JPS6191513A - 測距装置 - Google Patents
測距装置Info
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- JPS6191513A JPS6191513A JP21340484A JP21340484A JPS6191513A JP S6191513 A JPS6191513 A JP S6191513A JP 21340484 A JP21340484 A JP 21340484A JP 21340484 A JP21340484 A JP 21340484A JP S6191513 A JPS6191513 A JP S6191513A
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- Japan
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- light
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
［技術分野］
本発明は、三角測量方式の測距装置に関するしのである
。
。
従来、この種の三角＋１１１］量方式の測距装置は第８
図に示すように、発光ダイオードよりなる投光素子１２
および投光用レンズ１３にて構成され、被測定物体Ｍに
対して光ビームを投光する投光手段１と、被測定物体Ｍ
がらの反射光を受光して集光する受光用レンズ２０より
なる受光手段２とを所定間隔１３．１．をもって配設し
、集光スポット８の位ｊ６に対応した位置信号を出力す
る１次元位置センサ（ＰＳＤ）３０よりなる位置検出手
段３と、位置検出手段３出力基いて被測定物体Ｍまでの
距離を演算する演算手段（図示せず）とで構成されてい
る。 ここに、１次元位置センサ３０はｔＪＳ９図に示すよう
に、ｐ ｉ ｎ ｌ’＋１を造の７オトグイオードに属
する両端に出力電極Ｏ１，０２を形成した光起電力素子
であり、表面に光スポットＳ゛が照射されると、高抵抗
の１層が光の入射位置と両出力電極Ｏ７，０２までの距
離に逆比例して分ｖｑされ、各出力電極Ｏ３，０２から
光スポットＳ゛の位置に応じた出力電流■１、Ｉ２が出
力されるようになっている。この場合、１次元位置セン
サ３０の長さをＬ１１光スポラＳ゛の一端部からの距離
をｘｌとすれば、距離Ｘ−と出力電流１．．１２の関係
は、 ］ ／ Ｘ １＝（１＋ Ｉ １／ Ｉ ２）・Ｌ・・
・・・・・・・（１）となる。なお、第１（）図は等価
回路図であり、出力電極０１．０２に接続される負荷Ｚ
ｔには、）’ ＋＋４の分割抵抗Ｚ、、、’Ｚ、を介
して電流ｆ２Ｉより電流ｒ２、Ｉ２が流れるようになっ
ている。 いま、投光手段１からはスポット仔Ａに絞り込まれた光
ビームが投光されており、この尤ビームの被測定物体Ｍ
による反射光（拡散光）は受光手段２によって位置検出
手段３上に集光され、この集光入ボッ）Ｓの位置検出セ
ンサ３０上の位ｒ：！１（ｌ［ｉ離Ｘ）に対応する出力
電流１１、Ｉ２が位置検出手段３から出力される。演算
手段では位置検出手段３から出力される集光スポットＳ
の位置情報に基いて被測定物体Ｍまでの距離Ｒが演算さ
れる。ここに、受光用レンＸ：２０の焦点距離をＦ、受
光用レンズ２０の光軸から集光スポラ）Ｓの中心位置ま
での距離をＸとすれば、 Ｘ＝ＢＬ−Ｆ／Ｒ・・・・・・・・・・・・・・・・・
・（２）となり、被測定物体Ｍまでの距離Ｒと、集光ス
ポットＳの中心位１ｘとは逆比例関係になっている。 ところで、このような測距装置にあっては、被測定物体
Ｍの反射率あるいは投光手段１がら投光される尤ビーム
のレベルによる測ＭＩ！ｉ１４差が防止されるようにな
っているものの、集光スポラ）Ｓがビーム径へを持って
いることによる測距誤差を生じるという問題があった。 すなわち、光ビーム径Ａがある程度の大！さを持ってい
る場合において、位置検出手段３上に集光された集光ス
ポラ）Ｓもある径Ａ’（所定の倍率で縮小されている）
を持って分布している。ここに、被測定物体Ｍ表面の反
射率が一様であれば、集光スポラ）Ｓの光強度分布はｆ
