JPH04369824A - 露光装置におけるマスク保持装置 - Google Patents
露光装置におけるマスク保持装置Info
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- JPH04369824A JPH04369824A JP3171815A JP17181591A JPH04369824A JP H04369824 A JPH04369824 A JP H04369824A JP 3171815 A JP3171815 A JP 3171815A JP 17181591 A JP17181591 A JP 17181591A JP H04369824 A JPH04369824 A JP H04369824A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/02—Exposure apparatus for contact printing
- G03B27/14—Details
- G03B27/18—Maintaining or producing contact pressure between original and light-sensitive material
- G03B27/20—Maintaining or producing contact pressure between original and light-sensitive material by using a vacuum or fluid pressure
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2014—Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＩＣリ−ドフレ−ム、プ
リント配線板、半導体素子、その他電子部品や各種精密
部品を形成する際のフォトエッチング・パタ−ンを、高
精度で片面または両面に焼付作業を行う露光装置におけ
るマスク保持装置に関する。
リント配線板、半導体素子、その他電子部品や各種精密
部品を形成する際のフォトエッチング・パタ−ンを、高
精度で片面または両面に焼付作業を行う露光装置におけ
るマスク保持装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のホトエッチングにおける露光装置
として、マスク合せ後にマスクと基板を密着させ、露光
する露光時の密着法として、ハ−ドコンタクトがある。 この方法は機械的な力、すなわち圧縮気体や真空（大気
圧）で密着させる方法である。従来のマスク保持装置と
しては、ガラス板の周囲に取付け金具等を取付け、その
取付け金具等にボルト・ナットを介してフレ−ムに固定
していた。あるいは、ガラス板の周囲に接着剤を塗布す
るか、両面テ−プを貼着けてガラス板をフレ−ムに固定
していた。そしてその固定したガラス板にパタ−ンフイ
ルムを固定していた。
として、マスク合せ後にマスクと基板を密着させ、露光
する露光時の密着法として、ハ−ドコンタクトがある。 この方法は機械的な力、すなわち圧縮気体や真空（大気
圧）で密着させる方法である。従来のマスク保持装置と
しては、ガラス板の周囲に取付け金具等を取付け、その
取付け金具等にボルト・ナットを介してフレ−ムに固定
していた。あるいは、ガラス板の周囲に接着剤を塗布す
るか、両面テ−プを貼着けてガラス板をフレ−ムに固定
していた。そしてその固定したガラス板にパタ−ンフイ
ルムを固定していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来のマスク保持装置
はフレ−ムに取付け金具およびボルト・ナットを介して
ガラス板を固定した場合、そのガラス板の取付け、取外
し作業が大変であるばかりか、ガラス板自体をマスク乾
板として使用する場合、ガラス板に穴をあけたり溝等を
形成すること自体、マスクパタ−ンを傷つけたり、ある
いは秘密保持上等の理由により困難なことであった。ま
た、接着剤や両面テ−プを介してフレ−ムにガラス板を
固定した場合、ガラス板の交換作業やメンテナンス等に
時間を要し得策でなかった。本発明は上記の点に鑑みて
なされたもので、その目的とするところはマスクと基板
を損傷させることなく安全、確実に保持でき、透明材で
形成した平板ホルダ−または透明材で形成したマスク乾
板の脱着が容易で、またガラス板板自体をマスク乾板と
して使用する場合にもガラス板に穴をあけたり溝等を加
工形成することなく、しかもマスクに傷をつけることが
なく簡単かつ確実にフレ−ムに保持でき基板の片面露光
または両面露光にも適用できる露光装置におけるマスク
保持装置を提供することにある。
はフレ−ムに取付け金具およびボルト・ナットを介して
ガラス板を固定した場合、そのガラス板の取付け、取外
し作業が大変であるばかりか、ガラス板自体をマスク乾
板として使用する場合、ガラス板に穴をあけたり溝等を
形成すること自体、マスクパタ−ンを傷つけたり、ある
いは秘密保持上等の理由により困難なことであった。ま
た、接着剤や両面テ−プを介してフレ−ムにガラス板を
固定した場合、ガラス板の交換作業やメンテナンス等に
時間を要し得策でなかった。本発明は上記の点に鑑みて
なされたもので、その目的とするところはマスクと基板
を損傷させることなく安全、確実に保持でき、透明材で
形成した平板ホルダ−または透明材で形成したマスク乾
板の脱着が容易で、またガラス板板自体をマスク乾板と
して使用する場合にもガラス板に穴をあけたり溝等を加
工形成することなく、しかもマスクに傷をつけることが
なく簡単かつ確実にフレ−ムに保持でき基板の片面露光
または両面露光にも適用できる露光装置におけるマスク
保持装置を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明に係る露光装置に
おけるマスク保持装置は、レジスト膜を形成した基板ま
たは薄膜にホトマスクを密着させ、光を照射して露光す
る露光装置において、上下動可能な金属製フレ−ムの下
面に弾性磁石パッキングを吸着させ、該弾性磁石パッキ
ングに上側吸引穴と下側吸引穴を穿設し、弾性磁石パッ
キングの下方に透明材で形成した平板ホルダ−を水平方
向に挿脱自在に取付け、該平板ホルダ−の上面周縁に前
