JPH0462928A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JPH0462928A
JPH0462928A JP17304290A JP17304290A JPH0462928A JP H0462928 A JPH0462928 A JP H0462928A JP 17304290 A JP17304290 A JP 17304290A JP 17304290 A JP17304290 A JP 17304290A JP H0462928 A JPH0462928 A JP H0462928A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resistor
emitter
switch
resistors
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17304290A
Other languages
English (en)
Inventor
Shuji Kanamori
金森 修二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP17304290A priority Critical patent/JPH0462928A/ja
Publication of JPH0462928A publication Critical patent/JPH0462928A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Bipolar Transistors (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電力用トランジスタを有する半導体装置に関し
、特にエミッタの保護抵抗を備えた半導体装置に関する
〔従来の技術〕
従来、電力用トランジスタを有する半導体装置では、該
トランジスタから数百Wの出力を取り出すために、通常
数Aの電流を通流している。このため、過電流などのザ
ージ保護のため第3図のようなエミッタ直列抵抗を付加
することが行われている。
第3図(a)はその−例の縦断面図、同図(b)はその
等価回路である。これらの図において、1は一導電型の
コレクタ領域としての半導体基板であり、ここに逆導電
型のベース領域2と一導電型のエミッタ領域3を形成し
、バイポーラ電力用トランジスタを構成している。また
、半導体基板1の上面には絶縁膜4を形成し、この絶縁
膜4上に多結晶シリコン等で抵抗5を形成している。
そして、前記エミッタ領域3につながるエミッタ電極7
をこの抵抗5に電気接続し、エミッタと直列に抵抗5を
接続している。なお、11はベース電極である。
また、抵抗5を半導体基板1の一部に設けた拡散抵抗で
構成することもある。
〔発明が解決しようとする課題] 上述した従来のエミッタ保護用の抵抗5は、多結晶シリ
コンあるいは半導体基板1を構成する単結晶シリコンで
構成されるが、いずれにしても半導体で構成されている
ため、その負性特性によって温度が上界すると抵抗5の
抵抗値が減少され、エミッタ電流が増加してしまう。こ
のため、所定以上の温度に上昇したときにはエミッタ電
流が過大となり、接合破壊を起こしてトランジスタが破
損されることになるという問題がある。
本発明の目的は半導体を抵抗して用いる半導体装置にお
いても、温度上昇によるトランジスタの破損を防止した
半導体装置を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の半導体装置は、トランジスタのエミッタに接続
される第1の抵抗と、この第1の抵抗に一端を接続した
第2の抵抗と、第1の抵抗と第2の抵抗の他端を温度変
化によって断接し得るスイッチ手段とで構成される。
また、エミッタに接続される抵抗と、この抵抗に一端を
接続したコンデンサと、抵抗とコンデンサの他端を温度
変化によって断接し得るスイッチ手段とで構成される。
〔作用〕
本発明によれば、温度が上昇したときに、第1の抵抗と
第2の抵抗との並列接続状態をスイッチ手段により解除
することで、エミッタに接続される抵抗の値を増大させ
、エミッタ電流の増大を防止する。
また、高周波領域での動作時に温度が上昇したときに、
抵抗とコンデンサとをスイッチ手段により並列接続する
ことで、高周波利得を向上させる。
〔実施例〕
次に、本発明を図面を参照して説明する。
第1図は本発明の第1実施例を示しており、同図(a)
は要部の縦断面図、同図(b)はその等価回路図である
。これらの図において、Iは一導電型のコレクタ領域と
しての半導体基板、2は逆導電型のベース領域、3は一
導電型のエミッタ領域であり、電力トランジスタが構成
されている。
また、半導体基板1の上面には絶縁膜4が形成され、こ
の上に多結晶シリコンで第1の抵抗5Aと第2の抵抗5
Bを所要間隔離して形成している。
これらの抵抗5A、5Bは例えば10Ω程度の抵抗値に
設定する。
そして、これら第1の抵抗5Aおよび第2の抵抗5Bを
層間絶縁膜6で被覆し、かつ絶縁膜4゜6に開設したコ
ンタクトボールおよびスルーホールを通して前記エミッ
タ領域3に接続されたエミッタ電極7の他端を前記第1
の抵抗5Aの一端に接続している。また、前記第1の抵
抗5Aの一端と第2の抵抗5Bの一端とは図外の電極配
線により接続している。さらに、前記第1の抵抗5Aお
よび第2の抵抗5B間にはスルーホールを通してバイメ