ｊ４１１図（ａ）に示すように投光された光ビームと同
様の分布を示し、輝度重心Ｗが集光スポットＳの中心位
置Ｘに一致するので、輝度重心Ｗに基いた信号であると
ころの位置検出センサ３０がらの出力電流１１、Ｉ２は
被測定物体Ｍまでの距離Ｒに正確に対応した距離信号と
なり、測距誤差は殆ど発生しない。しかしながら、被測
定物体Ｍに反射むらがあると、集光スポラ）Ｓの光強度
分布は例えば第１１図（ｂ）に示すようにピーク値が一
方にずれたものとなり、輝度重心Ｗが集光スポットＳの
中心位置ＸからΔＸだけずれることになる。 したがって、位置検出手段３の出力電流１．、、Ｉ。 は被測定物体Ｍまでの距離Ｒに対応しなくなり、測距誤
差が生じることになる。この場合測距ｇ４差ΔＸの最大
値ΔＸ ｍａｘは ΔＸｍ１ｘ＝Ａ−Ｆ／ ２ Ｒ・・・・・・・・・・・
・・・・・・（３）となり、誤差率は 誤差率＝ΔＸｍａｘ／Ｘ＝Ａ／２ＢＬ＝ｉ４）となる。 そこで、このような問題を解決するには光ビーム径Ａを
小さくするか、投光手段１と受光手段２どの間の間隔（
基線長）ＢＬを大きくすれば良いことになるが、前者に
あっては光学系が複雑になるとともに、光損失が大きく
なるという不都合があり、後者にあっては光学系が大き
くなってしまうという不都合があった。 ［発明の目的］ 本発明は上記の点に鑑みて為されたものであり、その目
的とするところは、光ビーム径がある程度大さくでも測
距誤差を少なくすることができ、しかも、構造が簡単で
小型の測距装置を提供する、−とにある。 ［発明の開示１ （実施例１ン 第１図乃至第４図は本発明一実施例を示すものであり、
従来例と同様の測距装置にお（１て、２個の位置検出手
段３ａ、３１＋を等位な受光位置に配設するとともに、
各位置検出手段３ａ、３ｂに集光スポｙ）Ｓａ、Ｓｂの
移動方向に多数の入り／ト５が列設されたスリット板６
ａ、６ｂをスリット５が互いに等位な受光位置にならな
いように覆着し、演算手段４にて両位置検出手段３ａ、
３ｂ出力を平均化した位置データに基いて被測定物体Ｍ
までの距離Ｒを演算するようにしたものであり、” ”
−７ミラー７は受光用レンズにより集光された光を分波
して位置検出手段３ａ、３ｂ上にそれぞれ集光させるビ
ームスプリッタである。また、スリット板６ｎ、６ｂの
各スリット５のスリット幅はスリントビノチＰの１／２
となっており、各スリット板６ａ、６ｈはスリット５が
ＰＩ２ずれるようにして位置検出手段３ａ、；（ｂを形
成する位置検出セ／す：（（）の受光面３０ａに覆着す
ることにより、等１１γな受光位置にならないようにし
である。さらに、ｉｉ＋ｆ 体手段４はｆｊＳＡ図に示
すように、各位置検出手段３ａ、３ｂの各出力電流！、
、１．を電圧信号ＶａいＶａ２、■ｈ１、■ｂ、に変換
するとともにバンドパスフィルタを３４１ｍした受光回
路４０ ａイ４０ ａ、、４ｆｌＬ＋１．４０ｂ２と、
滅ヰ回路４２、加抹回路４３および除算回路４４にて形
成され°る２個の演算処理回路４１ａ、４１ｂと、両演
算処理回路４＋ａ、４１ｈ出力（Ｖａｔ Ｖａｚ）／
（Ｖａ、十Ｖａ、）、（Ｖ ｂ、 −Ｖ ｂ＝）／
（ｖｂｉ＋＼’ｂ＋）を平均化する平均化回路４５と、
平均化回路４５出力を信号処理して得られる距離データ
を出力回路４７を介して出力する信号処理回路４６とで
構成されている。さらにまた、投光手段１の投光素子１
２は発振回路１０出力にてドライブ回路１１を介して一
定周期で点滅駆動されており、信処理回路４６ではこの
発振回路１０出力に同期して信号処理を行うことによっ
て外乱光による誤動作を防止するようになっている。 以下、実施例の動作について説明する。いま、被測定物
体Ｍの反射率が一様でなく、第５図（ａ）（ｌ））に示
すように、光ビームの輝度重心Ｗが一方にずれた集光ス
ボッ）Ｓａ、Ｓｂが各位置検出手段３ａ、３ｂ上に集光
されている場合において、各位置検出手段３ａ、３ｂの
受光面には各スリット板６ａ。 ６ｂの入りント５を通して光が照射されることになるの
で、集光スボッ）Ｓａ、Ｓｂのスリット５にて分割され
た半部の輝度重心Ｗａ、Ｗｂに基いた出力電流１．、■
２が位置検出手段３ａ、３ｂからそれぞれ出力されるこ