記上側吸引穴と連通する上側吸引溝を形成して弾性磁石
パッキングで覆われた該上側吸引溝内の真空により平板
ホルダ−を水平方向に密着支持し、平板ホルダ−の下面
周縁に前記下側吸引穴と連通する下側吸引溝を形成し、
平板ホルダ−の下面に下側吸引溝内の真空によりパタ−
ンフイルムまたはパタ−ンガラス乾板を密着してなるも
のである透明材で形成した平板ホルダ−はガラス板また
はプラスチック板で形成されている。また、弾性磁石パ
ッキングは磁性を帯びたゴムまたは樹脂で形成した板状
パッキングである。
おけるマスク保持装置は、レジスト膜を形成した基板ま
たは薄膜にホトマスクを密着させ、光を照射して露光す
る露光装置において、上下動可能な金属製フレ−ムの下
面に弾性磁石パッキングを吸着させ、該弾性磁石パッキ
ングに上側吸引穴と下側吸引穴を穿設し、弾性磁石パッ
キングの下方に透明材で形成した平板ホルダ−を水平方
向に挿脱自在に取付け、該平板ホルダ−の上面周縁に前
記上側吸引穴と連通する上側吸引溝を形成して弾性磁石
パッキングで覆われた該上側吸引溝内の真空により平板
ホルダ−を水平方向に密着支持し、平板ホルダ−の下面
周縁に前記下側吸引穴と連通する下側吸引溝を形成し、
平板ホルダ−の下面に下側吸引溝内の真空によりパタ−
ンフイルムまたはパタ−ンガラス乾板を密着してなるも
のである透明材で形成した平板ホルダ−はガラス板また
はプラスチック板で形成されている。また、弾性磁石パ
ッキングは磁性を帯びたゴムまたは樹脂で形成した板状
パッキングである。
【０００５】本発明に係る両面露光装置におけるマスク
保持装置は、レジスト膜を形成した基板または薄膜の両
面にそれぞれホトマスクを密着させ、上下それぞれから
光を照射して露光する両面露光装置において、上下動可
能な金属製の上側フレ−ムの下面に上側弾性磁石パッキ
ングを吸着させ、該上側弾性磁石パッキングに上側吸引
穴と下側吸引穴を穿設し、上側弾性磁石パッキングの下
方に透明材で形成した上側の平板ホルダ−を水平方向に
挿脱自在に取付け、該上側の平板ホルダ−の上面周縁に
前記上側吸引穴と連通する上側吸引溝を形成して上側弾
性磁石パッキングで覆われた該上側吸引溝内の真空によ
り上側の平板ホルダ−を上側弾性磁石パッキングの下面
に水平方向に密着支持し、上側の平板ホルダ−の下面周
縁に前記下側吸引穴と連通する下側吸引溝を形成し、上
側の平板ホルダ−の下面に上側吸引溝内の真空により吸
着される上側パタ−ンフイルムまたは上側パタ−ンガラ
ス乾板を配設する一方、金属製の下側フレ−ムの上面に
下側弾性磁石パッキングを吸着させ、該下側弾性磁石パ
ッキングに上側吸引穴と下側吸引穴を穿設し、下側弾性
磁石パッキングの上面に透明材で形成した下側の平板ホ
ルダ−を載置し、該下側の平板ホルダ−の下面周縁に前
記下側吸引穴と連通する下側吸引溝を形成して下側弾性
磁石パッキングで覆われた該下側吸引溝内の真空により
下側の平板ホルダ−を水平方向に密着支持し、下側の平
板ホルダ−の上面周縁に前記上側吸引穴と連通する上側
吸引溝を形成し、下側の平板ホルダ−の上面に上側吸引
溝内の真空により吸着される下側パタ−ンフイルムまた
は下側パタ−ンガラス乾板を配設してなるものである。 透明材で形成した平板の上側の平板ホルダ−および下側
の平板ホルダ−はガラス板またはプラスチック板で形成
されている。両面露光装置における上側弾性磁石パッキ
ングおよび下側弾性磁石パッキングは磁性を帯びたゴム
または樹脂で形成した板状パッキングである。
保持装置は、レジスト膜を形成した基板または薄膜の両
面にそれぞれホトマスクを密着させ、上下それぞれから
光を照射して露光する両面露光装置において、上下動可
能な金属製の上側フレ−ムの下面に上側弾性磁石パッキ
ングを吸着させ、該上側弾性磁石パッキングに上側吸引
穴と下側吸引穴を穿設し、上側弾性磁石パッキングの下
方に透明材で形成した上側の平板ホルダ−を水平方向に
挿脱自在に取付け、該上側の平板ホルダ−の上面周縁に
前記上側吸引穴と連通する上側吸引溝を形成して上側弾
性磁石パッキングで覆われた該上側吸引溝内の真空によ
り上側の平板ホルダ−を上側弾性磁石パッキングの下面
に水平方向に密着支持し、上側の平板ホルダ−の下面周
縁に前記下側吸引穴と連通する下側吸引溝を形成し、上
側の平板ホルダ−の下面に上側吸引溝内の真空により吸
着される上側パタ−ンフイルムまたは上側パタ−ンガラ
ス乾板を配設する一方、金属製の下側フレ−ムの上面に
下側弾性磁石パッキングを吸着させ、該下側弾性磁石パ
ッキングに上側吸引穴と下側吸引穴を穿設し、下側弾性
磁石パッキングの上面に透明材で形成した下側の平板ホ
ルダ−を載置し、該下側の平板ホルダ−の下面周縁に前
記下側吸引穴と連通する下側吸引溝を形成して下側弾性
磁石パッキングで覆われた該下側吸引溝内の真空により
下側の平板ホルダ−を水平方向に密着支持し、下側の平
板ホルダ−の上面周縁に前記上側吸引穴と連通する上側
吸引溝を形成し、下側の平板ホルダ−の上面に上側吸引
溝内の真空により吸着される下側パタ−ンフイルムまた
は下側パタ−ンガラス乾板を配設してなるものである。 透明材で形成した平板の上側の平板ホルダ−および下側
の平板ホルダ−はガラス板またはプラスチック板で形成
されている。両面露光装置における上側弾性磁石パッキ
ングおよび下側弾性磁石パッキングは磁性を帯びたゴム
または樹脂で形成した板状パッキングである。
【０００６】また、本発明に係る露光装置におけるマス
ク保持装置は、レジスト膜を形成した基板または薄膜に
ホトマスクを密着させ、光を照射して露光する露光装置
において、上下動可能な金属製の上側フレ−ムの下面に
形成した溝または突条に、吸引長孔を形成した上側弾性
パッキングを装着し、上側弾性パッキングの下面に上側
ガラスマスク乾板を該吸引長孔内の真空により水平方向
に密着支持するようにしたものである。露光装置におけ
るマスク保持装置において、上側弾性パッキングは磁性
を帯びたゴムまたは樹脂で形成した板状パッキングであ
る。
ク保持装置は、レジスト膜を形成した基板または薄膜に
ホトマスクを密着させ、光を照射して露光する露光装置
において、上下動可能な金属製の上側フレ−ムの下面に
形成した溝または突条に、吸引長孔を形成した上側弾性
パッキングを装着し、上側弾性パッキングの下面に上側
ガラスマスク乾板を該吸引長孔内の真空により水平方向
