JPH0444948Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ［考案の目的］ （産業上の利用分野） 本考案はゲート式真空バルブに関し、特にドラ
イエツチングやスパツタリング装置において処理
室とロード空間に設けられた隔壁のウエハ通過用
開口部を開閉する弁体自体に改良を施したもので
ある。

（従来の技術） 周知の如く、ドライエツチング装置やスパツタ
リング装置において、半導体ウエハをエツチング
等する処理室は一度大気を導入すると、処理室内
壁等に大気が吸着されてプロセス条件が変わるた
め、隣接するロード室との間にゲート弁を設け、
出来るだけ大気に戻すことなく使用するのが常で
ある。しかし、プロセスを重ねる度に生成物がゲ
ートバルブのシール部分に付着すると、シール効
果が低下する。こうした場合は、止むを得ず処理
室を大気に戻し、その部分を洗浄しなくてはなら
ない。しかるに、一度大気に戻すと、その前の状
態までに回復させるに10時間以上の真空排気とダ
ミーによるプロセスを行わなければならず、その
間それらの装置は生産に寄与できない。従つて、
生産効率が低くなるという問題点を有する。

（考案が解決しようとする課題） 本考案は上記事情に鑑みてなされたもので、プ
ロセスを重ねる度にゲートバルブのシール部分に
生ずる生成物を処理室を大気に戻すことなく除去
でき、もつて生産効率を向上し得るゲート式真空
バルブを提供することを目的とする。

［考案の構成］ （課題を解決するための手段） 本考案は、半導体ウエハに対しエツチングある
いはスパツタリングを行う処理室、及びウエハ通
過用開口部を有する隔壁を介して前記処理室と隣
接するロード空間に設けられて前記処理室とロー
ド空間の開閉を行うゲート式真空バルブにおい
て、前記隔壁の開口部の開閉を行う弁体と、この
弁体内に設けられたヒータと、このヒータからの
熱を前記処理室の内壁に伝達する伝達機構と、前
記処理室と弁体とを気密に封止する真空シール
と、前記弁体にリンク機構を介して連結された駆
動機構とを具備することを特徴とするゲート式真
空バルブである。

（作用） 本考案においては、弁体で処理室とロード室間
に設けた隔壁の開口部を弁体で閉じる時、弁体内
に配設したヒータからの熱源がリード線を通じて
固定端子を経て処理室の内壁に伝達されるように
なつているため、処理室内でウエハのエツチング
又はスパツリングを行う際に、生成物が内壁に付
着するのを回避することができる。従つて、従来
のようにエツチング生成物の付着に起因するシー
ル効果が低下することない為、長時間の真空排気
を行う必要がなく、作業効率を著しく改善するこ
とができる。

（実施例） 以下、本考案の一実施例を図を参照して説明す
る。

第１図は、本考案に係るゲート式真空バルブを
適用したドライエツチング装置の説明図である。
図中の１は処理室であり、高周波電極２上に配置
された半導体ウエハ３を上部のガス導入管４より
プロセスガスを導入しながらドライエツチングを
行う。前記処理室１の両隣には、ロード室５，６
が夫々設けられている。また、前記処理室１とロ
ード室５，６間には、ウエハ通過用の開口部７ａ
を有した隔壁７が設けられ、前記開口部７ａの近
くに本願考案のゲート式真空バルブ８が設けられ
ている。

かかるバルブ８の詳細は第２図，第３図，第４
図及び第５図に示す通りである。ここで、第２図
はバルブ８の弁体で隔壁７の開口部７ａを閉じた
場合、第３図はバルブ８の弁体で隔壁７の開口部
７ａを開いた場合を夫々示す。また、第４図は主
として弁体内部を更に詳細に示したものである。
更に、第５図は第４図の平面図である。図から明
らかなように、バルブ８は、主に隔壁７の開口部
７ａを開閉する弁体９と、この弁体９内に設けら
れたシート状ヒータ１０と、このヒータ１０から
の熱を処理室１の内壁に伝える伝達機構１１と、
隔壁７の開口部７ａを閉じる時前記弁体９を隔壁
７の開口部７ａに気密に配置させるＯリング１２
と、前記弁体９をリンク機構１３を介して連結さ
れた開閉用シリンダ１４とから構成される。

