JPH0461011B2 - - Google Patents
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- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 40
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 claims description 38
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 33
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 17
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 12
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 9
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 8
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 55
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 13
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 12
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 12
- -1 diamine carbamates Chemical class 0.000 description 11
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 5
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 4
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 4
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 3
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N buten-2-one Chemical compound CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- PIYNUZCGMLCXKJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxane-2,6-dione Chemical compound O=C1COCC(=O)O1 PIYNUZCGMLCXKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIIUAPMWDSRBSH-UHFFFAOYSA-N 1,4-oxathiane-2,6-dione Chemical compound O=C1CSCC(=O)O1 RIIUAPMWDSRBSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXYVNNWGXQRJAC-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1-[3-(trifluoromethyl)phenyl]propan-2-one Chemical compound CC(=O)C(Cl)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 RXYVNNWGXQRJAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 1-penten-3-one Chemical class CCC(=O)C=C JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFGALGYVFGDXIX-UHFFFAOYSA-N 2,3-Dimethylmaleic anhydride Chemical compound CC1=C(C)C(=O)OC1=O MFGALGYVFGDXIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQZDDWKUQKQXGC-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoxymethyl)oxirane Chemical compound CC(=C)COCC1CO1 LQZDDWKUQKQXGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJRUAPNVLBABCN-UHFFFAOYSA-N 2-(ethenoxymethyl)oxirane Chemical compound C=COCC1CO1 JJRUAPNVLBABCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEPWOCLBLLCOGZ-UHFFFAOYSA-N 2-cyanoethyl prop-2-enoate Chemical group C=CC(=O)OCCC#N AEPWOCLBLLCOGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWWXYLGCHHIKNY-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCCOC(=O)C=C FWWXYLGCHHIKNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical group OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHCHLHOEAKKCAB-UHFFFAOYSA-N 2-oxaspiro[3.5]nonane-1,3-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C11CCCCC1 HHCHLHOEAKKCAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYIUWAVTBADRJG-UHFFFAOYSA-N 2H-pyran-2,6(3H)-dione Chemical compound O=C1CC=CC(=O)O1 SYIUWAVTBADRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVRNUXJQQFPNMN-VAWYXSNFSA-N 3-[(e)-dodec-1-enyl]oxolane-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCC\C=C\C1CC(=O)OC1=O WVRNUXJQQFPNMN-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSGIAEJEVHMQIP-UHFFFAOYSA-N 7,8-diphenyltetradecanedioic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CCCCCC(=O)O)C(CCCCCC(O)=O)C1=CC=CC=C1 YSGIAEJEVHMQIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical group C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 241001441571 Hiodontidae Species 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical group CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006057 Non-nutritive feed additive Substances 0.000 description 1
- QHWKHLYUUZGSCW-UHFFFAOYSA-N Tetrabromophthalic anhydride Chemical compound BrC1=C(Br)C(Br)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Br QHWKHLYUUZGSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKXHCNPAFAXVRZ-UHFFFAOYSA-N benzylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].[NH3+]CC1=CC=CC=C1 XKXHCNPAFAXVRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- SXPWTBGAZSPLHA-UHFFFAOYSA-M cetalkonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 SXPWTBGAZSPLHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960000228 cetalkonium chloride Drugs 0.000 description 1
- 229940115457 cetyldimethylethylammonium bromide Drugs 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- ZFLDQXVPDAGQSI-UHFFFAOYSA-M dibenzyl-hexadecyl-methylazanium;bromide Chemical compound [Br-].C=1C=CC=CC=1C[N+](C)(CCCCCCCCCCCCCCCC)CC1=CC=CC=C1 ZFLDQXVPDAGQSI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 description 1
- 150000004659 dithiocarbamates Chemical class 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJWSAJYUBXQQDR-UHFFFAOYSA-M dodecyltrimethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C XJWSAJYUBXQQDR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUFOSBDICLTFMS-UHFFFAOYSA-M ethyl-hexadecyl-dimethylazanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC VUFOSBDICLTFMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920006228 ethylene acrylate copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- ISXSFOPKZQZDAO-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;sodium Chemical compound [Na].O=C ISXSFOPKZQZDAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- VYFOAVADNIHPTR-UHFFFAOYSA-N isatoic anhydride Chemical compound NC1=CC=CC=C1CO VYFOAVADNIHPTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- SINFYWWJOCXYFD-UHFFFAOYSA-N methoxymethyl prop-2-enoate Chemical compound COCOC(=O)C=C SINFYWWJOCXYFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N methylhexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21C VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- CFJYNSNXFXLKNS-UHFFFAOYSA-N p-menthane Chemical compound CC(C)C1CCC(C)CC1 CFJYNSNXFXLKNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical compound C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- CEAYCPAHSNTNGO-UHFFFAOYSA-M sodium;ethane-1,2-diamine;acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O.NCCN CEAYCPAHSNTNGO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M sodium;naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N tetrachlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Cl AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZEMGTQCPRNXEG-UHFFFAOYSA-M trimethyl(octadecyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C SZEMGTQCPRNXEG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
Description
(産業上の利用分野)
本発明はエポキシ基含有アクリレート系エラス
トマー加硫性組成物に関する。更に詳しくは早期
加硫に対して、すぐれた加工安定性を有し、しか
も機械的特性、耐熱老化性、圧縮永久ひずみなど
の面ですぐれた加硫物を与えるエポキシ基含有ア
クリレート系エラストマー加硫性組成物に関する
ものである。 (従来の技術及び発明が解決しようとする問題
点) 従来より、エポキシ基含有アクリレート系エラ
ストマーの加硫系としてはポリアミン、ジアミン
カーバメート、有機カルボン酸アンモニウム、ジ
チオカルバン酸塩などを用いるのが通例である。 しかしながらポリアミン、ジアミンカーバメー
ト類を用いた場合は加硫速度が早いため、混練加
工工程でスコーチし易いという欠点があり、また
有機カルボン酸アンモニウム、ジチオカルバミン
酸塩類を用いた場合は、加硫速度が比較的遅いた
め、スコーチに対しては安定な配合物を得ること
ができるが、良好な圧縮永久ひずみを得るには長
時間の後加硫を行なわねばならないという欠点が
ある。 これらの欠点を解決するための加硫方法は種々
提案されており、例えば特開昭55−145727号公報
にはエポキシ基含有エラストマーに対し、フタル
酸無水物および特定のイミダゾール化合物を用い
る加硫系が開示されている。しかしこの加硫系は
スコーチに対しては安定な反面、良好な圧縮永久
ひずみを得るには、長時間の後加硫を行なわねば
ならないという欠点を有している。 本発明者等はこれらの欠点を改良すべく種々の
加硫系について検討を重ねた結果、エポキシ基含
有アクリレート系エラストマーに対し、多価カル
ボン酸の無水物とハロゲン原子を陰イオンとする
第4級アンモニウム塩を加硫系として使用するこ
とにより、早期加硫に対して、すぐれた加工安定
性を有し、しかも機械的特性、耐熱老化性、圧縮
永久ひずみなどの面ですぐれた加硫物が得られる
ことを見い出し、本発明を完成したものである。 (問題解決の手段) すなわち、本発明はエポキシ基含有アクリレー
ト系エラストマーに対し多価カルボン酸の無水物
とハロゲン原子を陰イオンとする第4級アンモニ
ウム塩とを配合してなるエポキシ基含有アクリレ
ート系エラストマー加硫性組成物を提供するもの
である。 本発明において用いられるエポキシ基含有アク
リレート系エラストマーは、架橋点としてのエポ
キシ基含有単量体を通常0.1〜10重量%、好まし
くは0.5〜3重量%とアルキル及びアルコキシア
クリレートの中から選ばれた少なくとも一種の単
量体30〜99.9重量%ならびにこれらの単量体と共
重合可能な共重合性末端ビニルまたはビニリデン
基を有する少なくとも一種の単量体0〜70重量%
を乳化重合、懸濁重合、溶液重合、塊状重合など
の公知の重合方により共重合させることにより得
られるエラストマーである。 架橋点として用いられるエポキシ基含有単量体
の例としては、グリシジルアクリレート、グリシ
ジルメタアクリレート、ビニルグリシジルエーテ
ル、アクリルグリシジルエーテル、メタリルグリ
シジルエーテルなとが挙げられるが、特にこれら
の中ではグリシジルアクリレート、グリシジルメ
タアクリレートが好ましい。 エポキシ基含有単量体と共重合可能なアルキル
及びアルコキシアクリレートならびにこれらの単
量体と共重合可能な末端ビニルおよびビニリデン
基を有する単量体の例としては、メチルアクリレ
ート、エチルアクリレート、プロピルアクリレー
ト、n−ブチルアクリレート、n−オクチルアク
リレート、メトキシメチルアクリレート、メトキ
シエチルアクリレート、エトキシエチルアクリレ
ートなどのアクリレートおよびこれらの対応する
メタクリレート;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ル、酪酸ビニルなどのビニルエステル;メチルビ
ニルケトン、エチルビニルケトンなどのビニルケ
トン;スチレン、α−メチルスチレン、ビニルト
ルエンなどのビニル芳香族化合物;ブタジエン、
イソプレンなどの共役ジエン;エチレン、プロピ
レン、1−ブテンなどのα−モノオレフイン;β
−ヒドロキシルエチルアクリレート、4−ヒドロ
キシブチルアクリレートなどの水酸基を有するビ
ニル単量体:アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、β−シアノエチルアクリレートなどのニト
