JPH0444007A - 液晶デバイスの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、大面積になし得る液晶デバイスの製造方法に
関するもので、本発明による液晶デバイスは、視野の遮
断、開放及び明りもしくは照明光の透過制限、遮断、透
過を電気的又は熱的に操作し得るものであって、建物の
窓やショーウィンドウなどで視野遮断のスクリーンや、
採光コントロールのカーテンに利用されると共に、単純
ドツトマトリクス形の電極構成で文字や図形を表示し、
高速応答性を以って電気的に表示を切り換えることによ
って、ハイインフォーメーション表示体広告板、案内板
、装飾表示板等の表示用デバイスとして利用される。

［従来の技術］ 液晶デバイスは、従来、ネマチック液晶を使用したＴＮ
型やＳＴＮ型のものが実用化されている。

また、強誘電性液晶を利用したものも提宥されている。

これらは偏光板を要するものであり、また、配向処理を
要するものでもある。一方また、それらを要さず、明る
くコントラストの良い、大型で廉価な液晶デバイスを製
造する方法として、液晶のカプセル化により、ポリマー
中に液晶層を分散させ、そのポリマーをフィルム化する
方法が知られている。ここでカプセル化物質としては、
ゼラチン、アラビアゴム、ポリビニルアルコール等が提
案されている（特表昭５８−５０１６３１号公報、米国
特許第４４３５０４７号明細書）。

上記明細書で開示された技術においては、ポリビニルア
ルコールでカプセル化された液晶分子は、それが薄層中
で正の誘電率異方性を有するものであれば、電界の存在
下でその液晶分子が電界の方向に配列し、液晶の屈折率
ｎ。とポリマーの屈折率ｎ９が等しいときには、透明性
を発現する。電界が除かれると、液晶分子はランダム配
列に戻り、液晶層の屈折率がｎ。よりずれるため、液晶
層は、その境界面で光を散乱し、光の透過率を遮断する
ので、薄層体は白濁する。このように、カプセル化され
た液晶を分散包蔵したポリマーを薄膜としている技術は
、上記のもの以外にもい（つか知られており、例えば、
特表昭６１−５０２１２８号公報には、液晶エポキシ樹
脂中に分散したもの、特開昭６２２２３１号公報には、
特殊な紫外線硬化ポリマー中に液晶が分散したもの、特
開昭６３−２７１２３３号公報には、光硬化性ビニル系
化合物と液晶との溶解物において、上記光硬化性ビニル
系化合物の光硬化に伴う液晶物質の相分離を利用し調光
層を形成させた技術等が開示されている。

また、このようなポリマー中に液晶層を分散させ調光層
を形成せしめる技術とは別に、特開平１１９８７２５号
公報には、液晶材料を連続層に、ポリマーを三次元網目
構造に形成せしめ、液晶デバイスの低電圧駆動を可能に
した技術が開示されている。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、これら従来技術のうち、ポリマー中に液
晶層を分散させた液晶デバイスは、液晶層がポリマー中
に分散しているので、電界を印加した場合、液晶層には
ポリマーを介して電界か及ぶので、液晶分子の配列に変
化を与えるためには、高い駆動電圧を必要とするため、
実用上程々の障害となる欠点を有していた。

また、電界を印加した際に十分な透明性を達成するため
には、液晶の屈折率とポリマーの屈折率とが近似したも
のとなるよう、それぞれを十分選択しなければならない
という、煩わしさがあった。

更にまた、大面積のデバイスの特徴を生かしてマルチプ
レックス駆動による大型表示を行なうに当たって、それ
を可能とさせる上で必要なしきい値電圧が存在しないの
で、その実施が困難であった。

一方、ポリマーが三次元網目構造をとり、液晶層か連続
相を形成してなる液晶デバイスは、その駆動電圧は低電
圧であると云えどもその駆動し得る電圧の範囲は１０〜
３０Ｖであり、汎用の液晶表示装置駆動用のＩＣドライ
バーを使用するには極めて困難であった。