タルスイッチ8を形成し、このバイメタルスイッチ8を
介して第1の抵抗5Aおよび第2の抵抗5Bの各他端を
相互に電気接続している。このバイメタルスイッチ8は
例えば下層に金を1μm、上層に鉛を0.1μm程度に
形成した構成としている。このとき、各抵抗5A、5B
ではスルーホール部分においてAgシリサイド層などが
形成しないように、換言すれば抵抗5A、5Bとバイメ
タルスイッチ8とが一体化されないように、メツキ等の
熱処理を行わないことが肝要である。
この構成によれば、低温状態では、バイメタルスイッチ
8は図示のように平坦な状態にあり、第1および第2の
抵抗5A、5Bの他端にそれぞれ接触し、両抵抗5A、
5Bを相互に接続している。
これにより、エミッタには第1の抵抗5Aと第2の抵抗
5Bが並列に接続された状態となる。
一方、高温状態になると、バイメタルスイッチ8は上方
に凹となるように変形されるため、その両端がそれぞれ
第1および第2の抵抗5A、5Bから離間し、この結果
箱2の抵抗5Bが第1の抵抗5Aとの並列接続から解除
され、エミッタには第1の抵抗5Aのみが接続された状
態となる。
したがって、各抵抗5A、5Bの抵抗値をそれぞれ10
Ωとしたときには、低温状態ではエミッタには5Ωの抵
抗が接続されてトランジスタが動作される。また、大電
力動作時にチップ(トランジスタ)の温度が上昇すると
、バイメタルスイッチ8の動作により、エミッタには第
1の抵抗5Aによる10Ωの抵抗が接続されてトランジ
スタが動作されることになり、エミッタ電流の増大を防
止してトランジスタの破壊を防止する。
なお、トランジスタの接合破壊温度は通常200°C前
後であるため、それ以下の温度でバイメタルスイッチ8
が動作するように構成することが好ましい。
第2図は本発明の第2実施例を示しており、同図(a)
は要部の縦断面図、同図(b)はその等価回路図である
。なお、第1図と同一部分には同一符号を付してその説
明は省略する。
この実施例では、第2の抵抗に代えてコンデンサ9を設
け、このコンデンサをバイメタルスイッチ8により抵抗
5(第1の抵抗5Aに相当)に接続し得るように構成し
ている。
すなわち、半導体基板1の絶縁膜4上に抵抗5を形成し
、かつこれと所定間隅離れた位置にコンデンサ電極9A
を形成している。このコンデンサ電極9Aは前記絶縁膜
4を誘電膜として半導体基板1とでコンデンサ9を構成
する。
そして、抵抗5とコンデンサ電極9の各対応する端部に
それぞれエアブリッジ電極10a、10bを突出させ、
このエアブリッジ電極10a、10bの中間直下位置に
バイメタルスイッチ8を配設している。
この構成によれば、低温状態ではバイメタルスイッチ8
は図示の状態にあり、エミッタには抵抗5のみが接続さ
れている。そして、高温状態になるとバイメタルスイッ
チ8が上方に凹に変形してその両端がそれぞれエアブリ
ッジ電極10 a、10bに接触する。これにより、抵
抗5とコンデンサ9が接続され、エミッタには抵抗5と
コンデンサ9が並列に接続される。
したがって、この実施例構造を数GH2帯で使用される
トランジスタに適用し、温度変化によってエミッタに接
続した抵抗5の抵抗値が変化されたときに、コンデンサ
9を並列に接続させることで、高周波でのゲインを増幅
させることが可能となる。
なお、前記した抵抗は低周波用途であれば拡散抵抗を用
い、高周波用途であればポリシリコン抵抗を用いること
が好ましい。
また、バイメタルスイッチに代えてニッケル・チタン合
金のような形状記憶合金を用いてスイッチを構成しても
よい。
〔発明の効果〕 以上説明したように本発明は、トランジスタのエミッタ
に接続される第1の抵抗に、温度変化によって動作され
るスイッチ手段により第2の抵抗を断接し得るように構
成しているので、温度が上昇したときにエミッタに接続
される抵抗を増大させ、エミッタ電流の増大を防止する
ことができる。
また、エミッタに接続された抵抗に、温度変化によって
動作されるスイッチ手段によりコンデンサを断接し得る
ように構成しているので、高周波領域での動作時に温度
が上昇したときに、抵抗とコンデンサを並列接続するこ
とで、高周波利得を向上させることができる。これによ
り、高温時、高周波動作時における半導体装置の特性を
向上させることができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例を示し、同図(a)は要部
の縦断面図、同図(b)はその等価回路図、第2図は本
発明の第2実施例を示し、同図(a)は要部の縦断面図
、同図(b)はその等価回路図、第3図は従来の半導体
装置の一例を示し、同図(a)は一部の縦断面図、同図
(b)はその等価回路図である。 1・・・半導体基板(コレクタ領域)、2・・・ベース
領域、3・・・エミッタ領域、4・・・絶縁膜、5・・
・抵抗、5A・・・第1の抵抗、5B・・・第2の抵抗
、6・・・層間絶縁膜、7・・・ベース電極、8・・・
バイメタルスイッチ、9・・・コンデンサ、9A・・・
コンデンサ電極、]Oa、10b・・・エアブリッジ電
極、11・・・ヘス電極。 U)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、トランジスタのエミッタに接続される第1の抵抗と
    、この第1の抵抗に一端を接続した第2の抵抗と、前記
    第1の抵抗と第2の抵抗の他端を温度変化によって断接
    し得るスイッチ手段とを備えることを特徴とする半導体