リル基を有するビニルおよびビニリデン単量体な
どが含まれ、これら単量体は1種または2種以上
組み合せて用いることができる。 エポキシ基を有するエラストマーの具体例とし
ては、エポキシ基含有アクリレート共重合体エラ
ストマー、エポキシ基含有エチレン−アクリレー
ト共重合体エラストマー、エポキシ基含有エチレ
ン−酢酸ビニル−アクリレート共重合体エラスト
マー、エポキシ基含有アクリレート−アクリロニ
トリル共重合体エラストマー、エポキシ基含有ブ
タジエン−アクリロニトリル−アクリレート共重
合体エラストマーなどが挙げられるが、特に制限
されない。 これらのエポキシ基含有エラストマーは多価カ
ルボン酸の無水物とハロゲン原子を陰イオンとす
る第4級アンモニウム塩を加硫系として加硫され
る。 本発明で使用する多価カルボン酸の無水物は2
価以上のカルボン酸の無水物であつて、通常脂肪
族、芳香族、脂環式カルボン酸無水物から選択さ
れるが、脂肪族長鎖二塩基酸無水物、主鎖内に芳
香族およびヘテロ原子を含む長鎖二塩基酸無水物
なども用いることができる。 本発明に使用可能な多価カルボン酸の無水物に
は次のようなものが代表的なものとして挙げられ
るが、特にこれらに限定されるものではない。 脂肪族カルボン酸無水物の例としては、無水マ
レイン酸、無水メチルマレイン酸、無水コハク
酸、無水グリタル酸、無水2,2′−ジメチルグル
タル酸、無水2,3−ジメチルマレイン酸、無水
シトラコン酸、無水1−ドデセニルコハク酸、無
水ジクロロロマレイン酸、無水ジグリコール酸、
無水チオジグリコール酸、無水グルタコン酸など
が挙げられる。 芳香族及び脂環式カルボン酸無水物の例として
は、無水フタル酸、無水ジフエン酸、無水イサト
酸、無水トリメリト酸、無水ピロメリト酸、無水
テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル
酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸無水
物、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、無水テト
ラクロロフタル酸、無水テトラブロモフタル酸な
どが挙げられる。 脂肪族長鎖二塩基酸無水物としては例えば、オ
クタデシル二酸縮合物などが挙げられ、主鎖内に
芳香族を含む長鎖二塩基酸無水物しては例えば
7,8−ジフエニル−テトラデカン二酸縮合物な
どが挙げられる。 これらのカルボン酸無水物は、該エラストマー
の重合反応時、もしくは重合終了時に添加混合す
ることができ、あるいは通常ゴム工業で用いる混
練機により該エラストマーに充填剤などの他の配
合剤と併わせて添加混合することができる。 本発明に用いられる多価カルボン酸の無水物
は、エポキシ基含有エラストマー100重量部に対
し通常0.1〜20重量部の割合で用いることができ
る。多価カルボン酸の無水物のエポキシ基含有エ
ラストマーに対する使用割合は加硫速度、加硫物
の機械的特性、圧縮永久ひずみなどの面から、そ
れぞれ好ましい範囲として上記範囲から選択され
るが、0.1重量部未満では、加硫速度の低下が著
しく、実用的な加硫物は得られない。一方、20重
量部を越えると加硫速度が著しく遅くなり、実用
に供し得る加硫物は得られない。好ましくは0.1
〜5重量部である。 本発明で使用するハロゲン原子を陰イオンとす
る第4級アンモニウム塩は次の一般式で示される
化合物である。 一般式中のR1〜R4はアルキル、アリール、ア
ルキルアリール、ポリオキシアルキレン基のよう
な炭素数1〜25程度の炭素原子を有する炭化水素
基であるか、あるいはR1〜R4の内の2つあるい
は3つが窒素原子あるいはリン原子と複素環構造
を形成するものであつてもよい。 Xはハロゲン原子の陰イオンであり、好ましい
ものとしてCl,Br,Iなどの陰イオンが挙げら
れる。 具体的な第4級アンモニウム塩の例としては、
テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラブ
チルアンモニウムクロライド、テトラブチルアン
モニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウム
アイオダイト、n−ドデシルトリメチルアンモニ
ウムブロマイド、セチルジメチルベンジルアンモ
ニウムクロライド、メチルセチルジベンジルアン
モニウムブロマイド、セチルジメチルエチルアン
モニウムブロマイド、オクタデシルトリメチルア
ンモニウムブロマイド、セチルピリジウムクロラ
イド、セチルピリジウムブロマイド、1,8−ジ
アザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7−
ベンジルアンモニウムクロライド、セチルピリジ
ウムアイオダイドなどが挙げられる。 これらのハロゲン原子を陰イオンとする第4級
アンモニウム塩は1種または2種以上を併せて用
いることができ、エポキシ基含有アクリレート系
エラストマー100重量部に対し通常0.1〜10重量部
の割合で用いられる。これらの化合物のエポキシ
基含有アクリレート系エラストマーに対する使用
割合は、加硫速度、加工安定性、貯蔵安定性、加
硫物の機械的特性、圧縮永久ひずみなどの面から
上記範囲内でそれぞれ好ましい範囲として選択さ
れるものであり、0.1重量部未満では加硫がほと
んど進行せず、一方、10重量部を超えて用いた場
合は、加硫速度が極端に早くなり、加工安定性、
貯蔵安定性が損なわれる。好ましくは0.1〜5重
量部である。 本発明の加硫性組成物はエポキシ基含有アクリ
レート系エラストマーに、これらの加硫系ならび
に、通常ゴム工業で用いられている補強剤、充填
剤、可塑剤、安定剤、加工助剤などをロール、バ
ンバリーなどの通常の混練機によつて混合するこ
とによつて調製される。該組成物は目的に応じた
形状に成形され、加硫工程を経て最終製品とされ
る。加硫温度としては通常120℃以上の温度が適
しており、好ましくは150℃〜220℃程度の温度で
約1〜30分間行なわれる。また後加硫を行なう場
合は約150℃〜200℃の温度で1〜24時間程度行な
われる。 本発明のエポキシ基含有アクリレート系エラス
トマー加硫性組成物は、早期加硫に対してすぐれ
た加工安定性と貯蔵安定性を有しており、更に機
械的特性、耐熱老化性、圧縮永久ひずみなどの面
