JPH04158994A - 超微粒子による低温接合方法 - Google Patents

超微粒子による低温接合方法

Info

Publication number
JPH04158994A
JPH04158994A JP27943390A JP27943390A JPH04158994A JP H04158994 A JPH04158994 A JP H04158994A JP 27943390 A JP27943390 A JP 27943390A JP 27943390 A JP27943390 A JP 27943390A JP H04158994 A JPH04158994 A JP H04158994A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
materials
superfine particles
joined
ultrafine particles
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP27943390A
Other languages
English (en)
Inventor
Masamichi Uko
宇高 政道
Kazuhiro Kawasaki
一博 川嵜
Hisayoshi Koga
古賀 久喜
Isao Okane
岡根 功
Minoru Umemoto
実 梅本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Neturen Co Ltd
Original Assignee
Neturen Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Neturen Co Ltd filed Critical Neturen Co Ltd
Priority to JP27943390A priority Critical patent/JPH04158994A/ja
Publication of JPH04158994A publication Critical patent/JPH04158994A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Pressure Welding/Diffusion-Bonding (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、低温で接合することで接合面における残留応
力が少なく、また、被接合材の組織への影響が少ない金
属材−金属材、金属材−セラミックス材、セラミックス
材−セラミックス材の接合方法に関する。
(従来の技術) 従来、金属材−金属材、金属材−セラミックス材、又は
セラミックス材−セラミックス材の接合において、被接
合材の中間にろう材を充填し、ろう材の融点以上の温度
で加熱を行なうろう接法が一般に行なわれている。その
うち特に、金属材−セラミックス材の接合においては、
金属材とセラミックス材の熱膨脹係数の差による被接合
材の破壊を防止するために、ろう材の中間にセラミック
スと熱膨脹係数が近いW、Mo材を介在させてろう付け
することが提案されている(例えば特公平2−2018
9号)。
また、その他の接合法として、高温高圧で行なう固相接
合法から溶射等によるコーディング法まで各種の方法が
あり、現在期待される接合技術は固相接合である。
固相接合は比較的高温でさせる必要があり、例えば異種
の金属材同士、セラミックス材同士、複合材同士、ある
いは金属材、セラミックス材、複合材のうち2種の組合
せの固相接合を行なう場合。
被接合材間の熱膨脹係数が大きく異なるため、接合界面
に熱応力が発生し、冷却後、残留応力として被接合材の
割れ、接合強度の低下等の悪影響をもたらしていた。ま
た、被接合材が高温にさらされるため、その組織が変質
することがあった、(発明が解決しようとする問題点) 従来の固相接合は、上記のように接合作業時に被接合材
および接合界面が高温にさらされるため、熱応力の発生
による被接合材のわれ、接合強度の低下、被接合材の組
織の変質等の問題があった。
本発明は、従来の固相接合における熱応力の発生に伴う
上記問題点を解消しようとするものであって、低温で被
接合材を接合させることによって熱応力を発生させずに
高い接合強度を有して接合できる低温接合方法を提供す
ることを目的とするものである。
(問題点を解決するための手段) 本発明は、大比面積を持ち、表面が高活性な超微粒子を
構成成分とするインサート材を使用し。
インサート材を構成する超微粒子の低温焼結性、接合界
面での大接触面積を利用して上記の問題を解決したもの
である。
即ち、被接合材間に金属超微粒子又は複合超微粒子を充
填し、不活性雰囲気中又は真空中で加圧を行ない、同時
に当該超微粒子の加圧焼結に必要最小限の加熱を行ない
、超微粒子の焼結を促進させる。超微粒子は、超微粒子
を構成する物質がバルク状である場合の理論的融点の1
/2の温度において、約1時間加熱保持することで焼結
が完了し、相対密度90%以上のち密な焼結体となる。
また、焼結時に加熱することによって、焼結密度90%
以上の焼結体が得られる加熱温度が理論的融点の1/2
以下に低下する。
銅に例をとれば、銅材の理論的融点は1356にであり
、銅通常粉(平均粒径15μm以下)の焼結温度はl1
00K、銅超微粒子(平均粒径0゜1μm以下)の焼結
温度は700K、又銅超微粒子の300 M P aの
圧力での焼結温度は500にである。