又、ポリマーの三次元網目構造をとり液晶層が連続相を
形成してなる液晶デバイスに於て、紫外線照射により重
合性組成物を重合させポリマー三次元網目構造を形成さ
せる際に、一般的に用いられる重合開始剤、例えば、２
−ヒドロキシ−２メチル−１−フェニルプロパン−１−
オン（メルク社製［ダロキュア１１７３Ｊ　）　、１−
ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン（チバ・ガイ
キー社製［イルガキュア１８４Ｊ　）、１−（４−イソ
プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
パン−１−オン（メルク社製「グロキュア１１１６Ｊ　
）、ベンジルジメチルケタール（チバ・・ガイキー社製
［イルガキュア６５１Ｊ　）、２−メチル−１−〔４（
メチルチオ）フェニルヨー２−モルホリノプロパノン−
１（チバ・ガイキー社製「イルガキュア９０７」）等を
用いた場合には、その濃度を低く調製することによって
、駆動電圧を低くできる（特願平２−８０８８６号）。

しかしながら、それらの重合開始剤を使用した場合に、
一定の白濁度を維持しながら、低くできる駆動電圧は、
たかだか５〜ＩＯＶ　ｒ　ｍ　ｓであった。

本発明か解決しようとする課題は、従来の大型液晶デバ
イスよりも遥かに低電圧で駆動し、且つ、高コントラス
ト画像か得られ、明確なしきい値電圧と急峻性を有して
おり、時分割駆動も可能で、然も偏光板を必要としない
明るく大型化可能な液晶デバイスの製造方法を提供する
ことにある。

［課題を解決するための手段］ 本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、本発明を解決す
るに至った。即ち本発明は、電極層を有していてもよい
少なくとも一方が透明な２枚の基板間に液晶材料、重合
性組成物及び重合開始剤を含有する調光層構成材料を介
在させ、該調光層構成材料が等方性液体状態の時に紫外
線を照射することによって前記重合性組成物を重合させ
ることにより液晶材料の連続相中に透明性高分子物質に
よる３次元ネットワーク構造を形成して成る液晶デバイ
スの製造方法に於て、前記重合開始剤として、一般式　
　　　　Ｒ１ Ｒ”−Ｐ−ＣＯＲ３ （式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立的に炭素原子数１〜６
の脂肪族炭化水素基、環式炭化水素基、不飽和脂肪族炭
化水素基、不飽和環式炭化水素基、アルコキシ基、アル
コキシ基で置換された炭化水素基又は窒素原子或いは硫
黄原子を含有する複素環基を表わし、Ｒ３は炭素原子数
２〜１８の脂肪族炭化水素基、環式炭化水素基、不飽和
脂肪族炭化水素基、不飽和環式炭化水素基、アルコキシ
基、アルコキシ基で置換された炭化水素基又は窒素原子
或いは硫黄原子を含有する複素環基を表わす。）で表わ
されるアシルフォスフインオキシドを含有する重合開始
剤を使用することを特徴とする液晶デバイスの製造方法
に関するものである。

上記一般式で表わされるアシルフォスフインオキシドの
うち、Ｒｌ　、　Ｒ２及びＲ３が不飽和環式炭化水素、
窒素原子或は硫黄原子を含有する複素環である芳香族化
合物である場合が好ましく、２．４．６トリメチルベン
ゾイルフエニルホスフインオキシドが特に好ましい。

上記一般式で表わされるアシルフォスフインオキシドの
使用割合は、効率よくポリマーの三次元網目構造を形成
でき、駆動電圧を低くできる範囲であればよく、そのよ
うな使用割合は、重合組成物と重合開始剤の混合組成物
に対して、０．０５〜２．０重量％の範囲が好ましく、
０．１〜１．０重量％の範囲が特に好ましい。

本発明で使用するアシルホスフィンオキシトは、一般に
用いられる重合開始剤、例えば、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（メルク社製
［ダロキュア１１７３Ｊ　）　、１−ヒドロキシシクロ
へキシルフェニルケトン（チバ・ガイキー社製［イルガ
キュア１８４ｊ　）、１−（４イソプロピルフエニル）
−２−ヒドロキシ−２＝メチルプロパン−１−オン（メ
ルク社製ｒタロキュア１１１６Ｊ　）、ベンジルジメチ
ルケタール（チバ・ガイキー社製「イルガキュア６５１
Ｊ　）、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニ
ル〕−２モルホリノプロパノン−１（チバ・ガイキー社
製［イルガキュア９０７ｊ　）、２．４−ジエチルチオ
キサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴＸＪ　）
とｐジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬社製１カ
ヤキュアーＥＰＡＪ）との混合物、イソプロピルチオキ
サントン（ワードプレキンソップ社製「カンタキュアＩ
ＴＸＪ）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合
物等と配合して用いることもできる。

