012-06-20 | 三菱アルミニウム株式会社 | 合成樹脂製包装容器 |
-
1984
- 1984-10-12 JP JP21340484A patent/JPS6191513A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6191513A (ja) | 1986-05-09 |
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