上記のように、インサート材を構成する超微粒子の焼結
は低温で完了する。その後、炉冷却することによって、
被接合材を熱応力の発生を伴わずに接合することができ
る。
(作用) 超微粒子をインサート材に使用することで、超微粒子の
大比表面積に伴う高活性により比接合材料と超微粒子構
成物質間の拡散が容易となる。また、超微粒子の粒径が
通常のインサート材に比べて極小であるため、この粒径
効果により、比接合材に対するアンカー効果が発揮され
る。
さらに、粒径の微細化に伴い緻密な焼結体が得られる焼
結温度が低下し、低温焼結となり、通常の固相接合に比
べて低温で接合が可能となるので、接合界面における残
留応力が小さくなり、被接合材の曲がり、歪、われ等が
防止できる。同時に組織に対する熱的影響が小さくなる
ため、被接合材の組織の変化を防止できる。
(実施例) 以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
第1図及び第2図は本発明の低温接合方法を実施するた
めに使用した高周波誘導加熱式ホットプレス装置を示し
、該装置によって以下の実施例に示すような被接合材の
接合を次のようにして行なった。
図示装置のチャンバー2内に、第2図に示すように、ホ
ルダ−3下部に一方の被接合材4を、その上にインサー
ト材5を充填し、さらにその上部に接合相手となる他方
の被接合材6を設置する。
そして、チャンバー2内を不活性ガス雰囲気又は真空雰
囲気とし、誘導加熱電源コイル7で所定温度に加熱する
と共に、上シリンダ8と下シリンダ9とで所定の接合圧
力で加圧し、所定時間保持した後、加熱を停止し、チャ
ンバー内にて所定時間放冷する。なお、図時の装置にお
ける10は熱電対、11は保護管、12はチャンバーの
安全弁、13は排出弁である。
下記の各実施例では、インサート材の主成分としてCu
超微粒子を使用し、加熱温度をCuの理論的融点135
6にの1/2以下である673にで加熱し、接合圧力を
10.9MPaとして、保持時間を1.8Ks、7.2
 ks、7.2ksに変えて夫々保持し、保持時間経過
後、3.6ks時間放冷した。
尖差主ユ 被接合材: (1)金属材 Cu材    13mφX 5 m t
(接合面をエミリー紙で研磨) (2)金属材 Cu材    13Iφ×511I!l
t(接合面をエミリー紙で研磨) 超微粒子インサート材: 平均粒径0.05μm(7)Cu粒子0.1gを粉末の
まま使用。
チャンバー内雰囲気: 不活性ガス(A r )雰囲気 実施例2 被接合材: (1)金属材 Cu材    13mφX 5 +nm
 t(接合面をエミリー紙で研磨) (2)金属材 SNCM439   13+wn+$ 
X5++et(接合面をエミリー紙で研磨) 超微粒子インサート材: 平均粒径0.05μmのCu粒子0.1 gを粉末のま
ま使用。
チャンバー内雰囲気: 不活性ガス(A r)雰囲気 実施例3 被接合材: (1)金属材 S N CM 439 (Ni−Cr−
Mo鋼)13miφX5+at(接合面をエ ミリー紙で研磨) (2)セラミックス材 5i3N4 20鵬φX5■を焼結(接合面を エミリー紙で研磨) 超微粒子インサート材: 平均粒径0.05μmのCu粒子0.1 gを粉末のま
ま使用。
チャンバー内雰囲気: 不活性ガス(Ar)雰囲気 失1但4 被接合材: (1)金属材 S N CM 439 (Ni−Cr−
Mo鋼)13m++φX5met(接合面をエ ミリー紙で研磨) (2)セラミックス材 813N4 20amφ×5IIIllt焼結(接合面をエミリー紙
で研磨) インサート材: 平均粒径0.05μmのCu超微粒子0.1gを粉末の
まま使用。
チャンバー内雰囲気: 5 X 10 a’ Torr以上の真空雰囲気尖五何
5 被接合材: (1)金属材 S N CM 439 (Ni−Cr−
Mo鋼)13wnφX5mmt(接合面をエ ミリー紙で研磨) (2)セラミックス材 813N4 20mmφ×5犀を焼結(接合面を エミリー紙で研磨) 超微粒子インサート材: 平均粒径0.05μmのCu粒子0.2gの粉末に分散
剤(アセトン等の有機溶剤)を加えて、板状の成形体に
して使用。
チャンバー内雰囲気: 不活性ガス雰囲気(A r ) 失凰f旦 被接合材: (1)金属材 SNCM439 (Ni−Cr−Moり 13+a+nφX5ownt(接合面をエミリー紙で研
磨) (2)セラミックス材 Si3N。
20mmφX 5 m tに焼結したものを、エミリー
紙で研磨後接台面に0.02mm厚のzrffi及び0
.02mo厚のNi箔をのせ、加熱温度1423K、加
圧力1 0.9MPa、保持時間1.8ksでメタライズを行な
った。
超微粒子インサート材: 平均粒径0.05μmのCu粒子0.1gを粉末のまま
使用。
チャンバー内雰囲気: 不活性ガス雰囲気(Ar) 以上の各実施例によって得られた接合体について、それ
ぞれの接合界面を光学R微鏡で観察したところ、Cu超
微粒子の焼結はほぼ完全に行なわれていることが認めら
れた。また、被接合材に曲がり、歪、クラックの発生等
の変質は何れも認められなかった。
さらに、接合した試料は、接合強度の評価のため、せん
断試験速度0 、5 +am/winで引張せん断試験
を行なった。該引張せん断試験により求めた接合強度を
第3図に示す。該図は各実施例において。
接合時間を1.8ks、3 、6 ks、7.2ksと
した場合について、夫々の接合時間における接合強度の
最大値と最小値を示す。
該図から明らかな通り、接合時間と接合強度の関係にお
