JPH0463827B2

JPH0463827B2 -

Info

Publication number: JPH0463827B2
Application number: JP61300309A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Fujita; Hiroshi Watanabe; Chuzo Isoda
Original assignee: Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd
Current assignee: DKS Co Ltd
Priority date: 1986-12-16
Filing date: 1986-12-16
Publication date: 1992-10-13
Also published as: JPS63151659A

Description

【発明の詳細な説明】

（産業上の利用分野）本発明は、セラミツクの製造法に関するもので
ある。（従来の技術）通常、セラミツク製品はプレス成形法、押出成
形法、ドクターブレード成形法、鋳込成形法、射
出成形法等により成形された後、さらに乾燥、脱
脂、焼結、加工等の工程を経て製造される。そして、それらの成形時には種々のバインダー
が使用されており、成形方法別に選択して使用す
るのが常である。例えば、プレス成形法では顆粒製造に重点が置
かれるためポリビニルアルコールが主体となり、
押出成形法ではメチルセルロース、ドクターブレ
ード成形法ではシートの腰の良さからポリビニル
ブチラール等が用いられる。さらに射出成形法では熱可塑性樹脂、ワツクス
類が主成分として用いられる。（発明が解決しようとする問題点）セラミツク製品を製造する場合、使用した有機
材料は不要となることから、熱分解で除去してい
る。従つて、熱分解で除去が容易な、すなわち熱
分解性の良好な材料が望まれている。例えば射出成形法においては、総バインダー量
が10重量％を超えることが多く、成形体を破損さ
せずに脱脂を行なう場合、長時間を要し、この工
程が製品製造時間の大部分を費やしていることが
少なくない。従つて、現在のセラミツク製造における有機材
料としては成形性が良く、熱分解性が適当に速
く、成形体悪影響を及ぼさない等の特性を有する
ものが要求されているが、これらを満足させる有
機材料が見出せないのが実状である。（問題点を解決するための手段）本発明は、下記一般式で示される化合物を必須
成分とするバインダーでセラミツク素材を成形
し、その成形体を加熱焼結することを特徴とする
セラミツクの製造法である。〔但し、式中Ａは、活性水素基１〜８個を有する
有機化合物の残基を示す。 R₁は水素、CH₃基又はC₂H₅基を示す。 R₂は炭素数８〜30のアルキル基を示す。ｌ又はl′は０〜100の整数、ｍ又はm′は10〜5000の整数を示し、かつｌ＋
ｍ又はl′＋m′は10〜5000の整数を示す。ｎは１〜10の整数をそれぞれ示す。Ｘは水素又は炭素数１〜３の低級アルキル基を
示す。ｐは１〜８の整数、ｑは０〜７の整数を示し、
かつｐ＋ｑは１〜８の整数を示す〕本発明で使用する一般式で示される化合物にお
いて、Ａは活性水素基１〜８個を有する有機化合
物の残基であり、例えばＲ（―Ｏ）―₁〜₈［Ｒは炭化
水素、ＯはＲを構成する炭素とエーテル結合する
酸素を意味する］等であり、具体的には、メタノール、エタノール、ブタノ
ール、２−エチルヘキサノール等の炭素数26以下
の脂肪族系アルコールの残基、エチレングリコー
ル、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペン
タエリスリトール、ソルビタン、ソルビトール、
シヨ糖等の脂肪族系多価アルコール等の残基が挙
げられる。

【式】及び（―CH₂CH₂O）―は、オキシアルキレン鎖及びオキシエチレン鎖である。

【式】の具体例としてはオキシエチレン、オキシプロピレン、オキシブチレン等が挙げ
られる。ｌ又はl′は、０〜100の整数であり、ｍ又は
m′は10〜5000好ましくは20〜2000の整数であり、
かつｌ＋ｍ又はl′＋m′は10〜5000の整数である。

