JPH0446070A - 金属部材とセラミックス或はサーメット部材の接合方法 - Google Patents

金属部材とセラミックス或はサーメット部材の接合方法

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JPH0446070A
JPH0446070A JP14998790A JP14998790A JPH0446070A JP H0446070 A JPH0446070 A JP H0446070A JP 14998790 A JP14998790 A JP 14998790A JP 14998790 A JP14998790 A JP 14998790A JP H0446070 A JPH0446070 A JP H0446070A
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(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は金属部材とセラミックス或はサーメット部材の
接合方法に関し、より詳しくは熱歪の少ない金属部材と
セラミックス或はサーメット部材の接合方法に関する。
(従来の技術) セラミックス或はサーメット部材は、耐摩耗用途等に多
用されているが、これらの材料は硬質であるが、脆いた
め、通常は、単体で使用されず、金属部材に接合された
複合材として、使用されることが多い。セラミックス或
はサーメット部材と金属部材の接合は、従来から、ろう
付は或は拡散接合法により行われてきた。これらの接合
方法は、材料を600〜1200℃に加熱する必要があ
るため、熱膨張率の異なるセラミックス或いはサーメッ
トと金属の場合、冷却により大きな熱歪を生じ、接合部
材の破壊、或いは、著しい変形を伴う。
そのため、熱膨張差による残留応力を軽減するために、
中間層として、セラミックスに近い熱膨張率の金属を用
いる方法や、中間層として、軟質なAfやCu等を用い
、これらの金属の弾性変形、或いは、塑性変形により応
力を緩和する方法が検討されている。しかし、加熱によ
って接合界面に既知のごと(脆弱な化合物層を形成し、
例えば、窒化珪素と1の拡散接合ではAl−8i−○の
生成、サイアロンとNiではNi5Si2の形成が認め
られる。
また、ろう接法においては、AfNを活性金属であるT
iを含むろう材を用いて接合しようとするとき、界面に
Tiの偏析を生ずる (日本金属学会1990年春期大
会講演概要)。これらの、多くは脆性相となる化合物層
や変質層の形成に加え、相互拡散係数の差によってボイ
ドの形成を生じ、接合強度を著しく劣化させる。
そのため、超高真空中において、接合部材表面のイオン
スパッタリングを行い、活性面を維持した状態で密着さ
せることによって、微小歪圧接を図る方法(特開昭56
−58336号)、或いは、In −Sn等の軟質な金
属或いは合金をインサート材として用い、同様に、活性
化処理を施した後、軽加圧にて軟質な金属或いは合金を
変形させることにより、超高真空中で接合を図る方法(
溶接技術1989年5月号)が提示されている。しかし
、これらの方法は、前者において、活性面を低加圧で密
着させようとするとき、界面に空隙を生じさせず、互い
の接合面を均一に原子間距離にまで近づけようとするた
め、予め、接合面の超平滑加工を必要とし、また、後者
においても、超高真空装置を用いて清浄化処理と圧接を
行うため、装置の排気系、摺動部及び素材等に高精度な
配慮を必要とする。そのため、これらはセラミックスや
サーメットの接合において、熱歪を伴うことなく、無変
質接合を達成する上で、理想的な接合方法と考えられる
ものの、超高真空装置は高価であり、工業的にはコスト
、作業性共に、必ずしも有利ではない。
(発明が解決しようとする課題) 多結晶材料で異相を多く含む実用材料においては、接合
面の鏡面仕上げを施しても、イオンエツチング等の活性
化処理により、微細な凹凸を形成し、平滑表面の保持が
困難である。また、セラミックス或いはサーメット表面
の場合、研削仕上げ面はチッピングやマイクロクラック
があり、金属に比べ複雑な形状を呈して、鏡面仕上げは
コスト面で高価になる。
このため、実用材料を経済的に接合しようとするには、
工業的に容易に得られる技術の範囲、即ち、接合部材の
表面粗さは、セラミックスやサーメット部材においては
、焼結のままの表面、或いは、#180〜#3000程
度の研削仕上げとし、金属部材は、そのまま、或いは、
機械切削、研削仕上げによって容易に加工できる2、0
μmRa以下程度の表面粗さとする必要がある。そして