ですぐれた加硫物を与える効率的な加硫系であ
る。従来よりエポキシ基含有アクリレート系エラ
ストマーに対して用いられている加硫系は、良好
な圧縮永久ひずみを得るために比較的長時間の後
加硫が必要とされていたが、本発明の加硫系は短
時間のプレス加硫のみによる場合であつても良好
な圧縮永久ひずみが得られるため後加硫の大巾短
縮、もしくは省略が可能となる。 本発明の加硫系によつて得られるエポキシ基含
有アクリレート系エラストマーの加硫物は、耐熱
老化性、耐候性、耐水性、圧縮永久ひずみなどの
諸特性がすぐれるため、これらの性能を利用して
各種シール材(ガスケツト、O−リング、パツキ
ング、オイルシール)、各種ホース類、ダイアフ
ラムなどの他、各種ベルトやロールなどの用途に
広く有効に利用することができる。 以下の実施例により本発明を具体的に説明す
る。なお、部数は重量部数である。 エポキシ基含有アクリレート系エラストマーの合
成例 10lの重合反応容器を用い下記の重合処方()
および()により、第1表の単量体混合物を共
重合させた。重合は先ず()の各物質を反応容
器に仕込み、反応容器中の混合物のPHを7に調製
し、攪拌させながら系内の温度を5℃にし、脱
気、窒素置換を繰り返し系内の酸素を充分に除去
した後、()の各物質を添加して重合を開始さ
せた。重合は約10時間で終了させた。重合転化率
は97〜99%の範囲内であつた。 重合終了後、重合生成物を塩析し充分水洗した
後、減圧乾燥にて乾燥させそれぞれのエポキシ基
含有アクリレート共重合体エラストマーを得た。
得られたエラストマーのムーニー粘度を第1表に
併せ記載した。 (重合処方) 水 5000g ソジウムドデシルベンゼンスルホネート 100g ソジウムナフタレンスルホネート 50g () 酸ナトリウム 15g エチレンジアミンテトラ酢酸4ナトリウム塩
1g エチレンジアミン酢酸ナトリウム第二鉄塩
0.025g 単量体混合物(第1表) 5000g Na2S2O4 1g ソジウムホルムアルデヒド 1g () スルホキシネート P−メンタンハイドロパー 0.5g オキサイド
トマー加硫性組成物に関する。更に詳しくは早期
加硫に対して、すぐれた加工安定性を有し、しか
も機械的特性、耐熱老化性、圧縮永久ひずみなど
の面ですぐれた加硫物を与えるエポキシ基含有ア
クリレート系エラストマー加硫性組成物に関する
ものである。 (従来の技術及び発明が解決しようとする問題
点) 従来より、エポキシ基含有アクリレート系エラ
ストマーの加硫系としてはポリアミン、ジアミン
カーバメート、有機カルボン酸アンモニウム、ジ
チオカルバン酸塩などを用いるのが通例である。 しかしながらポリアミン、ジアミンカーバメー
ト類を用いた場合は加硫速度が早いため、混練加
工工程でスコーチし易いという欠点があり、また
有機カルボン酸アンモニウム、ジチオカルバミン
酸塩類を用いた場合は、加硫速度が比較的遅いた
め、スコーチに対しては安定な配合物を得ること
ができるが、良好な圧縮永久ひずみを得るには長
時間の後加硫を行なわねばならないという欠点が
ある。 これらの欠点を解決するための加硫方法は種々
提案されており、例えば特開昭55−145727号公報
にはエポキシ基含有エラストマーに対し、フタル
酸無水物および特定のイミダゾール化合物を用い
る加硫系が開示されている。しかしこの加硫系は
スコーチに対しては安定な反面、良好な圧縮永久
ひずみを得るには、長時間の後加硫を行なわねば
ならないという欠点を有している。 本発明者等はこれらの欠点を改良すべく種々の
加硫系について検討を重ねた結果、エポキシ基含
有アクリレート系エラストマーに対し、多価カル
ボン酸の無水物とハロゲン原子を陰イオンとする
第4級アンモニウム塩を加硫系として使用するこ
とにより、早期加硫に対して、すぐれた加工安定
性を有し、しかも機械的特性、耐熱老化性、圧縮
永久ひずみなどの面ですぐれた加硫物が得られる
ことを見い出し、本発明を完成したものである。 (問題解決の手段) すなわち、本発明はエポキシ基含有アクリレー
ト系エラストマーに対し多価カルボン酸の無水物
とハロゲン原子を陰イオンとする第4級アンモニ
ウム塩とを配合してなるエポキシ基含有アクリレ
ート系エラストマー加硫性組成物を提供するもの
である。 本発明において用いられるエポキシ基含有アク
リレート系エラストマーは、架橋点としてのエポ
キシ基含有単量体を通常0.1〜10重量%、好まし
くは0.5〜3重量%とアルキル及びアルコキシア
クリレートの中から選ばれた少なくとも一種の単
量体30〜99.9重量%ならびにこれらの単量体と共
重合可能な共重合性末端ビニルまたはビニリデン
基を有する少なくとも一種の単量体0〜70重量%
を乳化重合、懸濁重合、溶液重合、塊状重合など
の公知の重合方により共重合させることにより得
られるエラストマーである。 架橋点として用いられるエポキシ基含有単量体
の例としては、グリシジルアクリレート、グリシ
ジルメタアクリレート、ビニルグリシジルエーテ
ル、アクリルグリシジルエーテル、メタリルグリ
シジルエーテルなとが挙げられるが、特にこれら
の中ではグリシジルアクリレート、グリシジルメ
タアクリレートが好ましい。 エポキシ基含有単量体と共重合可能なアルキル
及びアルコキシアクリレートならびにこれらの単
量体と共重合可能な末端ビニルおよびビニリデン
基を有する単量体の例としては、メチルアクリレ
ート、エチルアクリレート、プロピルアクリレー
ト、n−ブチルアクリレート、n−オクチルアク
リレート、メトキシメチルアクリレート、メトキ
シエチルアクリレート、エトキシエチルアクリレ
ートなどのアクリレートおよびこれらの対応する
メタクリレート;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ル、酪酸ビニルなどのビニルエステル;メチルビ
ニルケトン、エチルビニルケトンなどのビニルケ
トン;スチレン、α−メチルスチレン、ビニルト
ルエンなどのビニル芳香族化合物;ブタジエン、
イソプレンなどの共役ジエン;エチレン、プロピ
レン、1−ブテンなどのα−モノオレフイン;β
−ヒドロキシルエチルアクリレート、4−ヒドロ
キシブチルアクリレートなどの水酸基を有するビ
ニル単量体:アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、β−シアノエチルアクリレートなどのニト
