JPH0437631A - 表面断熱材の製造方法 - Google Patents
表面断熱材の製造方法Info
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- JPH0437631A JPH0437631A JP13911290A JP13911290A JPH0437631A JP H0437631 A JPH0437631 A JP H0437631A JP 13911290 A JP13911290 A JP 13911290A JP 13911290 A JP13911290 A JP 13911290A JP H0437631 A JPH0437631 A JP H0437631A
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Landscapes
- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、熱伝導率及び熱容量が共に極めて小である表
面断熱材の製造方法に関する。
面断熱材の製造方法に関する。
(従来の技術)
従来の断熱材とは、セラミック材等のように、熱伝導率
が小てあり、かつ比熱が犬であるものが使用されている
。
が小てあり、かつ比熱が犬であるものが使用されている
。
よって、エンジンの燃焼室内壁を高温強度に優れ、熱伝
導率が小であるセラミックにて形成し、エンジン本体を
介して冷却されている熱エネルギーの量を低減し、エン
ジンの効率及び出力を共に改善しようとするセラミック
エンジンが多数提案されている。
導率が小であるセラミックにて形成し、エンジン本体を
介して冷却されている熱エネルギーの量を低減し、エン
ジンの効率及び出力を共に改善しようとするセラミック
エンジンが多数提案されている。
ところがこのようなセラミックエンジンでは、燃焼室内
壁を形成するセラミック部材の熱容量が犬であるため、
燃焼室内壁温度は燃焼室内部温度の変化に追従せず、高
温度の、かつ一定温度となる。
壁を形成するセラミック部材の熱容量が犬であるため、
燃焼室内壁温度は燃焼室内部温度の変化に追従せず、高
温度の、かつ一定温度となる。
よりて、燃焼室内部から冷却水への熱流量は低減される
ものの、燃焼室内部の流体と燃焼室内壁との間で伝達さ
れる熱伝達量は大となる。
ものの、燃焼室内部の流体と燃焼室内壁との間で伝達さ
れる熱伝達量は大となる。
すなわち、外部から燃焼室内に吸入された吸気は、直ち
に該内壁からの熱伝達を受は膨張し、後続する吸気の燃
焼室内への流入を阻害し、吸気の実質充填量が低下する
。
に該内壁からの熱伝達を受は膨張し、後続する吸気の燃
焼室内への流入を阻害し、吸気の実質充填量が低下する
。
また、圧縮前の吸気が加熱され高温度であるため、圧縮
端温度が高温度になり、異常燃焼の発生、及び、排気ガ
スの高温度化、更には燃焼室内壁温度の上昇による冷却
水への熱流量の増加等の問題が発生する。
端温度が高温度になり、異常燃焼の発生、及び、排気ガ
スの高温度化、更には燃焼室内壁温度の上昇による冷却
水への熱流量の増加等の問題が発生する。
よって、燃焼室内壁を単にセラミックにて形成したセラ
ミックエンジンでは、効率及び出力の改善を成し得ない
。
ミックエンジンでは、効率及び出力の改善を成し得ない
。
そこで、本願出願人は、上記の点に鑑みて、燃焼室内壁
を熱伝導率及び熱容量か共に極めて小である表面断熱層
にて被覆することにより、効率及び出力を共に改善する
表面断熱エンジンに通用される表面断熱材の製造方法を
、特願平221490号として既に提案している。
を熱伝導率及び熱容量か共に極めて小である表面断熱層
にて被覆することにより、効率及び出力を共に改善する
表面断熱エンジンに通用される表面断熱材の製造方法を
、特願平221490号として既に提案している。
(発明が解決しようとする課題)
上記提案による製造方法では、レーザー加工機にて表面
断熱材fern’当たり約1万個の穴明は加工を必要と
する。
断熱材fern’当たり約1万個の穴明は加工を必要と
する。
現在のレーザー加工機の加工速度は、1穴加工するのに
3〜5秒を要し、加工時間を短縮しても、0.3〜0.
5秒か限界である。
3〜5秒を要し、加工時間を短縮しても、0.3〜0.