に密着支持するようにしたものである。露光装置におけ
るマスク保持装置において、上側弾性パッキングは磁性
を帯びたゴムまたは樹脂で形成した板状パッキングであ
る。
【０００７】また、本発明に係る両面露光装置における
マスク保持装置は、レジスト膜を形成した基板または薄
膜の両面にそれぞれホトマスクを密着させ、上下それぞ
れから光を照射して露光する両面露光装置において、上
下動可能な金属製の上側フレ−ムの下面に形成した溝ま
たは突条に、吸引長孔を形成した上側弾性パッキングを
装着し、上側弾性パッキングの下面に上側ガラスマスク
乾板を、該吸引長孔内の真空により水平方向に密着支持
する一方、金属製の下側フレ−ムの上面に形成した溝ま
たは突条に、吸引長孔を形成した下側弾性パッキングを
装着し、下側弾性パッキングの上面に透明材で形成した
下側ガラスマスク乾板を水平方向に載置し、下側ガラス
マスク乾板の下面周縁を前記下側弾性パッキングに形成
した吸引長孔内の真空により密着させたものである。両
面露光装置におけるマスク保持装置において、上側弾性
パッキングおよび下側弾性パッキングは磁性を帯びたゴ
ムまたは樹脂で形成したものである。
マスク保持装置は、レジスト膜を形成した基板または薄
膜の両面にそれぞれホトマスクを密着させ、上下それぞ
れから光を照射して露光する両面露光装置において、上
下動可能な金属製の上側フレ−ムの下面に形成した溝ま
たは突条に、吸引長孔を形成した上側弾性パッキングを
装着し、上側弾性パッキングの下面に上側ガラスマスク
乾板を、該吸引長孔内の真空により水平方向に密着支持
する一方、金属製の下側フレ−ムの上面に形成した溝ま
たは突条に、吸引長孔を形成した下側弾性パッキングを
装着し、下側弾性パッキングの上面に透明材で形成した
下側ガラスマスク乾板を水平方向に載置し、下側ガラス
マスク乾板の下面周縁を前記下側弾性パッキングに形成
した吸引長孔内の真空により密着させたものである。両
面露光装置におけるマスク保持装置において、上側弾性
パッキングおよび下側弾性パッキングは磁性を帯びたゴ
ムまたは樹脂で形成したものである。
【０００８】
【作用】本発明に係る露光装置におけるマスク保持装置
の使用法は次の通りである。上下動可能な金属製フレ−
ムの下面に、弾性磁石パッキングをその磁石の吸引力を
利用して吸着させる。弾性磁石パッキングに穿設した上
側吸引穴と連通する透明材で形成した平板ホルダ−の上
側吸引溝内を真空ポンプ等により真空にし、弾性磁石パ
ッキングの下面に平板ホルダ−を密着させる。また、平
板ホルダ−の下面には弾性磁石パッキングの下側吸引穴
と連通する下側吸引溝内を真空ポンプ等により真空にし
、パタ−ンフイルムまたはパタ−ンガラス乾板を密着さ
せる。こうして、平板ホルダ−の下面にパタ−ンフイル
ムまたはパタ−ンガラス乾板を密着させた後、該パタ−
ンフイルムまたはパタ−ンガラス乾板の裏面にレジスト
膜を形成した基板または薄膜を相対的に位置合わせさせ
て固定させ、露光を行う。
の使用法は次の通りである。上下動可能な金属製フレ−
ムの下面に、弾性磁石パッキングをその磁石の吸引力を
利用して吸着させる。弾性磁石パッキングに穿設した上
側吸引穴と連通する透明材で形成した平板ホルダ−の上
側吸引溝内を真空ポンプ等により真空にし、弾性磁石パ
ッキングの下面に平板ホルダ−を密着させる。また、平
板ホルダ−の下面には弾性磁石パッキングの下側吸引穴
と連通する下側吸引溝内を真空ポンプ等により真空にし
、パタ−ンフイルムまたはパタ−ンガラス乾板を密着さ
せる。こうして、平板ホルダ−の下面にパタ−ンフイル
ムまたはパタ−ンガラス乾板を密着させた後、該パタ−
ンフイルムまたはパタ−ンガラス乾板の裏面にレジスト
膜を形成した基板または薄膜を相対的に位置合わせさせ
て固定させ、露光を行う。
【０００９】次に、両面露光装置におけるマスク保持装
置のうちパタ−ンフイルムまたはパタ−ンガラス乾板を
使用する場合の保持装置について説明する。上下動可能
な金属製フレ−ムの下面に、弾性磁石パッキングをその
磁石の吸引力を利用して吸着させる。弾性磁石パッキン
グに穿設した上側吸引穴と連通する透明材で形成した平
板ホルダ−の上側吸引溝内を真空ポンプ等により真空に
し、弾性磁石パッキングの下面に平板ホルダ−を密着さ
せる。また、平板ホルダ−の下面には弾性磁石パッキン
グの下側吸引穴と連通する下側吸引溝内を真空ポンプ等
により真空にし、パタ−ンフイルムまたはパタ−ンガラ
ス乾板を密着させる。
置のうちパタ−ンフイルムまたはパタ−ンガラス乾板を
使用する場合の保持装置について説明する。上下動可能
な金属製フレ−ムの下面に、弾性磁石パッキングをその
磁石の吸引力を利用して吸着させる。弾性磁石パッキン
グに穿設した上側吸引穴と連通する透明材で形成した平
板ホルダ−の上側吸引溝内を真空ポンプ等により真空に
し、弾性磁石パッキングの下面に平板ホルダ−を密着さ
せる。また、平板ホルダ−の下面には弾性磁石パッキン
グの下側吸引穴と連通する下側吸引溝内を真空ポンプ等
により真空にし、パタ−ンフイルムまたはパタ−ンガラ
ス乾板を密着させる。
【００１０】一方、金属製の下側フレ−ムの上面に下側
弾性磁石パッキングをその磁石の吸引力を利用して吸着
させる。弾性磁石パッキングに穿設した下側吸引穴と連
通する透明材で形成した平板ホルダ−の下側吸引溝内を
真空ポンプ等により真空にし、弾性磁石パッキングの上
面に平板ホルダ−を密着させる。また、平板ホルダ−の
上面には弾性磁石パッキングの上側吸引穴と連通する上
側吸引溝内を真空ポンプ等により真空にし、パタ−ンフ
イルムまたはパタ−ンガラス乾板を密着させる。そして
、上側に位置する平板ホルダ−と下側に位置する平板ホ
ルダ−との間にレジスト膜を形成した基板または薄膜を
相対的に位置合わせして挟持する。こうして基板または
薄膜の表裏面を露光する。
弾性磁石パッキングをその磁石の吸引力を利用して吸着
させる。弾性磁石パッキングに穿設した下側吸引穴と連
通する透明材で形成した平板ホルダ−の下側吸引溝内を
真空ポンプ等により真空にし、弾性磁石パッキングの上
面に平板ホルダ−を密着させる。また、平板ホルダ−の
上面には弾性磁石パッキングの上側吸引穴と連通する上
側吸引溝内を真空ポンプ等により真空にし、パタ−ンフ
イルムまたはパタ−ンガラス乾板を密着させる。そして
、上側に位置する平板ホルダ−と下側に位置する平板ホ