本発明で使用する一般式（Ｉ）で表わされるアシルフォ
スフインオキシドの重合開始剤中の割合は、３０〜１０
０重量％の範囲が好ましい。

本発明で使用する基板は、堅固な材料、例えば、ガラス
、金属等であっても良く、柔軟性を有する材料、例えば
、プラスチックフィルムの如きものであっても良い。そ
して、基板は、２枚が対向して適当な間隔を隔て得るも
のである。また、その少なくとも一方は、透明性を有し
、その２枚の間に挟持される調光層を外界から視覚させ
るものでなければならない。但し、完全な透明性を必須
とするものではない。もし、この液晶デバイスが、デバ
イスの一方の側から他方の側へ通過する光に対して作用
させるために使用される場合は、２枚の基板は、共に適
宜な透明性が与えられる。この基板には、目的に応じて
透明、不透明の適宜な電極が、その全面又は部分的に配
置されても良い。

但し、プラスチックフィルムの如き柔軟性を有する材料
の場合は、堅固な材料、例えば、ガラス、金属等に固定
したうえて、本発明の製造方法に用いることができる。

２枚の基板間には、液晶材料及び透明性高分子物質から
成る調光層が介在される。尚、２枚の基板間には、通常
、周知の液晶デバイスと同様、間隔保持用のスペーサー
を介在させるのが望ましい。

スペーサーとしては、例えば、マイラー　アルミナ等種
々の液晶セル用のものを用いることができるか、ロッド
タイプのガラスファイバーが好適である。

本発明で使用する液晶材料は、単一の液晶性化合物であ
ることを要しないのは勿論で、２種以上の液晶化合物や
液晶化合物以外の物質も含んだ混合物であっても良く、
通常この技術分野で液晶材料として認識されるものであ
れば良く、そのうちの正の誘電率異方性を有するものが
好ましい。用いられる液晶としては、ネマチック液晶、
スメクチック液晶、コレステリック液晶が好ましく、ネ
マチック液晶が特に好ましい。その性能を改善するため
に、コレステリック液晶、カイラルネマチック液晶、カ
イラルスメクチック液晶等、カイラル化合物や２色性染
料等が適宜含まれていてもよい。

ネマチック液晶としては、正の誘電率異方性（Δε）を
示し、Δεが８以上であり、複屈折率（Δｎ）の大きさ
が０．１以上であればよく、Δεが１０以上で、Δｎは
０．２以上のネマチック液晶が好ましい。Δｎは、白濁
性を高め、コントラストを大きくし、急峻性を高めるに
はできるだけ大きい方が好ましい。

液晶分散型の液晶デバイスにおいて問題となる液晶とポ
リマーの屈折率の差に関しては、本発明においては液晶
成分が多量であるため、あまり気にすることな（広範囲
の液晶及び重合体の組合せが可能となる。

本発明で使用できる液晶材料は、下記一般式で示した化
合物群より構成される配合組成物であり、液晶材料の特
性、即ち、等方性液体と液晶の相転移温度、融点、粘度
、Δｎ、Δε及び重合性組成物等との溶解性等を改善す
ることを目的として適宜選択、配合して用いる。

＝　１３　＝ を表わし、−Ｑ−は、−Ｃ＝Ｃ−又は−ＣＯＯを表わし
、Ｘは、Ｒ’　　　Ｒ”○又はＮＣ３を表わし、Ｙは、
Ｈ，Ｆ又はＣ１を表わし、Ｒ及びＲ″は、各々独立的に
炭素原子数１〜６のアルキル基を表わし、ｎは、０又は
１を表わす。

調光層中に占める液晶材料の比率は、６０〜９５重量％
の範囲が好ましく、７０〜９０重量％の範囲が特に好ま
しい。　（以下、１％」は、「重量％」を意味する。） この液晶材料の連続相中に介在する３次元ネットワーク
構造の透明性高分子物質は、堅固なものに限らず、目的
に応じ得る限り可撓性、柔軟性、弾性を有するものであ
っても良い。

