JPH0438603A

JPH0438603A - 磁気ヘッド及びその製造方法

Info

Publication number: JPH0438603A
Application number: JP14300490A
Authority: JP
Inventors: Yoshimasa Tanaka; 義昌田中
Original assignee: Victor Company of Japan Ltd
Current assignee: Victor Company of Japan Ltd
Priority date: 1990-05-31
Filing date: 1990-05-31
Publication date: 1992-02-07

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明はハードディスク装置等に使用する浮上型磁気ヘ
ッドに関する。

（従来の技術）従来、ハードディスク用磁気ヘッドとしては、例えば第
５図に示すように、セララミック等の非磁性体からなる
スライダ１０１の一面に平行に並んだ２つのエアベアリ
ング１０２，１０２を設け、一方のエアベアリング１０
２にギャップ１０４を形成したヘッド１０３を差込んで
ガラス１０５にて接着したコンポジットタイプと、第５
図に示すように、フェライト磁性体からなるスライダ１
０１の一面に平行に並んだ２つのエアベアリング１０２
．１０２を設け、これら２つのエアベアリング１０２，
１０２間の中央位置にギャップ１０４を形成してヘッド
１０３を接着し、ギャップ１０４にガラス１０５を充填
して、スライダ１０１を磁気回路の一部として使うよう
にしたモノリシックタイプとがある。

（発明が解決しようとする課題）ところで、ハードディスクドライブ装置においては記録
密度が増加していることから磁気ヘッドのトラック幅を
１０μｍ以下にする必要が生じている。

ところが、コンポジットタイプでは、このように狭いト
ラック幅のヘッドを単体で製作した上でスライダとガラ
ス接着をしなければならず、このときトラック幅を加工
した部分を損傷しないように接着しなければならないた
めに作業性が悪い。

また、熱膨張係数の異なるセラミックのスライダとヘッ
ドをガラス溶着するために、ヘッドに応力がかかり、そ
の歪によってヘッドの磁気特性が劣化することがあり、
しかもこのヘッドをメタル・・イン・ギャップ（ＭＩＧ
）タイプにすると更に異種材料が増えて、応力をコント
ロールすることが困難になる。

また、モノリシックタイプでは、ヘッドのトラック幅は
スライダのセンタレールの幅によって決定されるが、ス
ライダの小型化及び軽量化に伴い、加工装置の砥石が対
応できなくなっている。しかも、トラック幅をテーパ加
工で規制するため、スライダの高さによって加工精度が
影響を受ける。

（課題を解決するための手段）上記課題を解決するため本発明は、フェライト磁性体か
らなるヘッドのギャップ近傍のみ高飽和磁束密度を有す
る金属膜をギャップに対して傾斜させて形成し、この金
属膜の膜厚でトラック幅の一方端を規制し、エアベアリ
ングの幅を規制する加工により同時にトラック幅の他方
端を規制するようにした。

（作用）ヘッド部となるフェライト磁性体ブロックの一面にＶ溝
を形成し、このＶ溝の表面に高飽和磁束密度を有する金
属膜を形成し、更に■溝内にガラスを充填した後、前記
フェライト磁性体ブロックの一面をエアベアリングを有
するフェライト磁性体ブロックに接着し、前記エアベア
リングの幅を規制する加工と同時にトラック幅を規制す
る加工を施す。

（実施例）以下に本発明の実施例を添付図面を参照して説明する。

第１図は本発明に係る磁気ヘッドの全体斜視図、第２図
は同磁気ヘッドの要部拡大平面図、第３図は同磁気ヘッ
ドの製造過程を示す説明図である。

磁気ヘッド１は、スライダ２の一面に２つの平行なエア
ベアリング３．３を設け、これらエアベアリング３，３
の一方にフェライト磁性体からなるヘッド４を設けてい
る。

このヘッド４にはギャップ近傍のみ高飽和磁束密度を有
する金属膜５をギャップに対して傾斜させて形成し、ガ
ラス６にてスライダ２に接着している。そして、ヘッド
４のトラック幅Ｔｗは、端が金属膜５の膜厚で規制され
、他端はエアベアリング３の幅を規制する加工と同時に
加工して規制している。

