JPH0441292A - 相変化型光記録媒体 - Google Patents
相変化型光記録媒体Info
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- JPH0441292A JPH0441292A JP2147216A JP14721690A JPH0441292A JP H0441292 A JPH0441292 A JP H0441292A JP 2147216 A JP2147216 A JP 2147216A JP 14721690 A JP14721690 A JP 14721690A JP H0441292 A JPH0441292 A JP H0441292A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は光による記録層の相変化を利用して情報の記録
再生及び書き換えを行うための相変化型光情報記録媒体
に関する。
再生及び書き換えを行うための相変化型光情報記録媒体
に関する。
[従来の技術]
電磁波特にレーザービームの照射により情報の記録・再
生および消去可能な光メモリー媒体の一つとして、結晶
−非晶質相間或いは結晶−結晶相聞の転移を利用する、
いわゆる相変化型記録媒体が良く知られている。特に光
磁気メモリーでは困難な単一ビームによるオーバーライ
ドが可能であり、ドライブ側の光学系も、より単純であ
ることなどから最近その研究開発が活発になっている。
生および消去可能な光メモリー媒体の一つとして、結晶
−非晶質相間或いは結晶−結晶相聞の転移を利用する、
いわゆる相変化型記録媒体が良く知られている。特に光
磁気メモリーでは困難な単一ビームによるオーバーライ
ドが可能であり、ドライブ側の光学系も、より単純であ
ることなどから最近その研究開発が活発になっている。
その代表的な材料例として、USP L510.441
に開示されているようなGe−Te5Ge−Te−Sb
、Ge−Te−5゜Ge−6e−8,、Ge−8e−3
b、Ge −As−8e、In−Te、5e−Te%5
e−As等所謂カルコゲン系合金材料が挙げられる。
に開示されているようなGe−Te5Ge−Te−Sb
、Ge−Te−5゜Ge−6e−8,、Ge−8e−3
b、Ge −As−8e、In−Te、5e−Te%5
e−As等所謂カルコゲン系合金材料が挙げられる。
又、安定性、高速結晶化等の向上を目的にGe−Te系
にAu(特開昭6l−219692) 、S n及びA
u(特開昭8l−270190) 、P d (特開昭
62−19490)等を添加しな材料の提案や、記録/
消去の繰返し性能向上を目的にGe−Te−8e−sb
の組成比を特定した材料(特開昭82−78418)の
提案等もなされている。
にAu(特開昭6l−219692) 、S n及びA
u(特開昭8l−270190) 、P d (特開昭
62−19490)等を添加しな材料の提案や、記録/
消去の繰返し性能向上を目的にGe−Te−8e−sb
の組成比を特定した材料(特開昭82−78418)の
提案等もなされている。
しかし、そのいずれもが相変化型書換え可能光メモリー
媒体として要求された緒特性のすべてを満足し得るもの
とはいえない。特に記録感度、消去感度の向上、オーバ
ーライド時の消し残りによる消去比低下の防止、並びに
記録部、未記録部の長寿命化が解決すべき最重要課題と
なっている。
媒体として要求された緒特性のすべてを満足し得るもの
とはいえない。特に記録感度、消去感度の向上、オーバ
ーライド時の消し残りによる消去比低下の防止、並びに
記録部、未記録部の長寿命化が解決すべき最重要課題と
なっている。
[発明が解決しようとする課題]
本発明は従来技術における上記問題を全て解消し高速消
去、記録感度の向上、消去率、記録の安定性等の材料特
性を全て満足する新規な相転移性二元化合物を用いたオ
ーバーライド可能な相変化型光情報記録媒体を提供しよ
うとするものである。
去、記録感度の向上、消去率、記録の安定性等の材料特
性を全て満足する新規な相転移性二元化合物を用いたオ
ーバーライド可能な相変化型光情報記録媒体を提供しよ
うとするものである。
[課題を解決するための手段]
上記課題を解決するための本発明の構成は記録材料とし
て金−インジウム合金を用いたことを特徴とする相変化
型光記録媒体である。
て金−インジウム合金を用いたことを特徴とする相変化
型光記録媒体である。
本発明に使用する記録材料の金−インジウム(Au−I