調光層構成材料を２枚の基板間に介在させるには、この
調光層構成材料を基板間に注入しても良いが、一方の基
板上に適当な溶液塗布機やスピンコーター等を用い均一
に塗布し、次いで他方の基板を重ね合せ圧着させても良
い。

又、一方の基板上に調光層構成材料を均一な厚さに塗布
し、重合性組成物を重合硬化させ調光層を形成後、他方
の基板を貼り合せる事に成る液晶デバイス製造方法も又
有効である。

紫外線照射による重合性組成物の液晶材料中での重合に
おいて、重合前の調光層構成材料は、等方性液体状態を
保持していることが望ましく、そのような状態から重合
を開始することにより３次元ネットワークの形成及びそ
の網目の大きさを均一化を図ることができる。

重合性組成物としては、重合体形成性モノマもしくはオ
リゴマー及び重合開始剤があげられ液晶材料の連続相中
に３次元ネットワークを形成するものであればよい。

重合体形成性モノマーとしては、例えばスチレン、クロ
ロスチレン、α〜メチルスチレン、ジビニルベンゼン：
置換基として、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ア
ミル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシ
ル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロへ牛シル、ベ
ンジル、メト牛ジエチル、ブトキシエチル、フェノキシ
エチル、アルリル、メタリル、グリシジル、２−ヒドロ
キシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ２−
ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチル
アミノエチル等の如き基を有するアクリレート、メタク
リレート又はフマレート；エチレングリコール、ポリエ
チレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、１．３−ブチレングリコール、テトラ
メチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオ
ペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、グリセ
ア リン及びペンタエリスリトール等のモノ（メタ）アクリ
レート又はポリ　（メタ）アクリレート；酢酸ビニル、
酢酸ビニル又は安息香酸ビニル、アクリロニトリル、セ
チルビニルエーテル、リモネン、シクロヘキセン、ジア
リルフタレート、ジアリルイソフタレート、２−３−　
又は４−ビニルピリジン、アクリル酸、メタクリル酸、
アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメ
チルアクリルアミド又はＮ−ヒドロキシエチルメタクリ
ルアミド及びそれらのアルキルエーテル化合物、トリメ
チロールプロパン、１モルに３モル以上のエチレンオキ
サイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たト
リオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ネオペン
チルグリコール１モルに２モル以上のエチレンオキサイ
ド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオー
ルのジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（
メタ）アクリレート１モルとフェニルイソシアネート若
しくはｎ−ブチルイソシアネート１モルとの反応生成物
、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート
、トリス−（ヒドロキシエチル）イソシアヌル酸のポリ
　（メタ）アクリレート、トリス−（ヒドロキシエチル
）−りん酸のポリ（メタ）アクリレート、ジー（ヒドロ
キシエチル）ジシクロペンタジェンのモノ　（メタ）ア
クリレト又はジ（メタ）アクリレート等を挙げることが
できる。

重合体形成性オリゴマーとしては、例えば、（１）ビス
フェノールＡ型エポキシ樹脂に（メタ）アクリル酸、更
に場合によりヤシ油脂肪酸等の長鎖脂肪酸をエステル化
させて得たエポキシ（メタ）アクリレートあるいはその
長鎖脂肪酸変性物、水酸基を有するエポキシ（メタ）ア
クリレートに二塩基酸無水物、四塩基酸ジ無水物、無水
トリメリット酸を付加して得たカルホキシル基を有する
エポキシ（メタ）アクリレートの如きエポキシ（メタ）
アクリレート及びその変性物。

（２）英国特許第１．、１４７．７３２号明細書（特開
昭５１３７１９３号公報及び特開昭５１−１３８７９７
号公報）に記載されているようなジイソシアナート化合
物とポリオールとを予め反応させて得られる末端イソシ
アナート化合物に更にβ−ヒドロキシアルキルアクリレ
ート及び／又はメタクリレートを反応せしめることによ
って得られる分子内に２個以上のアクリロイロキシ基及
び／又はメククリロイロキジ基をもった付加重合性化合
物。

（３）特公昭４７−３２６２号公報に記載されているよ
うな無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサ
ヒドロ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、ある
いは無水ヘッド酸のような二塩基酸無水物とグリシジル
アクリレート及び／又はグリシジルメタクリレートを開
環重合して得られるアクリロイロキシ基及び／又はメタ
クリロイロキシ基を多数ペンダントにもった直線状ポリ
エステル化合物。