ルダ−との間にレジスト膜を形成した基板または薄膜を
相対的に位置合わせして挟持する。こうして基板または
薄膜の表裏面を露光する。
【００１１】次に、露光装置におけるマスク保持装置の
うちガラスマスク乾板を使用する場合の保持装置につい
て説明する。上下動可能な金属製の上側フレ−ムの下面
に形成した溝または突条に、吸引長孔を形成した上側弾
性パッキングを装着する。上側弾性パッキングが磁性を
帯びたゴムまたは樹脂で形成されている場合は、その磁
石の吸引力を利用して簡単に装着され、補修、交換等の
メンテナンスが容易となる。上側弾性パッキングに形成
した吸引長孔内を真空ポンプ等により真空にし、上側弾
性パッキングの下面に上側ガラスマスク乾板を水平方向
に密着支持させる。こうして、上側ガラスマスク乾板の
裏面にレジスト膜を形成した基板または薄膜を相対的に
位置合わせさせて固定させ、露光を行う。
うちガラスマスク乾板を使用する場合の保持装置につい
て説明する。上下動可能な金属製の上側フレ−ムの下面
に形成した溝または突条に、吸引長孔を形成した上側弾
性パッキングを装着する。上側弾性パッキングが磁性を
帯びたゴムまたは樹脂で形成されている場合は、その磁
石の吸引力を利用して簡単に装着され、補修、交換等の
メンテナンスが容易となる。上側弾性パッキングに形成
した吸引長孔内を真空ポンプ等により真空にし、上側弾
性パッキングの下面に上側ガラスマスク乾板を水平方向
に密着支持させる。こうして、上側ガラスマスク乾板の
裏面にレジスト膜を形成した基板または薄膜を相対的に
位置合わせさせて固定させ、露光を行う。
【００１２】また、両面露光装置におけるマスク保持装
置のうちガラスマスク乾板を使用する場合の保持装置に
ついて説明する。上下動可能な金属製の上側フレ−ムの
下面に形成した溝または突条に、吸引長孔を形成した上
側弾性パッキングを装着する。上側弾性パッキングが磁
性を帯びたゴムまたは樹脂で形成されている場合は、そ
の磁石の吸引力を利用して簡単に装着される。上側弾性
パッキングに形成した吸引長孔内を真空ポンプ等により
真空にし、上側弾性パッキングの下面に上側ガラスマス
ク乾板を水平方向に密着支持させる。一方、金属製の下
側フレ−ムに形成した溝または突条には、吸引長孔を形
成した下側弾性パッキングが装着される。下側弾性パッ
キングが磁性を帯びたゴムまたは樹脂で形成されている
場合は、その磁石の吸引力を利用して簡単かつ確実に装
着される。下側弾性パッキングに形成した吸引長孔内を
真空ポンプ等により真空にし、下側弾性パッキングの上
面に透明材で形成した下側ガラスマスク乾板を水平方向
に密着支持させる。こうして、上側ガラスマスク乾板と
下側ガラスマスク乾板との間にレジスト膜を形成した基
板または薄膜を相対的に位置合わせして挟持して基板ま
たは薄膜の表裏面を露光し、所望するパタ−ンを得る。
置のうちガラスマスク乾板を使用する場合の保持装置に
ついて説明する。上下動可能な金属製の上側フレ−ムの
下面に形成した溝または突条に、吸引長孔を形成した上
側弾性パッキングを装着する。上側弾性パッキングが磁
性を帯びたゴムまたは樹脂で形成されている場合は、そ
の磁石の吸引力を利用して簡単に装着される。上側弾性
パッキングに形成した吸引長孔内を真空ポンプ等により
真空にし、上側弾性パッキングの下面に上側ガラスマス
ク乾板を水平方向に密着支持させる。一方、金属製の下
側フレ−ムに形成した溝または突条には、吸引長孔を形
成した下側弾性パッキングが装着される。下側弾性パッ
キングが磁性を帯びたゴムまたは樹脂で形成されている
場合は、その磁石の吸引力を利用して簡単かつ確実に装
着される。下側弾性パッキングに形成した吸引長孔内を
真空ポンプ等により真空にし、下側弾性パッキングの上
面に透明材で形成した下側ガラスマスク乾板を水平方向
に密着支持させる。こうして、上側ガラスマスク乾板と
下側ガラスマスク乾板との間にレジスト膜を形成した基
板または薄膜を相対的に位置合わせして挟持して基板ま
たは薄膜の表裏面を露光し、所望するパタ−ンを得る。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基いて説明
する。図１は本発明に係る両面露光装置ＢＥの概略図で
、上マスク保持部ＵＰと下マスク保持部ＬＯを備えてい
る。図２は本発明に係る露光装置におけるマスク保持装
置の斜視図である。１は上下動可能な金属製の上側フレ
−ムで、平面矩形状をしており、その下面周囲から内側
に水平に張出す帯状の張出し片１ａを形成する。また、
張出し片１ａの所定箇所には後記する弾性磁石パッキン
グ２に穿設した上側吸引穴３と下側吸引穴４と対応する
位置に、それぞれ穴１ｂ、１ｃをあけ、真空ポンプ（図
示せず）に接続するようにしている。弾性磁石パッキン
グ２は上側フレ−ム１の張出し片１ａと対応する形状を
した板状に形成されており、その張出し片１ａの下面に
磁石を利用して吸引固定される。また、弾性磁石パッキ
ング２は磁性を帯びたゴムまたは樹脂材で形成される。 ５は露光装置（図示せず）本体に、水平方向に支持部材
（図示せず）を介して挿脱自在に取付けた透明材で形成
した平板ホルダ−で、弾性磁石パッキング２の下方に位
置している。この平板ホルダ−５は支持部材（図示せず
）上で上下方向に若干変動できるように支持されている
。透明材で形成した平板ホルダ−５はガラス板またはプ
ラスチック板で形成されている。
する。図１は本発明に係る両面露光装置ＢＥの概略図で
、上マスク保持部ＵＰと下マスク保持部ＬＯを備えてい
る。図２は本発明に係る露光装置におけるマスク保持装
置の斜視図である。１は上下動可能な金属製の上側フレ
−ムで、平面矩形状をしており、その下面周囲から内側
に水平に張出す帯状の張出し片１ａを形成する。また、
張出し片１ａの所定箇所には後記する弾性磁石パッキン
グ２に穿設した上側吸引穴３と下側吸引穴４と対応する
位置に、それぞれ穴１ｂ、１ｃをあけ、真空ポンプ（図
示せず）に接続するようにしている。弾性磁石パッキン
グ２は上側フレ−ム１の張出し片１ａと対応する形状を
した板状に形成されており、その張出し片１ａの下面に
磁石を利用して吸引固定される。また、弾性磁石パッキ
ング２は磁性を帯びたゴムまたは樹脂材で形成される。 ５は露光装置（図示せず）本体に、水平方向に支持部材