いては、各実施例とも1.8ksと3.6ksとでは明
らかな傾向は詔められなかったが、7゜2ksにおいて
やや接合強度の低下が認められる。
これは、被接合材のクリープ変形の要因によるものと考
えられる。
金属材−金属材の接合強度は約60 M P a程度得
られ、金属材−セラミックス材の場合と比較して大きな
接合強度が得られた。これは金属に対するインサート材
の超微粒子の濡れ性が良く、673にの接合温度でも異
種材料間の反応性を高め、被接合材に対するアンカー効
果が発揮されたことに起因すると考えられる。
また、金属材−セラミックス材の接合では、従来、Ni
インサート材を使用した場合における接合強度は20 
M P aが最大であったが、本実施例のようにインサ
ート材として超微粒子を使用することによって40 M
 P a程度の接合強度を得ることができ、飛躍的に接
合強度が向上した。金属材−セラミックス材の接合の場
合、金属材−金属材接合の場合と比較して接合強度は低
くなっているが、これはSi、N4が673にでは十分
な活性化に至らないためである。また、813N4成形
時の微小クラック、ボイド、接触面の不均一等の欠陥に
る接合強度の低下も推測される。
このため、実施例6では、セラミックス材にメタライズ
を行なうことで拡散によるボイドの発生を押え、Cu超
微粒子の性質の利用により接合温度を673に程度によ
り、接合時の接合部材内に発生する熱応力の大幅な減少
とがあいまって、クラックの発生を抑制することができ
、最大50MPaの接合強度を得ることができた。
なお、上記実施例ではインサート材の主成分として銅の
超微粒子を採用したが、銅に限らすNi、Fe等の金属
超微粒子又は複合超微粒子が採用できる。また、上記実
施例では、金属材−金属材、金属材−セラミックス材の
接合の場合を示したが、セラミックス材−セラミックス
材の接合の場合も同様な効果を奏することは云うまでも
ない。
(効果) 本発明は、以上のように、大比面積を持ち、表面が高活
性な超微粒子を構成成分とするインサート材を使用して
、超微粒子の低温焼結性、接合界面での大接触面積を利
用することにより、超微粒子を構成する物質の理論融点
の172以下程度の低温での固相接合が可能になった。
その結果、従来の同相接合と比較して接合界面における
残留応力が少なくなり、さらに被接合材に対する熱影響
が緩和され、従来のような熱応力発生に伴う接合強度の
低下等の悪影響をもたらすことなく、金属材−金属材、
金属材−セラミックス材、セラミックス材−セラミック
ス材の強固な同相接合を効果的に行なうことができた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の方法を実施した高周波誘導加熱式ホッ
トプレス装置の概略正面図、第2図はそのチャンバー内
の要部概略正面図、第3図は各実施例における接合時間
毎の接合強度を示すグラフである。 2:チャンバー     31.32:ホルダー4.6
:被接合材    5:インサート材7:誘導加熱電源
コイル 8:上シリンダ9:下シリンダ 特許出願人  高周波熱錬株式会社 出願人代理人 弁理士 入城重信 第   2   図 第3図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)金属材−金属材、金属材−セラミックス材、セラミ
    ックス材−セラミックス材を接合する方法に於て、接合
    すべき被接合材の中間にサブミクロン粒径の超微粒子を
    主成分とするインサート材を充填し、不活性ガス雰囲気
    中、又は真空中において加圧しながら加熱を行ない炉冷
    却することにより、被接合材を接合することを特徴とす
    る超微粒子による低温接合方法。 2)前記加熱温度が超微粒子構成物質の理論融点の2/
    3以下望ましくは1/2以下の温度である請求項1の超
    微粒子による低温接合方法。 3)前記インサート材構成物質が、超微粒子のみである
    請求項1又は2の超微粒子による低温接合方法。 4)前記インサート材構成物質が、超微粒子を加工した
    成形体よりなる請求項1又は2の超微粒子による低温接
    合方法。 5)金属材−セラミックス材、セラミックス材−セラミ
    ックス材を接合する場合において、セラミックス材の接
    合面にメタライズ処理後、接合すべき被接合材の中間に
    サブミクロン粒径の超微粒子を主成分とするインサート
    材を充填し、不活性ガス雰囲気中、又は真空中において
    加圧しながら加熱を行ない炉冷却することを特徴とする
    超微粒子による低温接合方法。
JP27943390A 1990-10-19 1990-10-19 超微粒子による低温接合方法 Pending JPH04158994A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27943390A JPH04158994A (ja) 1990-10-19 1990-10-19 超微粒子による低温接合方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27943390A JPH04158994A (ja) 1990-10-19 1990-10-19 超微粒子による低温接合方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04158994A true JPH04158994A (ja) 1992-06-02