とになる。すなわち、集光スボッ）Ｓａ、Ｓｂの中心位
置は、各位置検出手段３ａ、３ｂにて、あたかもＸａ、
Ｘｂであるかのように検出される。この位置検出信号た
る出力電流Ｉａ、、Ｉａ、、Ｉｂ、、Ｉｂ２は演算処理
部４１ａ、４Ｊｂにて演Ｗ−され、平均化回路４５にて
平均化されて信号処理回路４６に送られ、この平均化回
路４５出力に基いて得られる測距データが出力回路４７
を介して出力される。この場合、測距データは集光スポ
ン）Ｓａ、Ｓｂの位置検出手段３ａ、３ｂにて検出され
た中心位置Ｘａ、Ｘｂの平均値Ｘｃに対応したものであ
り、この平均値Ｘｃ と集光スボツ）Ｓｎ、ｓｂの中心
位置Ｘとのずれ△Ｘ゛は従来例におけるΔＸに比べて大
幅に小さくなる。したがって、投光手段１から投光され
る光ビームのビーム径Ａがある程度大きく、被測定物体
Ｍによる反射むらがあっても測距誤差を少なくできるこ
とになる。 （実施例２） 第６図は他の実施例を示すもので、３個の位置検出手段
３ａ、３ｂ、３ｃを等位な受光位置に配設し、各位置検
出手段３ａ、３１＋、３ｃｌニスリット幅がとッチＰの
３分の１が列設されたスリット板６ａ、６ｂ、６ｃを被
着することにより、測距誤差をより少なくするようにし
たものであり、各スリット板６ａ、６ｂ、６Ｃは、スリ
ット５がＰＩ３づつずらせて位置検出手段に覆着され、
各スリット板６ａ、６ｂ、６ｃのスリット５が互いに等
ＩＩγな受光位置にならないようにしている。なお、Ｎ
個の位置検出手段を設ける場合にはスリット５の幅はＰ
／Ｎとなり、各位置検出手段に対応して演ル処理回路が
設けられることは言うまでもない。 （実施例Ｓ）） 第７図はｒｊＳ２の発明の実施例を示すもので、位置検
出手段３に覆着されるスリット板６をスリット５の列設
方向（矢印方向）に振動させる振動手段（図示せず）を
設け、演算手段４にて位置検出手段３出力の積分値に基
いて被測定物体Ｍまでの距離を演録するようにしたもの
であり、振動手段によるスリット板６の振動振幅はＰ／
２となっている。 なお、この場合における演算手段４は、第４図回路にお
ける一方の演算処理回路４１ａの除算回路４４出力を積
分する積分回路を設け、この積分回路出力を信号処理回
路４６にて信号処理し、出力回路４７を介して測距デー
タを出力するようにしたどのとなる。 いま、実施例３にあっては、スリット板６を振動させる
ことにより、１個の位置検出手段３から実施例１の位置
検出手段３ａ、３ｂ出力と同等の検出信号（時分割多重
信号）を得るようにしてあり、この検出信号を積分する
ことによって平均化し、測距誤差を少なくするようにな
っており、構成が簡単になって小へ１１化できる上、コ
ストが安くなるものである。 ［発明の効果］ 本発明は上述のように構成されており、第１発明は、複
数の位置検出手段を等位な受光位置に配設するとともに
、各位置検出手段に集光スポットの移動方向に多数のス
リ７Ｆが列設されたスリット板をスリットが互いに等位
な受光位置にならないように覆着し、演算手段にて全位
置検出手段出力を平均化した位置データに基いて被測定
物体までの距離を演算するようにしたものであるので、
光ビーム径がある程度大きく、被測定物体による反射む
らがあっても測距誤差を少なくすることができ、しかも
、投光手段の光学系の６１造が簡単になるとともに、小
型化がでさるという効果がある。 またｔｊ４２発明は、位置検出手段に集光スポットの一
移動方向に多数のスリットが列設されたスリット板を覆
着するとともに、上記スリット板をスリットの列設方向
に振動させる振動手段を設け、演算手段にて位置検出手
段出力の積分値に基いて被測定物体までの距離を演算す
るようにしたものであり、上記第１発明と同様の効果を
右動るものを１個の位置検出手段にて形成できるので、
構成がより簡単になるとともにより小型化でさ、コスト
も安くできるという効果がある。
図に示すように、発光ダイオードよりなる投光素子１２
および投光用レンズ１３にて構成され、被測定物体Ｍに
対して光ビームを投光する投光手段１と、被測定物体Ｍ
がらの反射光を受光して集光する受光用レンズ２０より
なる受光手段２とを所定間隔１３．１．をもって配設し