（図示せず）を介して挿脱自在に取付けた透明材で形成
した平板ホルダ−で、弾性磁石パッキング２の下方に位
置している。この平板ホルダ−５は支持部材（図示せず
）上で上下方向に若干変動できるように支持されている
。透明材で形成した平板ホルダ−５はガラス板またはプ
ラスチック板で形成されている。
【００１４】平板ホルダ−５の上面周縁には、前記上側
吸引穴３と連通する上側吸引溝６を形成する。そして弾
性磁石パッキング２で覆われた該上側吸引溝６内を真空
ポンプ（図示せず）を介して真空状態にすることにより
平板ホルダ−５を上側フレ−ム１の張出し片１ａに弾性
磁石パッキング２を介して水平方向に密着支持する。ま
た、平板ホルダ−５の下面周縁には、前記下側吸引穴４
と連通する下側吸引溝７を形成する。そして、平板ホル
ダ−５の下面に、下側吸引溝７内を真空ポンプ（図示せ
ず）を介して真空状態にすることにより所望するパタ−
ンフイルム８またはパタ−ンガラス乾板（このパタ−ン
ガラス乾板の場合は平板ホルダ−５の板厚よりも薄いも
のを採用するのが好適である）を密着させる。こうして
、平板ホルダ−５の張出し片１ａの下面にパタ−ンフイ
ルム８またはパタ−ンガラス乾板を密着させた後、該パ
タ−ンフイルム８またはパタ−ンガラス乾板の裏面にレ
ジスト膜９ａ（写真感光材料を使用する場合も含む）を
形成した基板９または薄膜を相対的に位置合わせさせて
固定させ、露光を行う。
吸引穴３と連通する上側吸引溝６を形成する。そして弾
性磁石パッキング２で覆われた該上側吸引溝６内を真空
ポンプ（図示せず）を介して真空状態にすることにより
平板ホルダ−５を上側フレ−ム１の張出し片１ａに弾性
磁石パッキング２を介して水平方向に密着支持する。ま
た、平板ホルダ−５の下面周縁には、前記下側吸引穴４
と連通する下側吸引溝７を形成する。そして、平板ホル
ダ−５の下面に、下側吸引溝７内を真空ポンプ（図示せ
ず）を介して真空状態にすることにより所望するパタ−
ンフイルム８またはパタ−ンガラス乾板（このパタ−ン
ガラス乾板の場合は平板ホルダ−５の板厚よりも薄いも
のを採用するのが好適である）を密着させる。こうして
、平板ホルダ−５の張出し片１ａの下面にパタ−ンフイ
ルム８またはパタ−ンガラス乾板を密着させた後、該パ
タ−ンフイルム８またはパタ−ンガラス乾板の裏面にレ
ジスト膜９ａ（写真感光材料を使用する場合も含む）を
形成した基板９または薄膜を相対的に位置合わせさせて
固定させ、露光を行う。
【００１５】図３は両面露光装置におけるマスク保持装
置のうちパタ−ンフイルムまたはパタ−ンガラス乾板を
使用する場合の保持装置を示す斜視図である。上側のマ
スク保持装置は図２に示した実施例と同様の構造であり
、張出し片１ａを備えた上側フレ−ム１、上側吸引穴３
および下側吸引穴４を備えた弾性磁石パッキング２、上
側吸引溝６および下側吸引溝７を備えた上側の平板ホル
ダ−５、およびパタ−ンフイルムまたはパタ−ンガラス
乾板８を備えている点は同様である。下側のマスク保持
装置は基本的に上側のマスク保持装置と構造が同じであ
り、上下方向に対称構造となっている。すなわち、金属
製の下側フレ−ム１１は、平面矩形状をしており、その
上面周囲から内側に水平に張出す帯状の張出し片１１ａ
を形成する。また、張出し片１１ａの所定箇所には下側
の弾性磁石パッキング２に穿設した上側吸引穴３と下側
吸引穴４と対応する位置に、それぞれ穴１１ｂ、１１ｃ
をあけ、真空ポンプ（図示せず）に接続するようにして
いる。下側の弾性磁石パッキング２は下側フレ−ム１１
の張出し片１１ａと対応する形状をした板状に形成され
ており、その張出し片１１ａの上面に磁石を利用して吸
引固定される。
置のうちパタ−ンフイルムまたはパタ−ンガラス乾板を
使用する場合の保持装置を示す斜視図である。上側のマ
スク保持装置は図２に示した実施例と同様の構造であり
、張出し片１ａを備えた上側フレ−ム１、上側吸引穴３
および下側吸引穴４を備えた弾性磁石パッキング２、上
側吸引溝６および下側吸引溝７を備えた上側の平板ホル
ダ−５、およびパタ−ンフイルムまたはパタ−ンガラス
乾板８を備えている点は同様である。下側のマスク保持
装置は基本的に上側のマスク保持装置と構造が同じであ
り、上下方向に対称構造となっている。すなわち、金属
製の下側フレ−ム１１は、平面矩形状をしており、その
上面周囲から内側に水平に張出す帯状の張出し片１１ａ
を形成する。また、張出し片１１ａの所定箇所には下側
の弾性磁石パッキング２に穿設した上側吸引穴３と下側
吸引穴４と対応する位置に、それぞれ穴１１ｂ、１１ｃ
をあけ、真空ポンプ（図示せず）に接続するようにして
いる。下側の弾性磁石パッキング２は下側フレ−ム１１
の張出し片１１ａと対応する形状をした板状に形成され
ており、その張出し片１１ａの上面に磁石を利用して吸
引固定される。
【００１６】下側の平板ホルダ−５の下面周縁には、前
記下側吸引穴４と連通する下側吸引溝７を形成する。そ
して下側吸引溝７内を真空ポンプ（図示せず）を介して
真空状態にすることにより下側の平板ホルダ−５を下側
フレ−ム１１の張出し片１１ａに弾性磁石パッキング２
を介して水平方向に密着支持する。また、下側の平板ホ
ルダ−５の上面周縁には、前記上側吸引穴３と連通する
上側吸引溝６を形成する。そして、下側の平板ホルダ−
５の上面に、上側吸引溝６内を真空ポンプ（図示せず）
を介して真空状態にすることにより所望する上側のパタ
−ンフイルム８またはパタ−ンガラス乾板を密着させる
。こうして、下側の平板ホルダ−５の張出し片１１ａの
上面に下側のパタ−ンフイルム８またはパタ−ンガラス
乾板を密着させた後、上側のパタ−ンフイルム８または
パタ−ンガラス乾板と下側のパタ−ンフイルム８または
パタ−ンガラス乾板との間に、表裏面にレジスト膜９ａ
を形成した基板９または薄膜を相対的に位置合わせさせ
て挟持させた状態で固定させ、露光を行う。
記下側吸引穴４と連通する下側吸引溝７を形成する。そ
して下側吸引溝７内を真空ポンプ（図示せず）を介して
真空状態にすることにより下側の平板ホルダ−５を下側
フレ−ム１１の張出し片１１ａに弾性磁石パッキング２
を介して水平方向に密着支持する。また、下側の平板ホ
ルダ−５の上面周縁には、前記上側吸引穴３と連通する
上側吸引溝６を形成する。そして、下側の平板ホルダ−
５の上面に、上側吸引溝６内を真空ポンプ（図示せず）