【式】は、R₂が炭素数８〜30、好ましくは10〜25のアルキル基であるα−アルキルエト
キシル基で、ｎは１〜10、好ましくは１〜５の整
数である。Ｘは水素又は炭素数１〜３の低級アルキル基、
例えばメチル基、エチル基、プロプル基等で、好
ましくは水素、メチル基である。ｐ及びｑは、活性水素基数１〜８に対応するも
ので、ｐは１〜８の整数、ｑは０〜７の整数、か
つｐ＋ｑは１〜８の整数である。以下、一般式で示される化合物に属する代表的
な高分子化合物の構造を示す。［ｌ＋ｍ；100、l′＋m′；100、R₂；炭素数16のア
ルキル基、ｎ；１］、［ｌ＋ｍ；70、R₂；炭素数22のアルキル基、
ｎ；２］、［ｌ＋ｍ；100、R₂；炭素数20のアルキル基、
ｎ；６］、［ｌ＋ｍ；50、R₂；炭素数14のアルキル基、
ｎ；３］、［ｌ；５、ｍ；20、R₂；炭素数21のアルキル基、
ｎ；２］、次に本発明で使用するセラミツク素材は、 ZrO₂、SiO₂、MgO、CaO、TiO₂等の酸化物、
SiC、TiC、WC等の炭化物、Si₂N₄、AlN等の窒
化物、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウ
ム、チタン酸ジルコン酸塩等の複合塩、金属Si、
炭素等である。本発明にかかるセラミツクの製造法は、前記一
般式で示される化合物を必須成分とするバインダ
ーで、前記セラミツク素材を成形し、その成形体
を加熱焼結することからなる方法である。バインダーとして一般式で示される化合物を使
用する場合、その配合量は任意であるが、好まし
くはセラミツク素材の粉体100重量部に対し、プ
レス成形の場合１〜３重量部、押出成形の場合１
〜３重量部、ドクターブレード成形の場合５〜10
重量部、鋳込成形の場合0.1〜1.5重量部、射出成
形の場合５〜30重量部等である。また、成形体の加熱焼結は、公知の方法に従う
ものである。（発明の効果）本発明のセラミツク製造法に従えば、バインダ
ーとして成形性が良く、熱分解性が適当に速く、
成形体に悪影響を及ぼさない等の特性を有する特
定の一般式で示される化合物を使用するため、物
性的に優れたセラミツク成形品が得られる。（実施例）実施例１一般式で示される化合物20重量部と易焼結性ロ
ーソーダアルミナ（平均粒子径0.6μ）100重量部
の割合で加圧ニーダーで混練した。この混練物を、射出成形機を使用して成形し、
丸棒；10mmφ×50mmの成形体を得た。次に脱脂炉で脱バインダーを行なつた。 100％の脱脂率が28時間、400℃で可能となつ
た。さらに、脱脂体を1620℃で焼成し、得られた
焼成体の密度を測定した。実施例２一般式で示される化合物２重量部、分散剤とし
てポリアクリル酸アンモニウム塩0.5重量部、滑
剤としてソルビタンジオレート１重量部、焼結助
剤を配合してある窒化ケイ素100重量部及び水35
重量部をボールミルに加え、20時間混合を行ない
500cpの粘度を有するスラリーを得た。このスラリーをスプレードライヤーを用い、一
般的な方法で顆粒とした。顆粒を金型に詰め、1ton／cm²の圧力でプレスし
て成形体を得た後、窒素ガス雰囲気中1800℃で焼
成し、得られた焼成体の密度を測定した。実施例３一般式で示される化合物10重量部、ポリブチル
メタクリレート（分子量20万）４重量部、パラフ
インワツクス（融点65℃）３重量部と部分安定化
ジルコニア（平均粒子径0.9μ）100重量部の割合
で、実施例１に従つて成形体を得た。 100％の脱脂率が32時間、400℃で可能となつ
た。さらに、脱脂体を1550℃で焼成し、得られた
焼成体の密度を測定した。これら実施例１〜３に使用する化合物及び結果
を第１表に示す。比較列１実施例１において、一般式で示される化合物の
代りにエチレン／酢酸ビニル共重合体を用い、そ
の他は実施例１と同様に行なつた。脱バインダー工程で100時間を要して行なつた
が成形体にフクレが生じ、正常な焼成体を得るこ
とができなかつた。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】１下記一般式で示される化合物を必須成分とす
るバインダーでセラミツク素材を成形し、その成
形体を加熱焼結することを特徴とするセラミツク
の製造法。〔但し、式中Ａは、活性水素基１〜８個を有する
有機化合物の残基を示す。 R₁は水素、CH₃基又はC₂H₅基を示す。 R₂は炭素数８〜30のアルキル基を示す。ｌ又はl′は０〜100の整数、ｍ又はm′は10〜5000の整数を示し、かつｌ＋
ｍ又はl′＋m′は10〜5000の整数を示す。ｎは１〜10の整数をそれぞれ示す。Ｘは水素又は炭素数１〜３の低級アルキル基を
示す。ｐは１〜８の整数、ｑは０〜７の整数を示し、
かつｐ＋ｑは１〜８の整数を示す。〕