、集光スポット８の位ｊ６に対応した位置信号を出力す
る１次元位置センサ（ＰＳＤ）３０よりなる位置検出手
段３と、位置検出手段３出力基いて被測定物体Ｍまでの
距離を演算する演算手段（図示せず）とで構成されてい
る。 ここに、１次元位置センサ３０はｔＪＳ９図に示すよう
に、ｐ ｉ ｎ ｌ’＋１を造の７オトグイオードに属
する両端に出力電極Ｏ１，０２を形成した光起電力素子
であり、表面に光スポットＳ゛が照射されると、高抵抗
の１層が光の入射位置と両出力電極Ｏ７，０２までの距
離に逆比例して分ｖｑされ、各出力電極Ｏ３，０２から
光スポットＳ゛の位置に応じた出力電流■１、Ｉ２が出
力されるようになっている。この場合、１次元位置セン
サ３０の長さをＬ１１光スポラＳ゛の一端部からの距離
をｘｌとすれば、距離Ｘ−と出力電流１．．１２の関係
は、 ］ ／ Ｘ １＝（１＋ Ｉ １／ Ｉ ２）・Ｌ・・
・・・・・・・（１）となる。なお、第１（）図は等価
回路図であり、出力電極０１．０２に接続される負荷Ｚ
ｔには、）’ ＋＋４の分割抵抗Ｚ、、、’Ｚ、を介
して電流ｆ２Ｉより電流ｒ２、Ｉ２が流れるようになっ
ている。 いま、投光手段１からはスポット仔Ａに絞り込まれた光
ビームが投光されており、この尤ビームの被測定物体Ｍ
による反射光（拡散光）は受光手段２によって位置検出
手段３上に集光され、この集光入ボッ）Ｓの位置検出セ
ンサ３０上の位ｒ：！１（ｌ［ｉ離Ｘ）に対応する出力
電流１１、Ｉ２が位置検出手段３から出力される。演算
手段では位置検出手段３から出力される集光スポットＳ
の位置情報に基いて被測定物体Ｍまでの距離Ｒが演算さ
れる。ここに、受光用レンＸ：２０の焦点距離をＦ、受
光用レンズ２０の光軸から集光スポラ）Ｓの中心位置ま
での距離をＸとすれば、 Ｘ＝ＢＬ−Ｆ／Ｒ・・・・・・・・・・・・・・・・・
・（２）となり、被測定物体Ｍまでの距離Ｒと、集光ス
ポットＳの中心位１ｘとは逆比例関係になっている。 ところで、このような測距装置にあっては、被測定物体
Ｍの反射率あるいは投光手段１がら投光される尤ビーム
のレベルによる測ＭＩ！ｉ１４差が防止されるようにな
っているものの、集光スポラ）Ｓがビーム径へを持って
いることによる測距誤差を生じるという問題があった。 すなわち、光ビーム径Ａがある程度の大！さを持ってい
る場合において、位置検出手段３上に集光された集光ス
ポラ）Ｓもある径Ａ’（所定の倍率で縮小されている）
を持って分布している。ここに、被測定物体Ｍ表面の反
射率が一様であれば、集光スポラ）Ｓの光強度分布はｆ
ｊ４１１図（ａ）に示すように投光された光ビームと同
様の分布を示し、輝度重心Ｗが集光スポットＳの中心位
置Ｘに一致するので、輝度重心Ｗに基いた信号であると
ころの位置検出センサ３０がらの出力電流１１、Ｉ２は
被測定物体Ｍまでの距離Ｒに正確に対応した距離信号と
なり、測距誤差は殆ど発生しない。しかしながら、被測
定物体Ｍに反射むらがあると、集光スポラ）Ｓの光強度
分布は例えば第１１図（ｂ）に示すようにピーク値が一
方にずれたものとなり、輝度重心Ｗが集光スポットＳの
中心位置ＸからΔＸだけずれることになる。 したがって、位置検出手段３の出力電流１．、、Ｉ。 は被測定物体Ｍまでの距離Ｒに対応しなくなり、測距誤
差が生じることになる。この場合測距ｇ４差ΔＸの最大
値ΔＸ ｍａｘは ΔＸｍ１ｘ＝Ａ−Ｆ／ ２ Ｒ・・・・・・・・・・・
・・・・・・（３）となり、誤差率は 誤差率＝ΔＸｍａｘ／Ｘ＝Ａ／２ＢＬ＝ｉ４）となる。 そこで、このような問題を解決するには光ビーム径Ａを
小さくするか、投光手段１と受光手段２どの間の間隔（
基線長）ＢＬを大きくすれば良いことになるが、前者に
あっては光学系が複雑になるとともに、光損失が大きく
なるという不都合があり、後者にあっては光学系が大き
くなってしまうという不都合があった。 ［発明の目的］ 本発明は上記の点に鑑みて為されたものであり、その目
的とするところは、光ビーム径がある程度大さくでも測
距誤差を少なくすることができ、しかも、構造が簡単で
小型の測距装置を提供する、−とにある。 ［発明の開示１ （実施例１ン 第１図乃至第４図は本発明一実施例を示すものであり、