を介して真空状態にすることにより所望する上側のパタ
−ンフイルム８またはパタ−ンガラス乾板を密着させる
。こうして、下側の平板ホルダ−５の張出し片１１ａの
上面に下側のパタ−ンフイルム８またはパタ−ンガラス
乾板を密着させた後、上側のパタ−ンフイルム８または
パタ−ンガラス乾板と下側のパタ−ンフイルム８または
パタ−ンガラス乾板との間に、表裏面にレジスト膜９ａ
を形成した基板９または薄膜を相対的に位置合わせさせ
て挟持させた状態で固定させ、露光を行う。
【００１７】図４は露光装置におけるマスク保持装置の
うちガラスマスク乾板を使用する場合の保持装置を示す
斜視図である。上下動可能な金属製の上側フレ−ム１２
は平面矩形状をしており、その下面周囲から内側に水平
に張出す帯状の張出し片１２ａを形成する。この張出し
片１２ａの下面に沿って溝または突条１３を形成する。 この溝または突条１３に、吸引長孔１５を形成した上側
弾性パッキング１４を装着する。上側弾性パッキング１
４を磁性を帯びたゴムまたは樹脂で形成した板状パッキ
ングとすることにより、接着剤等で固定する必要がなく
、交換作業等が容易となる。上側弾性パッキング１４に
はその中央部にエア−経路となってエア−を真空除去す
るための空間となる吸引長孔１５が形成されている。 この吸引長孔１５は真空ポンプ（図示せず）と接続する
。１６は上側弾性パッキング１４の下方に位置する上側
ガラスマスク乾板である。この上側ガラスマスク乾板１
６は吸引長孔１５内の真空により上側ガラスマスク乾板
１６を水平方向に密着支持することができる。こうして
、上側ガラスマスク乾板１６とレジスト膜９ａを形成し
た基板９または薄膜を相対的に位置合わせした後、露光
し、所望するパタ−ンを得る。
うちガラスマスク乾板を使用する場合の保持装置を示す
斜視図である。上下動可能な金属製の上側フレ−ム１２
は平面矩形状をしており、その下面周囲から内側に水平
に張出す帯状の張出し片１２ａを形成する。この張出し
片１２ａの下面に沿って溝または突条１３を形成する。 この溝または突条１３に、吸引長孔１５を形成した上側
弾性パッキング１４を装着する。上側弾性パッキング１
４を磁性を帯びたゴムまたは樹脂で形成した板状パッキ
ングとすることにより、接着剤等で固定する必要がなく
、交換作業等が容易となる。上側弾性パッキング１４に
はその中央部にエア−経路となってエア−を真空除去す
るための空間となる吸引長孔１５が形成されている。 この吸引長孔１５は真空ポンプ（図示せず）と接続する
。１６は上側弾性パッキング１４の下方に位置する上側
ガラスマスク乾板である。この上側ガラスマスク乾板１
６は吸引長孔１５内の真空により上側ガラスマスク乾板
１６を水平方向に密着支持することができる。こうして
、上側ガラスマスク乾板１６とレジスト膜９ａを形成し
た基板９または薄膜を相対的に位置合わせした後、露光
し、所望するパタ−ンを得る。
【００１８】図５は両面露光装置におけるマスク保持装
置のうちガラスマスク乾板を使用する場合の保持装置を
示す斜視図である。上下動可能な金属製の上側フレ−ム
１２は平面矩形状をしており、その下面周囲から内側に
水平に張出す帯状の張出し片１２ａを形成する。この張
出し片１２ａの下面に沿って溝または突条１３を形成す
る。この溝または突条１３に吸引長孔１５を形成した上
側弾性パッキング１４を装着する。上側弾性パッキング
１４を磁性を帯びたゴムまたは樹脂で形成した板状パッ
キングとすることにより、接着剤等で固定する必要がな
く、交換作業等が容易となる。上側弾性パッキング１４
にはその中央部にエア−経路となってエア−を真空除去
するための空間となる吸引長孔１５が形成されている。 この吸引長孔１５は真空ポンプ（図示せず）と接続する
。１６は上側弾性パッキング１４の下方に位置する上側
ガラスマスク乾板である。この上側ガラスマスク乾板１
６は吸引長孔１５内の真空により上側ガラスマスク乾板
１６を水平方向に密着支持することができる。
置のうちガラスマスク乾板を使用する場合の保持装置を
示す斜視図である。上下動可能な金属製の上側フレ−ム
１２は平面矩形状をしており、その下面周囲から内側に
水平に張出す帯状の張出し片１２ａを形成する。この張
出し片１２ａの下面に沿って溝または突条１３を形成す
る。この溝または突条１３に吸引長孔１５を形成した上
側弾性パッキング１４を装着する。上側弾性パッキング
１４を磁性を帯びたゴムまたは樹脂で形成した板状パッ
キングとすることにより、接着剤等で固定する必要がな
く、交換作業等が容易となる。上側弾性パッキング１４
にはその中央部にエア−経路となってエア−を真空除去
するための空間となる吸引長孔１５が形成されている。 この吸引長孔１５は真空ポンプ（図示せず）と接続する
。１６は上側弾性パッキング１４の下方に位置する上側
ガラスマスク乾板である。この上側ガラスマスク乾板１
６は吸引長孔１５内の真空により上側ガラスマスク乾板
１６を水平方向に密着支持することができる。
【００１９】一方、上側フレ−ム１２と同様に金属製の
下側フレ−ム１７は平面矩形状をしており、その上面周
囲から内側に水平に張出す帯状の張出し片１７ａを形成
する。この張出し片１７ａの上面に形成した溝または突
条１３に、吸引長孔１５を形成した下側弾性パッキング
１９を装着する。また、下側弾性パッキング１９の上方
には上側ガラスマスク乾板１６と同様に下側ガラスマス
ク乾板２１の下面周縁を前記下側弾性パッキング１９に
形成した吸引長孔２０内の真空により密着させる。そし
て、上側ガラスマスク乾板１６と下側ガラスマスク乾板
２１との間にレジスト膜９ａを形成した基板９または薄
膜を相対的に位置合わせして挟持する。こうして基板９
または薄膜の表裏面を露光し、所望するパタ−ンを得る
。
下側フレ−ム１７は平面矩形状をしており、その上面周
囲から内側に水平に張出す帯状の張出し片１７ａを形成
する。この張出し片１７ａの上面に形成した溝または突
条１３に、吸引長孔１５を形成した下側弾性パッキング
１９を装着する。また、下側弾性パッキング１９の上方
には上側ガラスマスク乾板１６と同様に下側ガラスマス
ク乾板２１の下面周縁を前記下側弾性パッキング１９に
形成した吸引長孔２０内の真空により密着させる。そし
て、上側ガラスマスク乾板１６と下側ガラスマスク乾板
２１との間にレジスト膜９ａを形成した基板９または薄