リル基を有するビニルおよびビニリデン単量体な
どが含まれ、これら単量体は1種または2種以上
組み合せて用いることができる。 エポキシ基を有するエラストマーの具体例とし
ては、エポキシ基含有アクリレート共重合体エラ
ストマー、エポキシ基含有エチレン−アクリレー
ト共重合体エラストマー、エポキシ基含有エチレ
ン−酢酸ビニル−アクリレート共重合体エラスト
マー、エポキシ基含有アクリレート−アクリロニ
トリル共重合体エラストマー、エポキシ基含有ブ
タジエン−アクリロニトリル−アクリレート共重
合体エラストマーなどが挙げられるが、特に制限
されない。 これらのエポキシ基含有エラストマーは多価カ
ルボン酸の無水物とハロゲン原子を陰イオンとす
る第4級アンモニウム塩を加硫系として加硫され
る。 本発明で使用する多価カルボン酸の無水物は2
価以上のカルボン酸の無水物であつて、通常脂肪
族、芳香族、脂環式カルボン酸無水物から選択さ
れるが、脂肪族長鎖二塩基酸無水物、主鎖内に芳
香族およびヘテロ原子を含む長鎖二塩基酸無水物
なども用いることができる。 本発明に使用可能な多価カルボン酸の無水物に
は次のようなものが代表的なものとして挙げられ
るが、特にこれらに限定されるものではない。 脂肪族カルボン酸無水物の例としては、無水マ
レイン酸、無水メチルマレイン酸、無水コハク
酸、無水グリタル酸、無水2,2′−ジメチルグル
タル酸、無水2,3−ジメチルマレイン酸、無水
シトラコン酸、無水1−ドデセニルコハク酸、無
水ジクロロロマレイン酸、無水ジグリコール酸、
無水チオジグリコール酸、無水グルタコン酸など
が挙げられる。 芳香族及び脂環式カルボン酸無水物の例として
は、無水フタル酸、無水ジフエン酸、無水イサト
酸、無水トリメリト酸、無水ピロメリト酸、無水
テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル
酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸無水
物、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、無水テト
ラクロロフタル酸、無水テトラブロモフタル酸な
どが挙げられる。 脂肪族長鎖二塩基酸無水物としては例えば、オ
クタデシル二酸縮合物などが挙げられ、主鎖内に
芳香族を含む長鎖二塩基酸無水物しては例えば
7,8−ジフエニル−テトラデカン二酸縮合物な
どが挙げられる。 これらのカルボン酸無水物は、該エラストマー
の重合反応時、もしくは重合終了時に添加混合す
ることができ、あるいは通常ゴム工業で用いる混
練機により該エラストマーに充填剤などの他の配
合剤と併わせて添加混合することができる。 本発明に用いられる多価カルボン酸の無水物
は、エポキシ基含有エラストマー100重量部に対
し通常0.1〜20重量部の割合で用いることができ
る。多価カルボン酸の無水物のエポキシ基含有エ
ラストマーに対する使用割合は加硫速度、加硫物
の機械的特性、圧縮永久ひずみなどの面から、そ
れぞれ好ましい範囲として上記範囲から選択され
るが、0.1重量部未満では、加硫速度の低下が著
しく、実用的な加硫物は得られない。一方、20重
量部を越えると加硫速度が著しく遅くなり、実用
に供し得る加硫物は得られない。好ましくは0.1
〜5重量部である。 本発明で使用するハロゲン原子を陰イオンとす
る第4級アンモニウム塩は次の一般式で示される
化合物である。 一般式中のR1〜R4はアルキル、アリール、ア
ルキルアリール、ポリオキシアルキレン基のよう
な炭素数1〜25程度の炭素原子を有する炭化水素
基であるか、あるいはR1〜R4の内の2つあるい
は3つが窒素原子あるいはリン原子と複素環構造
を形成するものであつてもよい。 Xはハロゲン原子の陰イオンであり、好ましい
ものとしてCl,Br,Iなどの陰イオンが挙げら
れる。 具体的な第4級アンモニウム塩の例としては、
テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラブ
チルアンモニウムクロライド、テトラブチルアン
モニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウム
アイオダイト、n−ドデシルトリメチルアンモニ
ウムブロマイド、セチルジメチルベンジルアンモ
ニウムクロライド、メチルセチルジベンジルアン
モニウムブロマイド、セチルジメチルエチルアン
モニウムブロマイド、オクタデシルトリメチルア
ンモニウムブロマイド、セチルピリジウムクロラ
イド、セチルピリジウムブロマイド、1,8−ジ
アザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7−
ベンジルアンモニウムクロライド、セチルピリジ
ウムアイオダイドなどが挙げられる。 これらのハロゲン原子を陰イオンとする第4級
アンモニウム塩は1種または2種以上を併せて用
いることができ、エポキシ基含有アクリレート系
エラストマー100重量部に対し通常0.1〜10重量部
の割合で用いられる。これらの化合物のエポキシ
基含有アクリレート系エラストマーに対する使用
割合は、加硫速度、加工安定性、貯蔵安定性、加
硫物の機械的特性、圧縮永久ひずみなどの面から
上記範囲内でそれぞれ好ましい範囲として選択さ
れるものであり、0.1重量部未満では加硫がほと
んど進行せず、一方、10重量部を超えて用いた場
合は、加硫速度が極端に早くなり、加工安定性、
貯蔵安定性が損なわれる。好ましくは0.1〜5重
量部である。 本発明の加硫性組成物はエポキシ基含有アクリ
レート系エラストマーに、これらの加硫系ならび
に、通常ゴム工業で用いられている補強剤、充填
剤、可塑剤、安定剤、加工助剤などをロール、バ
ンバリーなどの通常の混練機によつて混合するこ
とによつて調製される。該組成物は目的に応じた
形状に成形され、加硫工程を経て最終製品とされ
る。加硫温度としては通常120℃以上の温度が適
しており、好ましくは150℃〜220℃程度の温度で
約1〜30分間行なわれる。また後加硫を行なう場
合は約150℃〜200℃の温度で1〜24時間程度行な
われる。 本発明のエポキシ基含有アクリレート系エラス
トマー加硫性組成物は、早期加硫に対してすぐれ
た加工安定性と貯蔵安定性を有しており、更に機
械的特性、耐熱老化性、圧縮永久ひずみなどの面
ですぐれた加硫物を与える効率的な加硫系であ