n)合金組成は、Au−In合金に対してInが20〜
35原子%であり、望ましくは25〜30原子%の範囲
がよい。
n)合金組成は、Au−In合金に対してInが20〜
35原子%であり、望ましくは25〜30原子%の範囲
がよい。
すなわちこの範囲内においいてはAu−In合金は相図
第1図かられかる様に370℃を境としてその下の温度
ではγ′相を又その上の温度ではγ相をとる事がわかっ
ている。すなわち本発明はこの2つの結晶相聞の転移を
利用する事にある。
第1図かられかる様に370℃を境としてその下の温度
ではγ′相を又その上の温度ではγ相をとる事がわかっ
ている。すなわち本発明はこの2つの結晶相聞の転移を
利用する事にある。
本発明の結晶−結晶量転移を利用すれば、その転移温度
が低いため従来の非晶質−結晶質相転移に比較して記録
感度が向上する。又、結晶相は当然非晶質相に比較して
安定なため記録の安定性が良好であることはいうまでも
ない。更にこの2つの結晶相聞の反射率の差が大きいた
め、高いコントラストが得られる。
が低いため従来の非晶質−結晶質相転移に比較して記録
感度が向上する。又、結晶相は当然非晶質相に比較して
安定なため記録の安定性が良好であることはいうまでも
ない。更にこの2つの結晶相聞の反射率の差が大きいた
め、高いコントラストが得られる。
本発明で用いられる基板は通常、ガラス、石英、セラミ
ックスあるいは樹脂であり、樹脂基板が成型性、コスト
等の点で好適である。樹脂の代表例としてはポリカーボ
ネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレ
ン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポ
リエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコン系樹脂
、フッ素系樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂等が挙げら
れるが、加工性、光学特性等の点でポリカーボネート樹
脂、ポリメチルメタクリレートのようなアクリル系樹脂
が好ましい。
ックスあるいは樹脂であり、樹脂基板が成型性、コスト
等の点で好適である。樹脂の代表例としてはポリカーボ
ネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレ
ン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポ
リエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコン系樹脂
、フッ素系樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂等が挙げら
れるが、加工性、光学特性等の点でポリカーボネート樹
脂、ポリメチルメタクリレートのようなアクリル系樹脂
が好ましい。
又、基板の形状としてはディスク状、カード状あるいは
シート状であっても良い。
シート状であっても良い。
本発明の光記録媒体を作るには所定の組成比のターゲッ
トを作製し、スパッター法による方法が好適である。又
膜の組成ずれを補正するために必要に応じて単元素のチ
ップを用いる場合もある。
トを作製し、スパッター法による方法が好適である。又
膜の組成ずれを補正するために必要に応じて単元素のチ
ップを用いる場合もある。
こうして形成された記録層の厚さは通常300〜150
0人、好ましくは500〜1000人である。なお記録
層を非晶質状態にするか、或いは結晶状態にするかは蒸
着時の基板温度によって決定され、常温の場合は一般に
非晶質状態となるが、水系の場合は結晶相を得ることが
できる。
0人、好ましくは500〜1000人である。なお記録
層を非晶質状態にするか、或いは結晶状態にするかは蒸
着時の基板温度によって決定され、常温の場合は一般に
非晶質状態となるが、水系の場合は結晶相を得ることが
できる。
本発明では記録層上に更に保護層を設けることができる
。保護層の材料としては熱的に安定な窒化ケイ素等の窒
化物;二酸化ケイ素、二酸化チタン等の酸化物等が使用
される。
。保護層の材料としては熱的に安定な窒化ケイ素等の窒
化物;二酸化ケイ素、二酸化チタン等の酸化物等が使用
される。
好ましい材料としてはSiO,5i02、ZnO1Sn
o2、Al2O3、TiO2、In2O3、MgO1Z
r02等の金属酸化物、S i 3N4、AIN、Ti