（４）特公昭４７−２３６６１号公報に記載されている
ような隣接炭素原子に少なくとも３個のエステル化可能
なヒドロキシル基を有する多価アルコールと、アクリル
酸及び／又はメタクリル酸と、ジカルボン酸及びその無
水物からなる群から選択されたジカルボン酸類との共エ
ステル化によって製造された重合可能なエステル類。

（５）英国特許第６２８．１５０号明細書、米国特許第
３、０２０．２５５号明細書及び月刊誌「マクロモレキ
ュールズ」第４巻、第５号、第６３０〜６３２頁（１９
７１年）に記載されている如きメラミン又はベンゾグア
ナミンにホルムアルデヒド、メチルアルコール及ヒβ−
ヒドロキシアルキルアクリレート（又はメタクリレート
）等を反応せしめて得られるポリアクリル（又はポリメ
タクリル）変性トリアジン系樹脂。

（６）米国特許第３．３７７、４０６号明細書に記載さ
れているようなポリヒドロキシ化合物のグリシジルエー
テル化物にアクリル酸又はメタクリル酸を反応させて得
られる不飽和ポリエステル樹脂。

（７）米国特許第３．４５５．８０１号明細書及び米国
特許第３．４５５．８０２号明細書に記載されている一
般式Ｒ” Ｒ” （式中、Ｒは炭素原子数２〜１０の２価の飽和又は不飽
和脂肪族炭化水素基を表わし、Ｒ′は炭素原子数２〜１
０の２価の飽和脂肪族炭化水素基を表わし、Ｒ′′は水
素原子又はメチル基を表わし、ｎは１〜１４の整数を表
わす。） で表わされる両末端にアクリロイロキシ基又はメタクリ
ロイロキシ基を有するポリエステル化合物。

（８）米国特許第３．４８３．１０４号明細書及び米国
特許第３．４７０．０７９号明細書に記載されている一
般式％式％ （式中、Ａは一〇−又は−ＮＨ−を表わし、１分子中に
少なくとも２個は−ＮＨ−であるものとし、Ｒは二価の
飽和脂肪族又は不飽和脂肪族炭化水素基を示し、Ｒ′は
二価の飽和又は不飽和の脂肪族あるいは環状炭化水素を
表わし、Ｒ“は水素原子又はアルキル基を表わし、ｎは
１〜１４の整数を表わす。） で表わされるジアクリル変性（又はジメタクリル変性）
ポリアミド化合物。

（９）特公昭４８−３７２４６号明細書に記載されてい
る一般式 ％式％） （式中、Ｘは水素原子又はアシル基を示し、Ｒは二価の
飽和又は不飽和の脂肪族又は環状炭化水素基を表わし、
Ｒ１は二価の脂肪族炭化水素基を表わし、Ｒ２は水素原
子又はアルキル基を表わし、Ａは〇−又は−ＮＨ−を表
わし、１分子中で少なくとも２個は−ＮＨ−であるもの
とし、ｎは１〜１４の整数を表わす。） で表わされるジアクリル変性（又はジメタクリル変性）
ポリアミド化合物。

（１０）米国特許第３．４８５．７３２号明細書に記載
されているような飽和又は不飽和の二塩基酸又はその無
水物、あるいは必要に応じてそれらとジオールとを反応
させて得られる両末端にカルボキシル基を有する化合物
に更にグリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリ
レートを反応せしめることにより得られるジアクリル変
性（又はジメタクリ変性）ポリエステル化合物。

（１１）特公昭４８−１２０７５号明細書に記載されて
いるごとき分子中に一般式、 ＣＨ’ｘ−Ｃ− ＣＯＯＣＨ２ＣＨＣ’Ｈ２０ＣＯＣ＝　ＣＨ２（式中、
Ｘはアシル基又はウレタン基を表わし、Ｒは、水素原子
、塩素原子、メチル基又はシアノ基を表わす。） で表わされるくり返し単位を有する側鎖に不飽和酸エス
テル結合を有する（メタ）アクリル共重合体に基づ（化
合物等を挙げることかできる。