    装置。 2、トランジスタのエミッタに接続される抵抗と、この
    抵抗に一端を接続したコンデンサと、前記抵抗とコンデ
    ンサの他端を温度変化によって断接し得るスイッチ手段
    とを備えることを特徴とする半導体装置。
JP17304290A 1990-06-30 1990-06-30 半導体装置 Pending JPH0462928A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17304290A JPH0462928A (ja) 1990-06-30 1990-06-30 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17304290A JPH0462928A (ja) 1990-06-30 1990-06-30 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0462928A true JPH0462928A (ja) 1992-02-27

Family

ID=15953132

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17304290A Pending JPH0462928A (ja) 1990-06-30 1990-06-30 半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0462928A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009016845A (ja) * 2007-07-04 2009-01-22 Dongbu Hitek Co Ltd 半導体素子及びその製造方法
US11131351B2 (en) 2017-10-31 2021-09-28 Honda Motor Co., Ltd. Clutch control device
US11162546B2 (en) 2017-10-31 2021-11-02 Honda Motor Co., Ltd. Clutch control device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009016845A (ja) * 2007-07-04 2009-01-22 Dongbu Hitek Co Ltd 半導体素子及びその製造方法
US11131351B2 (en) 2017-10-31 2021-09-28 Honda Motor Co., Ltd. Clutch control device
US11162546B2 (en) 2017-10-31 2021-11-02 Honda Motor Co., Ltd. Clutch control device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5019689B2 (ja) 電流バラスティングesd高感度装置のための装置
CN101960592B (zh) 用于防止金属绝缘体相变装置的自发热的电路和用于制作该电路的集成装置的方法
US4963970A (en) Vertical MOSFET device having protector
US4142115A (en) Semiconductor device with a thermal protective device
US4893159A (en) Protected MOS transistor circuit
JPH0864812A (ja) 過電圧保護半導体スイッチ
EP0385450B1 (en) Semiconductor device with MIS capacitor
KR100298819B1 (ko) 반도체칩에서의정전기방전(esd)보호구조
JP5489922B2 (ja) 改良型太陽光発電回路
JPH02158166A (ja) 集積回路
JP2001332313A (ja) 二次電池パックの温度検知装置及び二次電池パック
JPH0462928A (ja) 半導体装置
EP3568874B1 (en) Thyristor and thermal switch device and assembly techniques therefor
JPH09139468A (ja) 半導体集積回路装置
SE515836C2 (sv) Förfarande för tillverkning av en bipolär högfrekvent kiseltransistor samt effekttransistoranordning
JPS5834945B2 (ja) ヒユ−ズ形prom半導体装置
JP2002184944A (ja) 半導体装置
US3539880A (en) Mis-fet permanent repair physical device
JP3123489B2 (ja) 半導体集積回路における静電保護回路及びその製造方法
US3506886A (en) High power transistor assembly
JPS62234363A (ja) 半導体集積回路
JPS58202573A (ja) 半導体集積回路装置
JPS62172739A (ja) 半導体集積回路
JPS5823471A (ja) 半導体装置
JPH09260588A (ja) 半導体装置