5秒か限界である。
よって、上記提案による製造方法では加工時間か長く、
表面断熱材の加工コストが高騰するという問題がある。
表面断熱材の加工コストが高騰するという問題がある。
そこで、本発明は上記の問題点に鑑みてなされたもので
あり、表面断熱材を大量かつ安価にて製造することので
きる表面断熱材の製造方法を提供しようとするものであ
る。
あり、表面断熱材を大量かつ安価にて製造することので
きる表面断熱材の製造方法を提供しようとするものであ
る。
(課題を解決するための手段)
本発明によれば、感光性物質からなる基材の方の表面に
フォトリソグラフィー法により複数個の凹部をエツチン
グ形成するステップと、該ステップ終了後、該凹部の内
表面を含めた該基材の一方の表面にほぼ均一の厚さをも
ちかつ所定の強度を有する第1の被膜を被覆せしめるス
テップと、該基材の一方の表面を被覆する第1の被膜上
に台座を接着するステップと、該基材の他方の表面をエ
ツチング除去し第1の被膜を露出せしめるステップと、
該第1の被膜の露出面を第2の被膜にて被覆するステッ
プとを有することを特徴とする表面断熱材の製造方法を
提供できる。
フォトリソグラフィー法により複数個の凹部をエツチン
グ形成するステップと、該ステップ終了後、該凹部の内
表面を含めた該基材の一方の表面にほぼ均一の厚さをも
ちかつ所定の強度を有する第1の被膜を被覆せしめるス
テップと、該基材の一方の表面を被覆する第1の被膜上
に台座を接着するステップと、該基材の他方の表面をエ
ツチング除去し第1の被膜を露出せしめるステップと、
該第1の被膜の露出面を第2の被膜にて被覆するステッ
プとを有することを特徴とする表面断熱材の製造方法を
提供できる。
(作用)
本発明の表面断熱材の製造方法では、表面断熱材の形状
を感光性材料にフォトリソグラフィー法を施して作成す
るので、大面積の表面断熱材を速やかに製造することが
できる。
を感光性材料にフォトリソグラフィー法を施して作成す
るので、大面積の表面断熱材を速やかに製造することが
できる。
(実施例)
以下、本発明の実施例を図面に従って詳細に説明する。
第1図及び第2図は、本発明による表面断熱材の製造方
法のステップ毎の部分断面図である。
法のステップ毎の部分断面図である。
まず第1図(a)に示すごとく、感光性ガラスからなる
基材1の一方の表面に、網目状のマスク2を被着させる
。
基材1の一方の表面に、網目状のマスク2を被着させる
。
ところで、該感光性ガラスとは、紫外線による露光によ
りガラス内に潜像か形成され、該潜像を熱処理により結
晶化し、更に酸処理により結晶部分のみを熔解除去する
ことにより、マスク2の形状に整形されるものである。
りガラス内に潜像か形成され、該潜像を熱処理により結
晶化し、更に酸処理により結晶部分のみを熔解除去する
ことにより、マスク2の形状に整形されるものである。
そして、該整形物を熱処理することにより結晶化しガラ
スセラミックにし強度を向上させる。
スセラミックにし強度を向上させる。
尚、該結晶化されたガラスセラミックは、例えはHOY
A株式会社製の商品名「フオトセラム」と同様のもので
ある。
A株式会社製の商品名「フオトセラム」と同様のもので
ある。
また、マスク2の網目形状は、本実施例では六角形であ
るか、その他四角形や三角形等でもよい。
るか、その他四角形や三角形等でもよい。
次にマスク2を介して基材1に紫外線を照射し、本図(
b)に示すように、エツチングし、壁3と底4とからな
る凹部を形成する。
b)に示すように、エツチングし、壁3と底4とからな
る凹部を形成する。
次に、凹部内表面、すなわち壁3及び底4の表面に、窒
化珪素をスパッタリングもしくはCVD法により被着さ
せ、第1被N膜5を形成する。
化珪素をスパッタリングもしくはCVD法により被着さ
せ、第1被N膜5を形成する。
尚、該第1被覆膜5は窒化珪素の他に、SUS鋼もしく
はチタンをスパッタリングして形成してもよい。
はチタンをスパッタリングして形成してもよい。
次に、第2図(a)に示すように、壁3に被着している
第1被覆膜5の頂部を台座6に接着する。
第1被覆膜5の頂部を台座6に接着する。
そして、底4をエツチングにより溶解除去し、本図(b
)に示すごとく、第1被覆膜5を露出させる。
)に示すごとく、第1被覆膜5を露出させる。
そして、最後に該第1被覆膜5の露出面上に、窒化珪素
をスパッタリングもしくはCVD法により被着させ、第
2被覆膜7を形成する。
をスパッタリングもしくはCVD法により被着させ、第
2被覆膜7を形成する。
以上の工程により、第1被覆膜5と第2被覆膜7とから
なる天井部分を柱8が保持する形状が得られる。
なる天井部分を柱8が保持する形状が得られる。
尚、該第2被覆膜7も上記第1被覆膜5と同しく窒化珪
素の他に、SUS鋼もしくはチタンをスパッタリングし
て形成してもよい。
素の他に、SUS鋼もしくはチタンをスパッタリングし
て形成してもよい。
上記工程にて製造された表面断熱材の構造を第3図に示
す。
す。
第3図は、本発明の製造方法により製造された表面断熱
材の部分斜視断面図である。
材の部分斜視断面図である。
本実施例の場合、六角形状の凹部のピッチは50μmで
あり、柱8の厚みは7μm、高さは30μm、また天井
部の厚みは4μm程度となるように製造した。