N、BN、ZrN等の窒化物、S iC%T a CS
B a C−W C−TiC,ZrC等の炭化物やダイ
ヤモンド状カーボン或いはそれらの混合物が挙げられる
。又、必要に応じて不純物を含んでいてもよい。このよ
うな保護層は各種気相成膜法、例えば、真空蒸着法、ス
パッタ法、プラズマCVD法、光CVD法、イオンブレ
ーティング法、電子ビーム蒸着法等によって形成できる
。なお、保護層の厚さは通常300〜1500人、好ま
しくは約1000人である。形成法は記録層の場合と同
様、通常スパッタ法が適用される。記録、再生及び消去
に用いる電磁波としてはレーザー光、電子線、X線、紫
外線、可視光線、赤外線、マイクロ波等、種々のものが
採用可能であるが。ドライブに取付ける際、小型でコン
パクトな半導体レーザーのビームが最適である。
o2、Al2O3、TiO2、In2O3、MgO1Z
r02等の金属酸化物、S i 3N4、AIN、Ti
N、BN、ZrN等の窒化物、S iC%T a CS
B a C−W C−TiC,ZrC等の炭化物やダイ
ヤモンド状カーボン或いはそれらの混合物が挙げられる
。又、必要に応じて不純物を含んでいてもよい。このよ
うな保護層は各種気相成膜法、例えば、真空蒸着法、ス
パッタ法、プラズマCVD法、光CVD法、イオンブレ
ーティング法、電子ビーム蒸着法等によって形成できる
。なお、保護層の厚さは通常300〜1500人、好ま
しくは約1000人である。形成法は記録層の場合と同
様、通常スパッタ法が適用される。記録、再生及び消去
に用いる電磁波としてはレーザー光、電子線、X線、紫
外線、可視光線、赤外線、マイクロ波等、種々のものが
採用可能であるが。ドライブに取付ける際、小型でコン
パクトな半導体レーザーのビームが最適である。
[実施例]
以下に本発明を実施例によって更に詳しく説明する。
実施例1
先ず、直径130■謳、厚み1.2mmのポリカーボネ
ート基板上にスパッタ法により保護膜として窒化ケイ素
を1000 !蒸着し、その上に30原子%In組成の
Au−In合金ターゲットを用いて同じくスパッタ法に
より1000人厚のAu−In記録膜を設けた。更にそ
の上に窒化ケイ素保護膜を1000ス厚設けて記録媒体
を作成した。第2図にこの記録媒体の層構成を示す。
ート基板上にスパッタ法により保護膜として窒化ケイ素
を1000 !蒸着し、その上に30原子%In組成の
Au−In合金ターゲットを用いて同じくスパッタ法に
より1000人厚のAu−In記録膜を設けた。更にそ
の上に窒化ケイ素保護膜を1000ス厚設けて記録媒体
を作成した。第2図にこの記録媒体の層構成を示す。
又、記録層を形成する際テストピースとしてスライドガ
ラス上に同じ膜を形成しておき、この膜から本記録層の
光学的特性、熱的特性をそれぞれ分光度計及びDSCに
より測定した。又、膜の構造はX線回折で解析した。そ
の結果、aSdepollX線回折からγ′相である事
が確認された。又、300℃熱処理サンプルも同じくX
線回折からγ−相+Au1n相である事が判明した。
ラス上に同じ膜を形成しておき、この膜から本記録層の
光学的特性、熱的特性をそれぞれ分光度計及びDSCに
より測定した。又、膜の構造はX線回折で解析した。そ
の結果、aSdepollX線回折からγ′相である事
が確認された。又、300℃熱処理サンプルも同じくX
線回折からγ−相+Au1n相である事が判明した。
又、DSCの測定からこの時の転移は224℃に発熱の
ピークとして観測された。又、光学的な特性をみるとa
s depo膜でその反射率は64%、300℃処理で
30%とその反射率差は34%と大きな値を有している
。
ピークとして観測された。又、光学的な特性をみるとa
s depo膜でその反射率は64%、300℃処理で
30%とその反射率差は34%と大きな値を有している
。
次に、この熱処理後の光記録媒体をllloOrpmの
速度で回転させながらビーム径を1μ置φ程度に絞った
半導体レーザー光(発振波長λ−830rv)を照射す
ることにより、記録、再生及び消去を行った。
速度で回転させながらビーム径を1μ置φ程度に絞った
半導体レーザー光(発振波長λ−830rv)を照射す
ることにより、記録、再生及び消去を行った。
なお、最小記録出力は9iiVs再生出力は2■v1最
小消去出力は4■Vである。この出力/消去条件で記録
後、更に2MHzでオーバーライド実験を行った。
小消去出力は4■Vである。この出力/消去条件で記録
後、更に2MHzでオーバーライド実験を行った。
その結果、初期記録のC/N比は52dBでオーバーラ