膜を相対的に位置合わせして挟持する。こうして基板９
または薄膜の表裏面を露光し、所望するパタ−ンを得る
。
【００２０】
【発明の効果】本発明は上記の説明から判るように、マ
スクと基板を損傷させることなく安全、確実に保持でき
る。また、透明材で形成した平板ホルダ−または透明材
で形成したマスク乾板の脱着が容易である。さらにガラ
ス板またはプラスチック板自体をマスク乾板として使用
する場合にもガラス板またはプラスチック板に穴をあけ
たり溝を形成することなく、しかもマスクに傷をつける
ことがなく簡単かつ確実にフレ−ムに保持でき基板の片
面露光または両面露光にも適用でき、この種の露光装置
におけるマスク保持装置としての利用価値が非常に高い
。
スクと基板を損傷させることなく安全、確実に保持でき
る。また、透明材で形成した平板ホルダ−または透明材
で形成したマスク乾板の脱着が容易である。さらにガラ
ス板またはプラスチック板自体をマスク乾板として使用
する場合にもガラス板またはプラスチック板に穴をあけ
たり溝を形成することなく、しかもマスクに傷をつける
ことがなく簡単かつ確実にフレ−ムに保持でき基板の片
面露光または両面露光にも適用でき、この種の露光装置
におけるマスク保持装置としての利用価値が非常に高い
。
【図１】本発明に係る両面露光装置の概略説明図である
。
。
【図２】本発明に係る露光装置におけるマスク保持装置
の斜視図である。
の斜視図である。
【図３】両面露光装置におけるマスク保持装置のうちパ
タ−ンフイルムまたはパタ−ンガラス乾板を使用する場
合の保持装置の位置関係を示す斜視図である。
タ−ンフイルムまたはパタ−ンガラス乾板を使用する場
合の保持装置の位置関係を示す斜視図である。
【図４】露光装置におけるマスク保持装置のうちガラス
マスク乾板を使用する場合の保持装置を示す斜視図であ
る。
マスク乾板を使用する場合の保持装置を示す斜視図であ
る。
【図５】両面露光装置におけるマスク保持装置のうちガ
ラスマスク乾板を使用する場合の保持装置を示す斜視図
である。
ラスマスク乾板を使用する場合の保持装置を示す斜視図
である。
１、１２ 上側フレ−ム
２ 弾性磁石パッキング
３ 上側吸引穴
４ 下側吸引穴
５ 平板ホルダ−
６ 上側吸引溝
７ 下側吸引溝
８ パタ−ンフイルムまたはパタ−ンガラス乾板９
基板 １１、１７ 下側フレ−ム １３、１８ 溝 １４ 上側弾性パッキング １５、２０ 吸引長孔 １６ 上側ガラスマスク乾板 １９ 下側弾性パッキング ２１ 下側ガラスマスク乾板 ＢＥ 露光装置 ＵＰ 上マスク保持部 ＬＯ 下マスク保持部
基板 １１、１７ 下側フレ−ム １３、１８ 溝 １４ 上側弾性パッキング １５、２０ 吸引長孔 １６ 上側ガラスマスク乾板 １９ 下側弾性パッキング ２１ 下側ガラスマスク乾板 ＢＥ 露光装置 ＵＰ 上マスク保持部 ＬＯ 下マスク保持部
Claims (10)
- 【請求項１】 レジスト膜を形成した基板または薄膜
にホトマスクを密着させ、光を照射して露光する露光装
置において、上下動可能な金属製フレ−ムの下面に弾性
磁石パッキングを吸着させ、該弾性磁石パッキングに上
側吸引穴と下側吸引穴を穿設し、弾性磁石パッキングの
下方に透明材で形成した平板ホルダ−を水平方向に挿脱
自在に取付け、該平板ホルダ−の上面周縁に前記上側吸
引穴と連通する上側吸引溝を形成して弾性磁石パッキン
グで覆われた該上側吸引溝内の真空により平板ホルダ−
を水平方向に密着支持し、平板ホルダ−の下面周縁に前
記下側吸引穴と連通する下側吸引溝を形成し、平板ホル
ダ−の下面に下側吸引溝内の真空によりパタ−ンフイル
ムまたはパタ−ンガラス乾板を密着したことを特徴とす
る露光装置におけるマスク保持装置。 - 【請求項２】 透明材で形成した平板ホルダ−はガラ
ス板またはプラスチック板で形成されていることを特徴
とする請求項１記載の露光装置におけるマスク保持装置
。 - 【請求項３】 弾性磁石パッキングは磁性を帯びたゴ
ムまたは樹脂で形成した板状パッキングであることを特
徴とする請求項１または２記載の露光装置におけるマス
ク保持装置。 - 【請求項４】 レジスト膜を形成した基板または薄膜
の両面にそれぞれホトマスクを密着させ、上下それぞれ
から光を照射して露光する両面露光装置において、上下
動可能な金属製の上側フレ−ムの下面に上側弾性磁石パ
ッキングを吸着させ、該上側弾性磁石パッキングに上側
吸引穴と下側吸引穴を穿設し、上側弾性磁石パッキング
の下方に透明材で形成した上側の平板ホルダ−を水平方
向に挿脱自在に取付け、該上側の平板ホルダ−の上面周
縁に前記上側吸引穴と連通する上側吸引溝を形成して上
側弾性磁石パッキングで覆われた該上側吸引溝内の真空
により上側の平板ホルダ−を上側弾性磁石パッキングの
下面に水平方向に密着支持し、上側の平板ホルダ−の下
面周縁に前記下側吸引穴と連通する下側吸引溝を形成し
、上側の平板ホルダ−の下面に上側吸引溝内の真空によ
り吸着される上側パタ−ンフイルムまたは上側パタ−ン
ガラス乾板を配設する一方、金属製の下側フレ−ムの上
面に下側弾性磁石パッキングを吸着させ、該下側弾性磁
石パッキングに上側吸引穴と下側吸引穴を穿設し、下側
弾性磁石パッキングの上面に透明材で形成した下側の平
板ホルダ−を載置し、該下側の平板ホルダ−の下面周縁
に前記下側吸引穴と連通する下側吸引溝を形成して下側
弾性磁石パッキングで覆われた該下側吸引溝内の真空に
より下側の平板ホルダ−を水平方向に密着支持し、下側
の平板ホルダ−の上面周縁に前記上側吸引穴と連通する
上側吸引溝を形成し、下側の平板ホルダ−の上面に上側
吸引溝内の真空により吸着される下側パタ−ンフイルム
または下側パタ−ンガラス乾板を配設したことを特徴と
する両面露光装置におけるマスク保持装置。 - 【請求項５】 透明材で形成した平板の上側の平板ホ
ルダ−および下側の平板ホルダ−はガラス板またはプラ
スチック板で形成されていることを特徴とする請求項４
記載の両面露光装置におけるマスク保持装置。 - 【請求項６】 上側弾性磁石パッキングおよび下側弾
性磁石パッキングは磁性を帯びたゴムまたは樹脂で形成
した板状パッキングであることを特徴とする請求項４ま
たは５記載の露光装置におけるマスク保持装置。 - 【請求項７】 レジスト膜を形成した基板または薄膜
にホトマスクを密着させ、光を照射して露光する露光装