、接合面の活性化処理は、油拡散ポンプで容易に得られ
る程度の高真空中で行い、活性面を維持したまま密着さ
せることによって、金属部材とセラミックス或いはサー
メット部材との接合を達成する必要がある。
(課題を解決するための手段) 本発明においては、#180〜#30011度に研削仕
上げされたセラミックス或いはサーメット部材、及び接
合面の表面粗さを2,0μmRa以下とする金属部材を
用い、 (1)セラミックス或はサーメット部材の接合面を、不
活性ガスイオンエツチングにより活性化処理を施し、同
様に、接合する金属部材の接合面を、不活性ガスイオン
エツチングにより活性化処理を施し、ただちに、高真空
槽内で、加圧接合を行う。
このとき、接合部材には、(2)予め、Ag、 AI7
 、 Pb。
Sn、、Zn等の金属或は、これらの金属を主成分とす
る合金を接合面に接合した金属部材と、セラミックス或
はサーメット部材を用いても、−向に、差し支えない。
また、(3)セラミックス或はサーメット部材の接合面
に、予め、Ag、 AI 、 CuSPb、 Sn、 
Zn等の金属或は、これらの金属を主成分とする合金を
メタライズ或はろう付けし、不活性ガスイオンエツチン
グにより活性化処理を施し、同様に、接合する金属部材
の接合面を、不活性ガスイオンエツチングにより活性化
処理を施し、ただちに、高真空槽内で、加圧接合を行う
ことができる。
また、(4)予め、Ag、 AI、Cu、 PbSSn
、 Zn等の金属或は、これらの金属を主成分とする合
金を接合面に接合した金属部材と、セラミックス或はサ
ーメット部材を用い、互いの接合面に該活性化処理を施
した後、該金属部材に接合した該金属或は該合金をスパ
ッターし、セラミック或はサーメット表面にコーティン
グした後、ただちに、高真空槽内で、加圧接合を行うこ
とができる。
この場合、金属部材に、予め、接合し、中間層として用
いる金属は、種々の検討結果より、Cu及びCu合金、
もしくは、それよりも軟質な金属とすることによって接
合が可能であり、上記の金属は、これを満たすものであ
る。そして、加圧接合の際、I X 10=Torrよ
り低い真空中でも、接合は達成できるが、超高真空雰囲
気を用いる場合、真空装置が高価になり、経済的ではな
い。また、大気成分を含むI X 10”−3Torr
を越える真空雰囲気では、活性化処理を施した表面が、
残留ガス成分によって再び汚染され、接合強度の著しい
低下、或いは、接合が困難となり、好ましくない。この
ことから、圧接時の真空度は、1×10−6〜1×1O
−3Torrとする。また、接合部材の温度は、活性化
処理の際、イオンエツチングによって上昇するが、接合
部材に接する電極部を冷却することにより、温度上昇を
抑制することが可能で、このとき、常温より更に冷却す
るのは経済的ではなく、また、熱伝導率の小さいセラミ
ックス等では十分に冷却することが困難となるが、熱歪
並びに化合物層や偏析相を生じさせないため、上限は3
00℃とする必要がある。また、加圧力は、金属部材或
いは、中間層を含む場合は中間層部材(以下、接合金属
部材という)の降伏強度の約3倍程度が望ましく、これ
によって、密着はほぼ達成され、接合金属部材のせん断
強度に近い接合強さが得られるが、接合金属部材の降伏
強度より小さい場合、実用的な接合強さは得られない。
本性において、イオンエツチングによる活性化処理によ
って、金属部材及びセラミックス或いはサーメット部材
の接合表面が充分に清浄化された後は、加圧を大きくす
ることなく、常温でセラミックスやサーメットを破壊せ
ずに接合を行うことができ、加熱による化合物層や偏析
相を生じることなく、且つ、ボイドの形成もない、熱歪
の少ないセラミックスやサーメットと金属の接合体を製
造することができる。
(実施例) 本性による実施例と比較例の接合処理条件、並びに接合
強さを第1表に示す。
また、接合体の接合強さの評価は、図面に示すせん断強
度測定治具を用い、セラミックス或いはサーメットの接
合界面に直角な一面を測定治具に載せ、試料挿入部に、
著しい隙間がな(、且つ、金属部材が上下に摺動できる
ように押さえ材を挿入した後、金属部材上部より荷重を
加え、接合体のせん断破断に至る最大荷重を求め、せん
断強度とした。
実施例1は、予め、オーステナイト系ステンレス鋼(J
 I S記号SUS 304、以下、5US304とい
う)にAIを常温低加圧接合した金属部材と窒化珪素セ
ラミックス部材について、窒化珪素の接合面を#180
ダイヤモンド研削により仕上げ、該金属部材と共に、ア
セトン中にて超音波洗浄を施した後、接合用部材とした