Family

ID=17611000

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27943390A Pending JPH04158994A (ja) 1990-10-19 1990-10-19 超微粒子による低温接合方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04158994A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008283184A (ja) * 2007-05-12 2008-11-20 Semikron Elektronik Gmbh & Co Kg 焼結されたパワー半導体基板並びにそのための製造方法
JP2010262754A (ja) * 2009-04-30 2010-11-18 Furukawa Electric Co Ltd:The リチウムイオン二次電池用負極、それを用いたリチウムイオン二次電池、リチウムイオン二次電池用の負極作製用のスラリー、リチウムイオン二次電池用負極の製造方法
JP2018003088A (ja) * 2016-06-30 2018-01-11 大陽日酸株式会社 接合材、接合材の製造方法、及び接合体

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008283184A (ja) * 2007-05-12 2008-11-20 Semikron Elektronik Gmbh & Co Kg 焼結されたパワー半導体基板並びにそのための製造方法
JP2010262754A (ja) * 2009-04-30 2010-11-18 Furukawa Electric Co Ltd:The リチウムイオン二次電池用負極、それを用いたリチウムイオン二次電池、リチウムイオン二次電池用の負極作製用のスラリー、リチウムイオン二次電池用負極の製造方法
JP2018003088A (ja) * 2016-06-30 2018-01-11 大陽日酸株式会社 接合材、接合材の製造方法、及び接合体

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4961529A (en) Method and components for bonding a silicon carbide molded part to another such part or to a metallic part
CN110883397B (zh) 一种缓解陶瓷与金属钎焊接头残余应力的焊接方法
CN103894719B (zh) 一种连接高体积分数碳化硅颗粒增强铝基复合材料与钛合金的方法
CN110257679B (zh) 一种钼基合金涂层的制备方法
JPH0249267B2 (ja)
JPH0362670B2 (ja)
CN108637447A (zh) 一种钛合金与可伐合金的异种金属电子束焊方法
KR100322785B1 (ko) 접합체의 제조 방법
JPH04158994A (ja) 超微粒子による低温接合方法
JP3259959B2 (ja) 複合材とその製造方法
JPH0193474A (ja) セラミツクス接合方法
JP4560170B2 (ja) 固相拡散接合スパッタリングターゲット組立て体及びその製造方法
JP2568332B2 (ja) 少なくとも一部が金属間化合物からなる複合材の製造方法
JP3187876B2 (ja) 少なくとも一部が金属間化合物からなる複合材の接合方法
JPH01308884A (ja) 材料接合方法および接合体
JPH09300104A (ja) 超硬合金系複合工具材
JP2843644B2 (ja) 少なくとも一部が金属間化合物からなる複合材の製造方法
JPH0337165A (ja) セラミックスと金属との接合方法
JPH0337166A (ja) セラミックスと金属との接合方法
KR930009665B1 (ko) 응력완화층을 이용한 세리믹과 금속과의 접합방법
JP2676413B2 (ja) 黒鉛とチタンまたはチタン合金との接合方法
JP3275786B2 (ja) Icチップのリード材ボンディング用圧接工具
JP2005139057A (ja) 粉末焼結セラミックスのメタライズ法
JPH0292875A (ja) セラミックスと金属の接合における熱応力緩和層の形成方法
JPS6256502A (ja) 鉄系金属板の表面に超硬質層を一体的に形成するハ−ドフエ−シング法