あり、柱8の厚みは7μm、高さは30μm、また天井
部の厚みは4μm程度となるように製造した。
以上、図示した実施例に関連して本発明を説明したが、
本発明は特許請求の範囲に示される主旨と精神の下で多
様な構成をとり得るものであって、特段の事情のない限
り、本発明を上記の詳細に説明した枠内に限定するもの
ではない。
本発明は特許請求の範囲に示される主旨と精神の下で多
様な構成をとり得るものであって、特段の事情のない限
り、本発明を上記の詳細に説明した枠内に限定するもの
ではない。
(発明の効果)
以上説明したように、本発明によれば、表面断熱材の形
状を感光性材料にフォトリソグラフィー法を施して作成
するので、大面積の表面断熱材を速やかに製造すること
ができ、加工コストか安価にすることかできる。
状を感光性材料にフォトリソグラフィー法を施して作成
するので、大面積の表面断熱材を速やかに製造すること
ができ、加工コストか安価にすることかできる。
第1図及び第2図は、本発明による表面断熱材の製造方
法のステップ毎の部分断面図、第3図は、本発明の製造
方法により製造された表面断熱材の部分斜視断面図であ
る。 1・・・基材、2・・・マスク、3・・・壁、4・・・
底、5・・・第1被N膜、6・・・台座、7・・・第2
被覆膜、8・・・柱。
法のステップ毎の部分断面図、第3図は、本発明の製造
方法により製造された表面断熱材の部分斜視断面図であ
る。 1・・・基材、2・・・マスク、3・・・壁、4・・・
底、5・・・第1被N膜、6・・・台座、7・・・第2
被覆膜、8・・・柱。
Claims (3)
- (1)感光性物質からなる基材の一方の表面にフォトリ
ソグラフィー法により複数個の凹部をエッチング形成す
るステップと、該ステップ終了後、該凹部の内表面を含
めた該基材の一方の表面にほぼ均一の厚さをもちかつ所
定の強度を有する第1の被膜を被覆せしめるステップと
、該基材の一方の表面を被覆する第1の被膜上に台座を
接着するステップと、該基材の他方の表面をエッチング
除去し第1の被膜を露出せしめるステップと、該第1の
被膜の露出面を第2の被膜にて被覆するステップとを有
することを特徴とする表面断熱材の製造方法。 - (2)上記第1の被膜及び第2の被膜は、窒化珪素(S
i_3N_4)、SUS鋼及びチタン(Ti)の内の少
なくとも1種類からなることを特徴とする請求項(1)
記載の表面断熱材の製造方法。 - (3)上記基材を形成する感光性物質は、感光性ガラス
であることを特徴とする請求項(1)記載の表面断熱材
の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13911290A JPH0437631A (ja) | 1990-05-29 | 1990-05-29 | 表面断熱材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13911290A JPH0437631A (ja) | 1990-05-29 | 1990-05-29 | 表面断熱材の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0437631A true JPH0437631A (ja) | 1992-02-07 |
Family
ID=15237770
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13911290A Pending JPH0437631A (ja) | 1990-05-29 | 1990-05-29 | 表面断熱材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0437631A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7312479B2 (en) | 2000-04-24 | 2007-12-25 | Rohm Co., Ltd. | Side-emission type semiconductor light-emitting device and manufacturing method thereof |
JP2011063490A (ja) * | 2009-09-18 | 2011-03-31 | Nagase & Co Ltd | 表面に凹凸が形成されたガラス、及び、その製造方法 |
-
1990
- 1990-05-29 JP JP13911290A patent/JPH0437631A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7312479B2 (en) | 2000-04-24 | 2007-12-25 | Rohm Co., Ltd. | Side-emission type semiconductor light-emitting device and manufacturing method thereof |
JP2011063490A (ja) * | 2009-09-18 | 2011-03-31 | Nagase & Co Ltd | 表面に凹凸が形成されたガラス、及び、その製造方法 |
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