。活性化処理は2 X 10 ’Torr以下の高真空
槽内で、Arガス分圧5 X 103Torrとし、グ
ロー放電スパッタにより、金属部材のAI側表面を30
0 nm、窒化珪素表面を150にイオンエツチングし
た後、活性面を持ったA1表面をグロー放電を用いてス
パッタし、窒化珪素表面にA1200nm厚みのコーテ
ィングを施した。その後、ただちに% 2 X 1O−
5Torr以下の高真空中において、荷重20kg/−
で接合面同士を密着させ接合を行った。
同様にして、実施例2及び3において、圧接荷重を変え
て接合を行い、また、実施例4〜6においては、予め窒
化珪素セラミックスの接合面に#3000ダイヤモンド
研削仕上げを施して用い、圧接荷重を変えて接合を行っ
た。
実施例7及び8は、窒化珪素セラミックスの活性化処理
において、イオンエツチング量を変化させて接合を行い
、実施例9は、セラミックス接合面へのコーティングを
施さずに接合を行った。
また、実施例10は、圧接の際、異なる真空雰囲気中で
接合を行った例を示す。実施例11は、市販のCBNを
そのまま用いて接合し、実施例12及び13は、予め、
SUS 304にpbを常温低加圧接合した金属部材と
アルミナセラミックスを用い、活性化処理を行った後、
ただちに接合を行ったものと、セラミックス表面にPb
コーティングを施した後、接合を行ったものを示す。
実施例14は、前述した5US304−Pbの金属部材
と超硬を用い、実施例15は、SUS゛304金属部材
と、予め、接合面にAgを常温低加圧接合した超硬を用
い、実施例16は、5US304金属部材と、予め、接
合面にAi’lOμm厚みのコーティングを施した超硬
を用いて、それぞれ、活性化処理を行った後、ただちに
接合を行った。そして、実施例17において、予め、5
US304にZnを常温低加圧接合した金属部材と、実
施例18に、予め、SUS 304にSnを常温低加圧
接合した金属部材を用い、それぞれ、超硬と接合を行っ
た。
また、実施例19及び20は、予め、TiにAfを常温
低加圧接合した金属部材とアルミナセラミックスを用い
、アルミナ接合面のイオンエツチング量を変化させて接
合を行った。
次に、実施例21及び22は、予め、−膜構造用圧延鋼
材(J I S記号 5841、以下、5S41という
)にCuを銀ろう付けした金属部材と硼化物サーメット
部材を用い、硼化物サーメット表面へのCuコーテイン
グ量を変えて、圧接時の真空雰囲気を8 X 1O−6
Torr以下の高真空中として、荷重100kg/−で
接合を行った。
また、実施例23においては、前述した5841−Cu
の金属部材と超硬を用い、超硬の接合面にCuコーティ
ングを施した後、接合を行い、実施例24では、同一組
合わせにおいて、活性化処理及びCuコーティングを行
った後、異なる真空雰囲気中で接合を行った。
また、実施例25に、−超硬と金属部材としてCuブロ
ックを用いて接合を行った場合を示す。
いずれも、実用的に十分な接合強度が得られ、また、十
分な活性化処理を施した後、必要に応じて、接合する中
間層として用いる金属或いは合金をセラミックス或いは
サーメット部材の接合面にコーティングした後、2 X
 10’Torrより低い高真空中において、接合金属
部材が持つ降伏強度の約3倍程度の圧接荷重によって、
ただちに接合を行うことにより、接合金属部材のせん断
強度に近い接合強さが得られる。
しかし、活性化処理において、イオンエツチング量を減
じた場合、接合面の活性化は不十分となって接合強度は
低下し〈実施例7.19) 、接合面の汚染層や酸化膜
等を除去した後は、それ以上のイオンエツチングを加え
ても、接合強度は向上されない(実施例8.20)。
また、活性化処理を行った後、セラミックス或いはサー
メット部材の接合面に、接合金属部材によるコーティン
グを行わず、ただちに接合した場合、接合部材の組合わ
せによって接合強度が低下する場合も認められるが(実
施例9)、僅かなコーティングを施すことによって接合
強度は著しく改善される(実施例21)。
そして、圧接の際、極めて微量の大気通気によってチャ
ンバー内雰囲気を変えて接合したとき、活性化した接合
面が、再び、吸着汚染されることによって接合強さは低
下しく実施例10.24)用いる接合金属部材の種類と
チャンバー内雰囲気、及び、活性化処理後、活性面を密
着させるまでの時間によって、接合強さは著しく影響さ
れることを示す。
また、圧接は前述したように、接合金属部材の降伏強度
の約3倍程度の荷重によって、はぼ、接合金属部材が持
つせん断強度に近い接合強さが得られるが、接合金属部