従来例と同様の測距装置にお（１て、２個の位置検出手
段３ａ、３１＋を等位な受光位置に配設するとともに、
各位置検出手段３ａ、３ｂに集光スポｙ）Ｓａ、Ｓｂの
移動方向に多数の入り／ト５が列設されたスリット板６
ａ、６ｂをスリット５が互いに等位な受光位置にならな
いように覆着し、演算手段４にて両位置検出手段３ａ、
３ｂ出力を平均化した位置データに基いて被測定物体Ｍ
までの距離Ｒを演算するようにしたものであり、” ”
−７ミラー７は受光用レンズにより集光された光を分波
して位置検出手段３ａ、３ｂ上にそれぞれ集光させるビ
ームスプリッタである。また、スリット板６ｎ、６ｂの
各スリット５のスリット幅はスリントビノチＰの１／２
となっており、各スリット板６ａ、６ｈはスリット５が
ＰＩ２ずれるようにして位置検出手段３ａ、；（ｂを形
成する位置検出セ／す：（（）の受光面３０ａに覆着す
ることにより、等１１γな受光位置にならないようにし
である。さらに、ｉｉ＋ｆ 体手段４はｆｊＳＡ図に示
すように、各位置検出手段３ａ、３ｂの各出力電流！、
、１．を電圧信号ＶａいＶａ２、■ｈ１、■ｂ、に変換
するとともにバンドパスフィルタを３４１ｍした受光回
路４０ ａイ４０ ａ、、４ｆｌＬ＋１．４０ｂ２と、
滅ヰ回路４２、加抹回路４３および除算回路４４にて形
成され°る２個の演算処理回路４１ａ、４１ｂと、両演
算処理回路４＋ａ、４１ｈ出力（Ｖａｔ Ｖａｚ）／
（Ｖａ、十Ｖａ、）、（Ｖ ｂ、 −Ｖ ｂ＝）／
（ｖｂｉ＋＼’ｂ＋）を平均化する平均化回路４５と、
平均化回路４５出力を信号処理して得られる距離データ
を出力回路４７を介して出力する信号処理回路４６とで
構成されている。さらにまた、投光手段１の投光素子１
２は発振回路１０出力にてドライブ回路１１を介して一
定周期で点滅駆動されており、信処理回路４６ではこの
発振回路１０出力に同期して信号処理を行うことによっ
て外乱光による誤動作を防止するようになっている。 以下、実施例の動作について説明する。いま、被測定物
体Ｍの反射率が一様でなく、第５図（ａ）（ｌ））に示
すように、光ビームの輝度重心Ｗが一方にずれた集光ス
ボッ）Ｓａ、Ｓｂが各位置検出手段３ａ、３ｂ上に集光
されている場合において、各位置検出手段３ａ、３ｂの
受光面には各スリット板６ａ。 ６ｂの入りント５を通して光が照射されることになるの
で、集光スボッ）Ｓａ、Ｓｂのスリット５にて分割され
た半部の輝度重心Ｗａ、Ｗｂに基いた出力電流１．、■
２が位置検出手段３ａ、３ｂからそれぞれ出力されるこ
とになる。すなわち、集光スボッ）Ｓａ、Ｓｂの中心位
置は、各位置検出手段３ａ、３ｂにて、あたかもＸａ、
Ｘｂであるかのように検出される。この位置検出信号た
る出力電流Ｉａ、、Ｉａ、、Ｉｂ、、Ｉｂ２は演算処理
部４１ａ、４Ｊｂにて演Ｗ−され、平均化回路４５にて
平均化されて信号処理回路４６に送られ、この平均化回
路４５出力に基いて得られる測距データが出力回路４７
を介して出力される。この場合、測距データは集光スポ
ン）Ｓａ、Ｓｂの位置検出手段３ａ、３ｂにて検出され
た中心位置Ｘａ、Ｘｂの平均値Ｘｃに対応したものであ
り、この平均値Ｘｃ と集光スボツ）Ｓｎ、ｓｂの中心
位置Ｘとのずれ△Ｘ゛は従来例におけるΔＸに比べて大
幅に小さくなる。したがって、投光手段１から投光され
る光ビームのビーム径Ａがある程度大きく、被測定物体
Ｍによる反射むらがあっても測距誤差を少なくできるこ
とになる。 （実施例２） 第６図は他の実施例を示すもので、３個の位置検出手段
３ａ、３ｂ、３ｃを等位な受光位置に配設し、各位置検
出手段３ａ、３１＋、３ｃｌニスリット幅がとッチＰの
３分の１が列設されたスリット板６ａ、６ｂ、６ｃを被
着することにより、測距誤差をより少なくするようにし
たものであり、各スリット板６ａ、６ｂ、６Ｃは、スリ
ット５がＰＩ３づつずらせて位置検出手段に覆着され、
各スリット板６ａ、６ｂ、６ｃのスリット５が互いに等
ＩＩγな受光位置にならないようにしている。なお、Ｎ
個の位置検出手段を設ける場合にはスリット５の幅はＰ
／Ｎとなり、各位置検出手段に対応して演ル処理回路が