る。従来よりエポキシ基含有アクリレート系エラ
ストマーに対して用いられている加硫系は、良好
な圧縮永久ひずみを得るために比較的長時間の後
加硫が必要とされていたが、本発明の加硫系は短
時間のプレス加硫のみによる場合であつても良好
な圧縮永久ひずみが得られるため後加硫の大巾短
縮、もしくは省略が可能となる。 本発明の加硫系によつて得られるエポキシ基含
有アクリレート系エラストマーの加硫物は、耐熱
老化性、耐候性、耐水性、圧縮永久ひずみなどの
諸特性がすぐれるため、これらの性能を利用して
各種シール材(ガスケツト、O−リング、パツキ
ング、オイルシール)、各種ホース類、ダイアフ
ラムなどの他、各種ベルトやロールなどの用途に
広く有効に利用することができる。 以下の実施例により本発明を具体的に説明す
る。なお、部数は重量部数である。 エポキシ基含有アクリレート系エラストマーの合
成例 10lの重合反応容器を用い下記の重合処方()
および()により、第1表の単量体混合物を共
重合させた。重合は先ず()の各物質を反応容
器に仕込み、反応容器中の混合物のPHを7に調製
し、攪拌させながら系内の温度を5℃にし、脱
気、窒素置換を繰り返し系内の酸素を充分に除去
した後、()の各物質を添加して重合を開始さ
せた。重合は約10時間で終了させた。重合転化率
は97〜99%の範囲内であつた。 重合終了後、重合生成物を塩析し充分水洗した
後、減圧乾燥にて乾燥させそれぞれのエポキシ基
含有アクリレート共重合体エラストマーを得た。
得られたエラストマーのムーニー粘度を第1表に
併せ記載した。 (重合処方) 水 5000g ソジウムドデシルベンゼンスルホネート 100g ソジウムナフタレンスルホネート 50g () 酸ナトリウム 15g エチレンジアミンテトラ酢酸4ナトリウム塩
1g エチレンジアミン酢酸ナトリウム第二鉄塩
0.025g 単量体混合物(第1表) 5000g Na2S2O4 1g ソジウムホルムアルデヒド 1g () スルホキシネート P−メンタンハイドロパー 0.5g オキサイド
【表】
実施例 1
エポキシ基含有アクリレート系エラストマー
A100部、ステアリン酸1部、MAFカーボンブラ
ツク(東海カーボン社製品シート116)50部およ
び第2表に示される各種加硫剤の所定量を6イン
チロールで混練し、配合物を調製した。
A100部、ステアリン酸1部、MAFカーボンブラ
ツク(東海カーボン社製品シート116)50部およ
び第2表に示される各種加硫剤の所定量を6イン
チロールで混練し、配合物を調製した。
【表】
油社製
得られた各配合物についてムーニースコーチタ
イムを測定し、更に170℃で20分間のプレス加硫
を行ない、その後150℃でギヤーオープン中で16
時間の後加硫を行った。これらの加硫物につい
て、JISK−6301に準じて加硫諸物性を測定した。
得られた結果を第3表に示した。また第1図、第
2図には各配合物の170℃におけるオツシレーテ
イング、デイスク・レオメーター〔東洋精機社
製〕(以下ODRと略す)による加硫曲線を示し
た。 これらの結果より本発明の加硫系は従来より使
用されている加硫系(比較例9.10)に比べスコー
チ安定性と加硫スナツピー性(加硫曲線において
加硫反応が始まると短時間にトルクが上昇し、一
定値に達する挙動)を有している。更に従来より
使用されている加硫系は、170℃、20分間のプレ
ス加硫では圧縮永久ひずみが劣り、長時間の後加
硫を施こさねば良好な値が得られないが、本発明
の加硫系は170℃、20分間という短時間のプレス
加硫においても圧縮永久ひずみはすぐれた値を示
しておりこの結果から、後加硫を省略できること
もわかる。
得られた各配合物についてムーニースコーチタ
イムを測定し、更に170℃で20分間のプレス加硫
を行ない、その後150℃でギヤーオープン中で16
時間の後加硫を行った。これらの加硫物につい
て、JISK−6301に準じて加硫諸物性を測定した。
得られた結果を第3表に示した。また第1図、第
2図には各配合物の170℃におけるオツシレーテ
イング、デイスク・レオメーター〔東洋精機社
製〕(以下ODRと略す)による加硫曲線を示し
た。 これらの結果より本発明の加硫系は従来より使
用されている加硫系(比較例9.10)に比べスコー
チ安定性と加硫スナツピー性(加硫曲線において
加硫反応が始まると短時間にトルクが上昇し、一
定値に達する挙動)を有している。更に従来より
使用されている加硫系は、170℃、20分間のプレ
ス加硫では圧縮永久ひずみが劣り、長時間の後加
硫を施こさねば良好な値が得られないが、本発明
の加硫系は170℃、20分間という短時間のプレス
加硫においても圧縮永久ひずみはすぐれた値を示
しておりこの結果から、後加硫を省略できること
もわかる。
【表】
【表】
実施例 2
前記のエポキシ基含有アクリレート系エラスト
マー100部、ステアリン酸1部、MAFカーボンブ
ラツク部(エラストマーCについては60部)およ
び第4表に示される加硫剤の所定量を6インチロ
ールで混練し配合物を調製した。
マー100部、ステアリン酸1部、MAFカーボンブ
ラツク部(エラストマーCについては60部)およ
び第4表に示される加硫剤の所定量を6インチロ
ールで混練し配合物を調製した。
【表】
得られた配合物を170℃で20分間のプレス加硫
を行ない、更に150℃のギヤーオープン中で16時
間の後加硫を行つた。実施例1と同様に各加硫物
の諸物性を測定した。得られた結果を第5表に示
した。
を行ない、更に150℃のギヤーオープン中で16時
間の後加硫を行つた。実施例1と同様に各加硫物
の諸物性を測定した。得られた結果を第5表に示
した。
【表】
実施例 3
エポキシ基含有アクリレート系エラストマー
A100部、ステアリン酸1部、MAFカーボンブラ
ツク50部および第6表に示される加硫剤の所定量
を6インチロールで混練し配合物を調製した。
A100部、ステアリン酸1部、MAFカーボンブラ
ツク50部および第6表に示される加硫剤の所定量
を6インチロールで混練し配合物を調製した。
【表】
得られた配合物は170℃で20分間プレス加硫を
行ない、更に150℃のギヤーオープン中で16時間
の後加硫を行つた。これらの加硫物は実施例1と
同様に各諸物性を測定した。得られた結果を第7
表に示した。また第3図及び第4図には170℃に
おけるODRの加硫曲線を示した。 これらの結果からハロゲン原子を陰イオンとす