材の降伏強度程度の荷重によっても、十分な接合強さが
得られた(実施例1゜4)。
これに対し、比較例1は、前述した5US304−AI
の金属部材と窒化珪素セラミックス部材を用い、グロー
放電スパッタにより、金属部材とセラミックス部材の各
接合面を活性化処理した後、チャンバー内を大気開放し
て、その後、荷重60kg/mfllで接合面同士を密
着させたが、接合は達成されなかった。
また、比較例2において、セラミックス接合面の活性化
処理を行わず、密着させた場合も接合は達成されず、比
較例3に、圧接荷重を接合金属部材が持つ降伏強度の約
1/4として密着させても、実用的な接合強さは得られ
なかった。
また、比較例4及び5については、異なる接合部材の組
合わせによって活性化処理を行った後、セラミックス或
いはサーメット部材表面にコーティングを施し、その後
、チャンバー内雰囲気を、僅かな大気通気により、大気
成分を含む減圧雰囲気として接合を図ったが、いずれも
、接合は達成されなかった。
(発明の効果) 本発明の方法によって、従来の加熱を伴う接合法におい
て、著しく接合強さを阻害した熱歪や、接合界面の化合
物層或いは偏析相の形成を少なくし、セラミックス或い
はサーメット部材に変形や破壊を生じさせずに、実用的
な接合強さを持つ接合体を製造することができる。
また、接合部材の表面粗さと、活性化処理及び圧接の際
の真空雰囲気を、工業的に容易に得られる範囲とするこ
とによって、短時間、且つ、容易で、安価に製造するこ
とが可能となり、工業的に極めて有利となる。
【図面の簡単な説明】
図面は、本発明の方法による接合強度試験1片及びせん
断強度測定治具の正面図である。 1・・・接合強度試験片

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)セラミックス或はサーメット部材の接合面を、不
    活性ガスイオンエッチングにより活性化処理を施し、同
    様に、接合する金属部材の接合面を不活性ガスイオンエ
    ッチングにより活性化処理を施し、ただちに1×10^
    −^6Torr〜1×10^−^3Torrの真空槽内
    で、接合部材の温度t(℃)、加圧力F1で圧接させる
    にあたって、 常温≦t≦300 金属部材の降伏強度≦F1 なる条件を満たす金属部材とセラミックス或はサーメッ
    ト部材の接合方法。
  2. (2)金属部材の接合面に、予め、Ag、Al、Pb、
    Sn、Znの金属或は、これらの金属を主成分とする合
    金を接合し、該表面とセラミックス或はサーメット部材
    の接合面を、不活性ガスイオンエッチングにより活性化
    処理を施し、ただちに、1×10^−^6Torr〜1
    ×10^−^3Torrの真空槽内で、接合部材の温度
    t(℃)、加圧力F2で圧接させるにあたって、常温≦
    t≦300 金属部材に接合する上記金属或いは 合金の降伏強度≦F2 なる条件を満たす金属部材とセラミックス或はサーメッ
    ト部材の接合方法。
  3. (3)セラミックス或はサーメット部材の接合面に、予
    め、Ag、Al、Cu、Pb、Sn、Znの金属或は、
    これらの金属を主成分とする合金をメタライズ或はろう
    付けし、不活性ガスイオンエッチングにより活性化処理
    を施し、同様に、接合する金属部材の接合面を不活性ガ
    スイオンエッチングにより活性化処理を施し、ただちに
    、1×10^−^6Torr〜1×10^−^3Tor
    rの真空槽内で、接合部材の温度t(℃)、加圧力F3
    で圧接させるにあたって、 常温≦t≦300 セラミックス或いはサーメット部材にメタライズ或いは
    ろう付けする 上記金属或いは合金の降伏強度≦F3 なる条件を満たす金属部材とセラミックス或はサーメッ
    ト部材の接合方法。
  4. (4)金属部材の接合面に、予め、Ag、Al、Cu、
    Pb、Sn、Znの金属或は、これらの金属を主成分と
    する合金を接合し、該表面とセラミックス或はサーメッ
    ト部材の接合面を、不活性ガスイオンエッチングにより
    活性化処理を施し、その後、該金属部材に接合した該金
    属或は該合金をスパッターし、セラミック或はサーメッ
    ト表面にコーティングした後、ただちに、圧接させるこ
    とを特徴とする請求項3記載の金属部材とセラミックス
    或はサーメット部材の接合方法。
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