［実施例コ 以下、本発明の実施例を示し、本発明を更に具体的に説
明する。しかしながら、本発明はこれらの実施例に限定
されるものではない。

以下、実施例において「％」は「重量％」を表わし、評
価特性の各々は以下の記号及び内容を意味する。

Ｔｏ　：白濁度；印加電圧Ｏの時の光透過率（％）Ｔ１
ｏｏ＝透明度：印加電圧を増加させていき光透過率がほ
とんど増加しなくなった時 の光透過率（％） Ｖ、ｏ：Ｌきい値；Ｔｏを０％、Ｔ、ｏｏを１００％と
したとき光透過率が１０％となる印加電圧（Ｖｒｍｓ） Ｖ２Ｏ：飽和電圧；同上光透過率が９０％となる印加電
圧（Ｖｒｍｓ） ＣＲ：コントラスト−Ｔ、、、／Ｔ。

実施例１ ＝２５ −２６　＝ 液晶材料として後述の液晶組成物（Ａ）８２．０％、重
合性モノマーとしてカプロラクトン変性ヒドロキシピバ
リン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート
（日本化薬社製ｒＫＡＹＡＲＡＤ−）ＩＸ−６２０Ｊ　
）１７９６％及び重合開始剤として２．４．６−　トリ
メチルベンゾイルジフェニルフォスフインオキシド（バ
スフ社製［ルシリンＬＲ８７２８Ｊ　）　０．０４％か
ら成る調光層構成材料をｔＯ，Ｓ　ミクロンのガラスフ
ァイバー製スペーサーが塗布された２枚のＩｒＯ２［極
ガラス基板にはさみ込み、基板全体を４０°Ｃに保ちな
がら、１５　ｍＷ　／　ｃｍ　２の紫外線を６０秒間照
射し、調光層の厚さが１０．　ａ　ミクロンの液晶デバ
イスを得た。

液晶組成物（Ａ） 組成 転移温度 屈折率 ６８．５°Ｃ（Ｎ 〈−２５°Ｃ（Ｃ ｎ、＝１．７８７ ｎ、　　＝１．５８３ Δ　ｎ＝０．２５４ １．１５Ｖ しきい値電圧 （Ｖ　ｔｈ） ２０°Ｃの粘度　　　　　　　５９ｃ、ｐ誘電率異方性
　　　　　　　Δε−２６．９得られた液晶デバイスの
印加電圧と光透過率の関係を測定すると、Ｔ、＝４．５
％、Ｔ＋ｏｏ””８３．４％、ＣＲ＝１４．５、Ｖ、、
＝１．９Ｖ、ｍ、　、Ｖ９０＝３．８Ｖ、ｆｆｉ。

であった。

このように、本発明による液晶デバイスは、従来技術に
よる液滴分散型液晶デバイス或いは液晶連続層型液晶デ
バイスに比べ、はるかに低電圧で駆動可能な液晶デバイ
スであることが明らかである。

実施例２ 前記液晶組成物（Ａ）８４％、プロピレンオキシド変性
ネオペンチルグリコールジアクリレート（サートマー社
製製品番号９００３）　１５．９６％及び［ルシリンＬ
Ｒ８７２８Ｊ　Ｏ，０４％から成る調光層構成材料ヲ、
１１．０ミクロンのガラスファイバー製スペサーの塗布
された２枚のＩ　Ｔｏ電極ガラス基板にはさみ込み、基
板全体を３０°Ｃに保ちながら、１５ｍＷ／ｃｍ”の紫
外線を６０秒間照射し、調光層の厚みが１１．０ミクロ
ンの液晶デバイスを得た。

この液晶デバイスの印加電圧と光透過率の関係を測定す
ると、Ｔｏ＝４．２％、Ｔ　＋ｏｏ−８３，８％、ＣＲ
＝２０．０、Ｖ　＋ｏ＝　２．　ＩＶ　、−、、Ｖ　、
。＝　４．８Ｖ　ｒｌＩｌであった。

比較例　１ 前記液晶組成物（Ａ）ｇｏ、ｏ％、ｒ　ＫＡＹＡＲＡＤ
−ＨＸ６２０Ｊ　１９．８％及びベンジルジメチルケタ
ール（チバガイギー社製重合開始剤［イルガキュア６５
１Ｊ　）０．２％から成る調光層構成材料を、１０．５
　ミクロンのガラスファイバー製スペーサーの塗布され
た２枚のＩＴＯｉ極ガラメガラス基板み込み、基板全体
を４０°Ｃに保ちながら、１５ｍＷ　／　ｃｍ２の紫外
線を６０秒間照射し、調光層の厚みがＩＯ，ａ　ミクロ
ンの液晶デバイスを得た。