置において、上下動可能な金属製の上側フレ−ムの下面
に形成した溝または突条に、吸引長孔を形成した上側弾
性パッキングを装着し、上側弾性パッキングの下面に上
側ガラスマスク乾板を該吸引長孔内の真空により水平方
向に密着支持することを特徴とする露光装置におけるマ
スク保持装置。 - 【請求項８】 上側弾性パッキングは磁性を帯びたゴ
ムまたは樹脂で形成した板状パッキングであることを特
徴とする請求項７記載の露光装置におけるマスク保持装
置。 - 【請求項９】 レジスト膜を形成した基板または薄膜
の両面にそれぞれホトマスクを密着させ、上下それぞれ
から光を照射して露光する両面露光装置において、上下
動可能な金属製の上側フレ−ムの下面に形成した溝また
は突条に、吸引長孔を形成した上側弾性パッキングを装
着し、上側弾性パッキングの下面に上側ガラスマスク乾
板を、該吸引長孔内の真空により水平方向に密着支持す
る一方、金属製の下側フレ−ムの上面に形成した溝また
は突条に、吸引長孔を形成した下側弾性パッキングを装
着し、下側弾性パッキングの上面に透明材で形成した下
側ガラスマスク乾板を水平方向に載置し、下側ガラスマ
スク乾板の下面周縁を前記下側弾性パッキングに形成し
た吸引長孔内の真空により密着させたことを特徴とする
両面露光装置におけるマスク保持装置。 - 【請求項１０】 上側弾性パッキングおよび下側弾性
パッキングは磁性を帯びたゴムまたは樹脂で形成した板
状パッキングであることを特徴とする請求項９記載の両
面露光装置におけるマスク保持装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17181591A JP2534167B2 (ja) | 1991-06-18 | 1991-06-18 | 露光装置におけるマスク保持装置 |
| EP92104581A EP0525293A1 (en) | 1991-06-18 | 1992-03-17 | Mask holder in exposure device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17181591A JP2534167B2 (ja) | 1991-06-18 | 1991-06-18 | 露光装置におけるマスク保持装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04369824A true JPH04369824A (ja) | 1992-12-22 |
| JP2534167B2 JP2534167B2 (ja) | 1996-09-11 |
Family
ID=15930249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17181591A Expired - Lifetime JP2534167B2 (ja) | 1991-06-18 | 1991-06-18 | 露光装置におけるマスク保持装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0525293A1 (ja) |
| JP (1) | JP2534167B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7304720B2 (en) | 2002-02-22 | 2007-12-04 | Asml Holding N.V. | System for using a two part cover for protecting a reticle |
| CN214354200U (zh) * | 2020-11-30 | 2021-10-08 | 深圳市创想三维科技股份有限公司 | 3d打印机屏幕固定组件及光固化3d打印机 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01139237U (ja) * | 1988-03-15 | 1989-09-22 | ||
| JPH02229422A (ja) * | 1989-03-02 | 1990-09-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 露光装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4448522A (en) * | 1982-10-22 | 1984-05-15 | Rca Corporation | Device for supporting and aligning photographic masters |
| DE3539915C1 (en) * | 1985-11-11 | 1987-06-11 | Klimsch & Co | Cassette for exposing, in particular, printed circuit boards |
| US4827316A (en) * | 1988-03-08 | 1989-05-02 | Silas Brown | Printing frame |
-
1991
- 1991-06-18 JP JP17181591A patent/JP2534167B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-03-17 EP EP92104581A patent/EP0525293A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01139237U (ja) * | 1988-03-15 | 1989-09-22 | ||
| JPH02229422A (ja) * | 1989-03-02 | 1990-09-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 露光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2534167B2 (ja) | 1996-09-11 |
| EP0525293A1 (en) | 1993-02-03 |
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