この磁気ヘッド１を製造するには、第３図（ａ）に示す
ように、フェライト磁性体ブロック１１に■溝１２を加
工形成し、同図（ｂ）に示すようにブロック１１の表面
に高飽和磁束密度（高Ｂｓ材）の金属膜１３をスパッタ
リング等で成膜した後、同図（Ｃ）に示すように溝１２
にガラス１４を充填しするとともに巻線用溝１５を加工
する。

そして、同図（ｄ）に示すように、上記のように加工等
を施したブロック１１をギヤツブ祠を介してフェライト
からなるコア半体１７とガラス溶着によって一体化した
後、同図（ｅ）に示すようにコア形状に切断し加工して
ヘッドとなる第１次スライダ１８の溝１９を形成して第
１次エアベアリング２０．２０を形成し、同図（ｆ）に
示すように第１次エアベアリング２０にエアベアリング
幅を規制する面取り加工と同時にブロック１１にトラッ
ク幅を規制する加工を行って面取り３ａを有するエアベ
アリング３を形成するとともに面取りｌｌａを有するヘ
ッド４を形成する。

このようにフェライト磁性体からなるヘッド４のギャッ
プ近傍のみ高飽和磁束密度を有する金属膜５をギャップ
に対して傾斜させて形成しているので、高抗磁束媒体に
適して良好な特性が得られる。

また、ヘッド４をスライダ２にガラス溶着した後の最終
工程でヘッド４のトラック幅を規制する面取り加工を行
い、トラック幅加工後にガラスモールドしないので、応
力歪が生じて磁気特性が劣化することがなく、トラック
を損傷することがなく、シかもエアベアリング３の幅を
規制する規制の加工と同時にトラック幅規制の加工を行
うので工程を短縮できる。

（発明の効果）以上説明したように本発明によれば、フェライト磁性体
からなるヘッドのギャップ近傍のみ高飽和磁束密度を有
する金属膜をギャップに対して傾斜させて形成したので
、高抗磁束媒体に適して良好な特性が得られる。

また、最終工程でトラック幅を規制する加工をエアベア
リング幅規制加工と同時に行うので、トラック幅加工後
にガラスモールドした場合に生ずる応力歪による磁気特
性劣化を防ぐことができるとともにトラックの損傷を回
避でき、しがちエアベアリング幅規制の加工と同時にト
ラック幅規制の加工を行うので製造工数を減少できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る磁気ヘッドの全体斜視図、第２図
は同磁気ヘッドの要部拡大平面図、第３図は同磁気ヘッ
ドの製造過程を示す説明図、第４図は従来のコンポジッ
トタイプの磁気ヘッドの斜視図と要部拡大斜視図、第５
図は従来のモノシリツクタイプの磁気ヘッドの斜視図と
要部拡大斜視図である。１・・・磁気ヘッド、２・・・スライダ、３・・・エア
ベアリング、４・・・ヘッド、５・・・高飽和磁束密度
を有する金属膜、７・・・ガラス、ＴＷ・・・トラック
幅。特　許　出　願　人　日本ビクター株式会社Ｏつ（ｂ）

Claims

【特許請求の範囲】

（１）エアベアリングの一端にヘッド部を設けた磁気ヘ
ッドにおいて、前記ヘッド部はフェライト磁性体にて形
成するとともに、このヘッド部には高飽和磁束密度を有
する金属膜をギャップに対して傾斜させて形成したこと
を特徴とする磁気ヘッド。
（２）ヘッド部となるフェライト磁性体ブロックの一面
にＶ溝を形成し、このＶ溝の表面に高飽和磁束密度を有
する金属膜を形成し、次いでＶ溝内にガラスを充填した
後、前記フェライト磁性体ブロックの一面をエアベアリ
ングを有するフェライト磁性体ブロックに接着し、前記
エアベアリングの幅を規制する加工と同時にトラック幅
を規制する加工を施すことを特徴とする磁気ヘッドの製
造方法。