前記伝達機構１１は、第４図に示す如く、主と
してヒータ１０に直接接続するリード線１５と、
このリード線１５に接続する固定端子１６，１７
等から構成され、１８は絶縁チユーブ、１９は弁
体９の外壁に設けられて固定端子１６を固定する
絶縁体、２０は処理室９の外壁に設けられて固定
端子１７を固定する絶縁体、２１はバネである。
また、前記絶縁体２０と絶縁体１９、処理室１の
内壁、固定端子１７との接点には、夫々Ｏリング
２２が設けられている。ここで、前記固定端子１
６は弁体９で隔壁７の開口部７ａを閉じる時にの
み、バネ２１の付勢力により他方の固定端子１７
の端面と接触して通電されるようになつており、
前記絶縁体１９，２０等で印加電圧によるアーク
放電を防止するようになつている。

前記リンク機構１３は、前記弁体９とリンク２
２を介して連結する支えプレート２３と、この支
えプレート２３の長手方向に沿つて設けられた上
下動可能な２ケのガイド車輪２４と、前記隔壁７
に固定されて前記ガイド車輪２４をガイドするレ
ール２５とから構成されている。なお、図中の２
６はリンクピンである。

しかして、本考案に係るゲート真空式バルブ
は、処理室１とロード室５，６間の隔壁７の開口
部７ａを開閉する弁体９と、この弁体９内に設け
られたシート状ヒータ１０と、このヒータ１０か
らの熱源を処理室１の内壁に伝える伝達機構１１
と、隔壁７の開口部７ａを閉じる時前記弁体９を
隔壁７の開口部７ａに気密に配置させるＯリング
１２と、前記弁体９をリンク機構１３を介して連
結された開閉用シリンダ１４等から構成され、弁
体９で隔壁７の開口部７ａを閉じるとき、前記ヒ
ータ１０からの熱源がリード線１５を通じて固定
端子１６，１７を経て処理室１の内壁に伝達され
るようになつているため、処理室１内でウエハ３
のエツチングを行う際、エツチング生成物が内壁
に付着するのを回避することができる。従つて、
従来のようにエツチング生成物の付着に起因して
処理室を大気にさらすことがないため、シール効
果が低下することなく、作業能率を著しく改善す
ることができる。

なお、上記実施例では、ドライエツチング装置
に適用した場合について述べたが、これに限ら
ず、スパツタリング装置に適用した場合について
も上記実施例と同様な効果を期待できる。

［考案の効果］ 以上詳述した如く本考案によれば、プロセスを
重ねる度にゲートバルブのシール部分に生ずる生
成物を処理室を大気に戻すことなく、処理しなが
ら生成物の付着を除去でき、もつて生産効率を著
しく向上し得るゲート式真空バルブを提供でき
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案に係るゲート式真空バルブを取
付けたドライエツチング装置の説明図、第２図は
第１図において前記バルブが閉じたときの状態を
説明するための部分拡大図、第３図は第１図にお
いて前記バルブが開いたときの状態を説明するた
めの部分拡大図、第４図は第１図においてロード
室から処理室を見たときの部分拡大図、第５図は
第４図の平面図である。 １……処理室、３……半導体ウエハ、５，６…
…ロード室、７……隔壁、７ａ……開口部、８…
…ゲート式真空バルブ、９……弁体、１０……シ
ート状ヒータ、１１……伝達機構、１２……Ｏリ
ング、１３……リンク機構、１４……開閉用シリ
ンダ、２３……支えプレート、２４……ガイド車
輪、２５……レール。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 半導体ウエハに対しエツチングあるいはスパツ
   タリングを行う処理室、及びウエハ通過用開口部
   を有する隔壁を介して前記処理室と隣接するロー
   ド空間に設けられて前記処理室とロード空間の開
   閉を行うゲート式真空バルブにおいて、前記隔壁
   の開口部の開閉を行う弁体と、この弁体内に設け
   られたヒータと、このヒータからの熱を前記処理
   室の内壁に伝達する伝達機構と、前記処理室と弁
   体とを気密に封止する真空シールと、前記弁体に
   リンク機構を介して連結された駆動機構とを具備
   することを特徴とするゲート式真空バルブ。