イド後も51dBと殆ど変らなかった。しかし、消去残
りが若干認められたが、その値(消去率)は32dBで
あり、充分使用可能な段階であることが確認された。又
、10.000回の記録、消去のくり返し実験を行った
が、信号レベルの低下はほとんど認められず、くり返し
特性も良好であることが確認された。
イド後も51dBと殆ど変らなかった。しかし、消去残
りが若干認められたが、その値(消去率)は32dBで
あり、充分使用可能な段階であることが確認された。又
、10.000回の記録、消去のくり返し実験を行った
が、信号レベルの低下はほとんど認められず、くり返し
特性も良好であることが確認された。
ここで最小記録出力が9IIWと結晶転移温度が244
℃に対して大きな値をもつのは、本記録膜の反射率が6
4%と大きいため、光の吸収効率が低いことによるもの
と思われる。しかし、従来の結晶−非晶質転移を利用し
た記録媒体よ・り感度の向上が認められると同時に繰返
し特性も良好であることが判明した。
℃に対して大きな値をもつのは、本記録膜の反射率が6
4%と大きいため、光の吸収効率が低いことによるもの
と思われる。しかし、従来の結晶−非晶質転移を利用し
た記録媒体よ・り感度の向上が認められると同時に繰返
し特性も良好であることが判明した。
[発明の効果]
以上説明した様に本発明の光記録媒体は、Au−In合
金を記録材料として選択したことにより記録感度を向上
することができる。
金を記録材料として選択したことにより記録感度を向上
することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、Au−In合金相図、第2図は本発明の光記
録媒体の層構成を説明する図。 第1図
録媒体の層構成を説明する図。 第1図
Claims (1)
- 記録材料として金−インジウム合金(Au−In合金に
対してInが20〜35原子%)を用いたことを特徴と
する相変化型光記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2147216A JPH0441292A (ja) | 1990-06-07 | 1990-06-07 | 相変化型光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2147216A JPH0441292A (ja) | 1990-06-07 | 1990-06-07 | 相変化型光記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0441292A true JPH0441292A (ja) | 1992-02-12 |
Family
ID=15425200
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2147216A Pending JPH0441292A (ja) | 1990-06-07 | 1990-06-07 | 相変化型光記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0441292A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6821814B2 (en) * | 1994-01-31 | 2004-11-23 | International Business Machines Corporation | Method for joining a semiconductor chip to a chip carrier substrate and resulting chip package |
-
1990
- 1990-06-07 JP JP2147216A patent/JPH0441292A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6821814B2 (en) * | 1994-01-31 | 2004-11-23 | International Business Machines Corporation | Method for joining a semiconductor chip to a chip carrier substrate and resulting chip package |
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