この液晶デバイスの電圧−光透過率特性は以下の通りで
あり、駆動電圧の高いものであった。

Ｔｏ−６゜２％、Ｔ、ｏｏ＝８５．７％、ＣＲ＝１３．
８、Ｖ　ｒｏ””　６．２Ｖ　ｒｍａ、Ｖ　、。＝　１
７．５Ｖ　ｒｍｓ比較例　２ 前記液晶組成物（Ａ）　８０．０％、ｒ　ＫＡＹＡＲＡ
Ｄ−ＨＸ６２０Ｊ　１９．９５％及び［イルガキュア６
５１Ｊ　Ｏ，０５％から成る調光層構成材料を、１１．
０ミクロンのガラスファイバー製スペーサーの塗布され
た２枚のＩＴＯ電極ガラス基板にはさみ込み、基板全体
を４０°Ｃに保ちなから、ｉ５ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を
６０秒間照射し、調光層の厚みが１１．２ミクロンの液
晶デバイスを得た。

この液晶デバイスの電圧−光透過率特性は以下の通りで
あり、白濁度の悪いものであった。

Ｔ、＝３６．２％、Ｔ　＋ｏｏ＝　８５．７％、ＣＲ＝
２．４、Ｖｌｏ””１．８Ｖ□い■、。−７，５Ｖ、え
。

［発明の効果］ 本発明による液晶デバイスは、大面積で薄膜型のもので
あり、従来の液晶分散型の液晶デバイス或いは液晶連続
層型液晶デバイスと比べ、５Ｖ、、、、。

以下という低電圧の駆動が可能であり、その為、ＬＣＤ
用のＬＳＩの使用が可能となる。又、このような低電圧
駆動型液晶デバイスであっても、透明−白濁不透明のコ
ントラストが高く、しきい値電圧が明確なため、時分割
駆動が可能である。従って、従来のこの種の液晶デバイ
スの調光用のみならず、より高度な文字、グラフィック
の大型表示が極めて容易となり、表示用液晶デバイスの
用途が大きく拡大する。

代理人　弁理士　　高　　橋　　勝　　利手続補正書（
自発） 平成２年９月２７日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、電極層を有していてもよい少なくとも一方が透明な
   ２枚の基板間に液晶材料、重合性組成物及び重合開始剤
   を含有する調光層構成材料を介在させ、紫外線を照射す
   ることによって前記重合性組成物を重合させることによ
   り液晶材料の連続相中に透明性高分子物質による３次元
   ネットワーク構造を形成して成る液晶デバイスの製造方
   法において、前記重合開始剤として、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１及びＲ＾２は各々独立的に炭素原子数１
   〜６の脂肪族炭化水素基、環式炭化水素基、不飽和脂肪
   族炭化水素基、不飽和環式炭化水素基、アルコキシ基、
   アルコキシ基で置換された炭化水素基又は窒素原子或い
   は硫黄原子を含有する複素環基を表わし、Ｒ＾３は炭素
   原子数２〜１８の脂肪族炭化水素基、環式炭化水素基、
   不飽和脂肪族炭化水素基、不飽和環式炭化水素基、アル
   コキシ基、アルコキシ基で置換された炭化水素基又は窒
   素原子或いは硫黄原子を含有する複素環基を表わす。）
   で表わされるアシルフォスフィンオキシドを含有する重
   合開始剤を使用することを特徴とする液晶デバイスの製
   造方法。 ２、請求項１記載のアシルフォスフィンオキシドの使用
   割合が重合性組成物及び重合開始剤の混合物の０．０５
   〜２．０重量％の範囲にあることを特徴とする請求項１
   記載の液晶デバイスの製造方法。 ３、液晶材料の使用割合が調光層構成材料の６０〜９５
   重量％の範囲にあるを請求項１又は２記載の液晶デバイ
   スの製造方法。 ４、調光層における液晶材料が正の誘電率異方性を示す
   請求項１、２又は３記載の液晶デバイスの製造方法。 ５、調光層構成材料が等方性液体状態を保持している条
   件で紫外線照射によって重合性組成物を重合させること
   を特徴とする請求項１、２、３又は４記載の液晶デバイ
   スの製造方法。