設けられることは言うまでもない。 （実施例Ｓ）） 第７図はｒｊＳ２の発明の実施例を示すもので、位置検
出手段３に覆着されるスリット板６をスリット５の列設
方向（矢印方向）に振動させる振動手段（図示せず）を
設け、演算手段４にて位置検出手段３出力の積分値に基
いて被測定物体Ｍまでの距離を演録するようにしたもの
であり、振動手段によるスリット板６の振動振幅はＰ／
２となっている。 なお、この場合における演算手段４は、第４図回路にお
ける一方の演算処理回路４１ａの除算回路４４出力を積
分する積分回路を設け、この積分回路出力を信号処理回
路４６にて信号処理し、出力回路４７を介して測距デー
タを出力するようにしたどのとなる。 いま、実施例３にあっては、スリット板６を振動させる
ことにより、１個の位置検出手段３から実施例１の位置
検出手段３ａ、３ｂ出力と同等の検出信号（時分割多重
信号）を得るようにしてあり、この検出信号を積分する
ことによって平均化し、測距誤差を少なくするようにな
っており、構成が簡単になって小へ１１化できる上、コ
ストが安くなるものである。 ［発明の効果］ 本発明は上述のように構成されており、第１発明は、複
数の位置検出手段を等位な受光位置に配設するとともに
、各位置検出手段に集光スポットの移動方向に多数のス
リ７Ｆが列設されたスリット板をスリットが互いに等位
な受光位置にならないように覆着し、演算手段にて全位
置検出手段出力を平均化した位置データに基いて被測定
物体までの距離を演算するようにしたものであるので、
光ビーム径がある程度大きく、被測定物体による反射む
らがあっても測距誤差を少なくすることができ、しかも
、投光手段の光学系の６１造が簡単になるとともに、小
型化がでさるという効果がある。 またｔｊ４２発明は、位置検出手段に集光スポットの一
移動方向に多数のスリットが列設されたスリット板を覆
着するとともに、上記スリット板をスリットの列設方向
に振動させる振動手段を設け、演算手段にて位置検出手
段出力の積分値に基いて被測定物体までの距離を演算す
るようにしたものであり、上記第１発明と同様の効果を
右動るものを１個の位置検出手段にて形成できるので、
構成がより簡単になるとともにより小型化でさ、コスト
も安くできるという効果がある。
第１図は本発明一実施例の概略構成図、第２図は同上の
要部分解斜視図、第３図（ａ）（ｂ）は同上の要部平面
図、第４図は同上の回路図、第５図は同上の動作説明図
、第６図は他の実施例の要部平面図、第７図はさらに他
の実施例の概略構成図、第８図は従来例の概略構成図、
第９図乃至第１１図は同上の動作説明図である。 １は投光手段、２は受光手段、３．３ａ、３ｂ、３ｃは
位置検出手段、４は演算手段、５はスリット、６．６ａ
、６ｈ、６ｃはスリット板である。 代理人 弁理士 石 １）艮 七 ！ｌ！１ 図 Ｉ！２図 １１５５！２ （○） （ｂ） ｇ６図
要部分解斜視図、第３図（ａ）（ｂ）は同上の要部平面
図、第４図は同上の回路図、第５図は同上の動作説明図
、第６図は他の実施例の要部平面図、第７図はさらに他
の実施例の概略構成図、第８図は従来例の概略構成図、
第９図乃至第１１図は同上の動作説明図である。 １は投光手段、２は受光手段、３．３ａ、３ｂ、３ｃは
位置検出手段、４は演算手段、５はスリット、６．６ａ
、６ｈ、６ｃはスリット板である。 代理人 弁理士 石 １）艮 七 ！ｌ！１ 図 Ｉ！２図 １１５５！２ （○） （ｂ） ｇ６図
Claims (2)
- （１）被測定物体に対して光ビームを投光する投光手段
と、被測定物体からの反射光を受光して集光する受光手
段とを所定間隔をもって配設し、集光スポットの位置に
対応した位置信号を出力する１次元位置センサよりなる
位置検出手段と、位置検出手段出力に基いて被測定物体
までの距離を演算する演算手段とよりなる測距装置にお
いて、複数の位置検出手段を等位な受光位置に配設する
とともに、各位置検出手段に集光スポットの移動方向に
多数のスリットが列設されたスリット板をスリットが互
いに等位な受光位置にならないように覆着し、演算手段
にて全位置検出手段出力を平均化した位置データに基い