る第4級アンモニウム塩の増量は加硫速度を早め
る。一方、カルボン酸無水物を過剰に配合すると
加硫速度が遅くなり、加硫物の諸物性値が損なわ
れる。更にハロゲン原子を陰イオンとする第4級
アンモニウム塩またはカルボン酸無水物のどちら
か一方が欠けると(比較例35,36)加硫度が上が
らず実用的には適さないことがわかる。
行ない、更に150℃のギヤーオープン中で16時間
の後加硫を行つた。これらの加硫物は実施例1と
同様に各諸物性を測定した。得られた結果を第7
表に示した。また第3図及び第4図には170℃に
おけるODRの加硫曲線を示した。 これらの結果からハロゲン原子を陰イオンとす
る第4級アンモニウム塩の増量は加硫速度を早め
る。一方、カルボン酸無水物を過剰に配合すると
加硫速度が遅くなり、加硫物の諸物性値が損なわ
れる。更にハロゲン原子を陰イオンとする第4級
アンモニウム塩またはカルボン酸無水物のどちら
か一方が欠けると(比較例35,36)加硫度が上が
らず実用的には適さないことがわかる。
【表】
実施例 4
公知の重合法によつて合成したエチレン−酢酸
ビニル−ブチルアクリレート−グリシジルメタア
クリレート四元共重合体エラストマー〔13C−
NMR化学シフトから求めた組成(重量%):エ
チレン21、酢酸ビニル37、ブチルアクリレート
41.5、グリシジルメタアクリレート1.5〕100部、
ステアリン酸1部、MAFカーボンブラツク60部
および第8表に示される各種加硫剤の所定量を6
インチロールで混練し配合物を調製した。得られ
た各々の配合物のムーニースコーチタイムを測定
し、実施例1と同様に加硫物を作成し諸物性値を
測定した。得られた結果を第9表に示した。また
第5図には170℃におけるODRの加硫曲線を示し
た。
ビニル−ブチルアクリレート−グリシジルメタア
クリレート四元共重合体エラストマー〔13C−
NMR化学シフトから求めた組成(重量%):エ
チレン21、酢酸ビニル37、ブチルアクリレート
41.5、グリシジルメタアクリレート1.5〕100部、
ステアリン酸1部、MAFカーボンブラツク60部
および第8表に示される各種加硫剤の所定量を6
インチロールで混練し配合物を調製した。得られ
た各々の配合物のムーニースコーチタイムを測定
し、実施例1と同様に加硫物を作成し諸物性値を
測定した。得られた結果を第9表に示した。また
第5図には170℃におけるODRの加硫曲線を示し
た。
【表】
【表】
【表】
第1図〜第5図に加硫曲線を示す。第1図及び
第2図は実施例1の、第3図及び第4図は実施例
3の、第5図は実施例4の加硫曲線である。各図
中の数字は実験番号を表わす。
第2図は実施例1の、第3図及び第4図は実施例
3の、第5図は実施例4の加硫曲線である。各図
中の数字は実験番号を表わす。
Claims (1)
- 1 エポキシ基含有アクリレート系エラストマー
に多価カルボン酸の無水物と、ハロゲン原子を陰
イオンとする第4級アンモニウム塩とを配合して
なるエポキシ基含有アクリレート系エラストマー
加硫性組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7627485A JPS61235424A (ja) | 1985-04-10 | 1985-04-10 | エポキシ基含有エラストマ−加硫性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7627485A JPS61235424A (ja) | 1985-04-10 | 1985-04-10 | エポキシ基含有エラストマ−加硫性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61235424A JPS61235424A (ja) | 1986-10-20 |
JPH0461011B2 true JPH0461011B2 (ja) | 1992-09-29 |
Family
ID=13600673
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7627485A Granted JPS61235424A (ja) | 1985-04-10 | 1985-04-10 | エポキシ基含有エラストマ−加硫性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61235424A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003025043A1 (en) * | 2001-09-14 | 2003-03-27 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Resin composition for optical-semiconductor encapsulation |
EP2471852A1 (de) * | 2010-12-29 | 2012-07-04 | Lanxess Deutschland GmbH | Vulkanisierbare Zusammensetzungen auf Basis Epoxygruppen-haltiger Nitrilkautschuke |
EP2471851A1 (de) * | 2010-12-29 | 2012-07-04 | LANXESS Deutschland GmbH | Vulkanisierbare Zusammensetzungen auf Basis Epoxygruppen-haltiger Nitrilkautschuke |
EP2581409A1 (de) | 2011-10-11 | 2013-04-17 | Lanxess Deutschland GmbH | Vulkanisierbare Zusammensetzungen auf Basis Epoxygruppen-haltiger Nitrilkautschuke |
-
1985
- 1985-04-10 JP JP7627485A patent/JPS61235424A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61235424A (ja) | 1986-10-20 |
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