て被測定物体までの距離を演算するようにしたことを特
徴とする測距装置。 - （２）被測定物体に対して光ビームを投光する投光手段
と、被測定物体からの反射光を受光して集光する受光手
段とを所定間隔をもって配設し、集光スポットの位置に
対応した位置信号を出力する１次元位置センサよりなる
位置検出手段と、位置検出手段出力に基いて被測定物体
までの距離を演算する演算手段とよりなる測距装置にお
いて、位置検出手段に集光スポットの移動方向に多数の
スリットが列設されたスリット板を覆着するとともに、
上記スリット板をスリットの列設方向に振動させる振動
手段を設け、演算手段にて位置検出手段出力の積分値に
基いて被測定物体までの距離を演算するようにしたこと
を特徴とする測距装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21340484A JPS6191513A (ja) | 1984-10-12 | 1984-10-12 | 測距装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21340484A JPS6191513A (ja) | 1984-10-12 | 1984-10-12 | 測距装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6191513A true JPS6191513A (ja) | 1986-05-09 |
| JPH0467605B2 JPH0467605B2 (ja) | 1992-10-28 |
Family
ID=16638658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21340484A Granted JPS6191513A (ja) | 1984-10-12 | 1984-10-12 | 測距装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6191513A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1477776A2 (en) * | 2003-05-16 | 2004-11-17 | Mitutoyo Corporation | Photoelectric encoder |
| JP2007290736A (ja) * | 2006-04-24 | 2007-11-08 | Nippon Foil Mfg Co Ltd | 合成樹脂製包装容器 |
-
1984
- 1984-10-12 JP JP21340484A patent/JPS6191513A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1477776A2 (en) * | 2003-05-16 | 2004-11-17 | Mitutoyo Corporation | Photoelectric encoder |
| EP1477776A3 (en) * | 2003-05-16 | 2006-02-08 | Mitutoyo Corporation | Photoelectric encoder |
| US7098446B2 (en) | 2003-05-16 | 2006-08-29 | Mitutoyo Corporation | Photoelectric encoder |
| CN100351613C (zh) * | 2003-05-16 | 2007-11-28 | 三丰株式会社 | 光电式编码器 |
| JP2007290736A (ja) * | 2006-04-24 | 2007-11-08 | Nippon Foil Mfg Co Ltd | 合成樹脂製包装容器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0467605B2 (ja) | 1992-10-28 |
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