JPH04362639A - 感光材料処理装置 - Google Patents
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- Photographic Developing Apparatuses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料(以下、単に感光材料という)を湿式処理する感光
材料処理装置に関する。
材料(以下、単に感光材料という)を湿式処理する感光
材料処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】感光材料の湿式処理は、1または2以上
の処理槽内に貯溜されている処理液(現像液、定着液、
洗浄水等)中に感光材料を順次搬送して浸漬することに
より行われる。
の処理槽内に貯溜されている処理液(現像液、定着液、
洗浄水等)中に感光材料を順次搬送して浸漬することに
より行われる。
【0003】従来、このような処理を行う感光材料処理
装置では、処理槽内に貯留された処理液の蒸発や空気と
の接触による処理液の変質・劣化等を抑制するために、
処理槽に対し、その上部空間を覆うカバー部材が設置さ
れている。
装置では、処理槽内に貯留された処理液の蒸発や空気と
の接触による処理液の変質・劣化等を抑制するために、
処理槽に対し、その上部空間を覆うカバー部材が設置さ
れている。
【0004】ところで、処理液は適正な現像を行うため
に、例えば、30〜60℃程度に保持されるているため
、カバー部材で囲まれる空間の雰囲気は、外部環境(装
置の設置環境)に比べ高温・高湿となり、例えば、急激
な気温の低下により、カバー部材の内側等に結露を生じ
ることがある。このような高温・高湿の状態および結露
の発生は、感光材料処理装置の搬送系や、付属機器、周
辺機器(例えば、スキャナー、プリンター等の光学機器
、配線基板、駆動系)等の腐食の原因となり、特に、カ
バー部材で囲まれる空間の雰囲気に、処理液中から発生
した亜硫酸ガス、アンモニアガス等が含まれていると、
このような腐食が促進される。
に、例えば、30〜60℃程度に保持されるているため
、カバー部材で囲まれる空間の雰囲気は、外部環境(装
置の設置環境)に比べ高温・高湿となり、例えば、急激
な気温の低下により、カバー部材の内側等に結露を生じ
ることがある。このような高温・高湿の状態および結露
の発生は、感光材料処理装置の搬送系や、付属機器、周
辺機器(例えば、スキャナー、プリンター等の光学機器
、配線基板、駆動系)等の腐食の原因となり、特に、カ
バー部材で囲まれる空間の雰囲気に、処理液中から発生
した亜硫酸ガス、アンモニアガス等が含まれていると、
このような腐食が促進される。
【0005】また、カバー部材の内側等が結露し、凝集
水による液滴(水滴)が搬送中の感光材料表面に落下す
ると、その落下部分の乳剤層が膨潤し、または含浸した
処理液が液滴により希釈され、感光材料に処理ムラが生
じるという問題点も生じる。
水による液滴(水滴)が搬送中の感光材料表面に落下す
ると、その落下部分の乳剤層が膨潤し、または含浸した
処理液が液滴により希釈され、感光材料に処理ムラが生
じるという問題点も生じる。
【0006】従って、カバー部材にファンを設け、高温
・高湿の空気を外部に排気することが行なわれている。
・高湿の空気を外部に排気することが行なわれている。
【0007】この場合、ファンは、感光材料の処理と同
期して作動し、処理終了とともに停止するものと、感光
材料の処理、非処理にかかわらず常時作動するものとが
ある。
期して作動し、処理終了とともに停止するものと、感光
材料の処理、非処理にかかわらず常時作動するものとが
ある。
【0008】しかしながら、前者の場合、処理液の温調
との関係で、処理終了後もカバー部材の内部が高温・高
湿の状態となり、結露することがあり、ファンを設置し
た目的が十分に達成されていない。また、後者の場合、
結露防止効果には優れるが、処理液の蒸発、温度低下、
変質・劣化等が生じ、カバー部材を設けた目的に反する
こととなる。
との関係で、処理終了後もカバー部材の内部が高温・高
湿の状態となり、結露することがあり、ファンを設置し
た目的が十分に達成されていない。また、後者の場合、
結露防止効果には優れるが、処理液の蒸発、温度低下、
変質・劣化等が生じ、カバー部材を設けた目的に反する
こととなる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、カバ
ー部材の内側等に結露を生じることなく、処理液の蒸発
や変質・劣化を防止することができる感光材料処理装置
を提供することにある。
ー部材の内側等に結露を生じることなく、処理液の蒸発
や変質・劣化を防止することができる感光材料処理装置
を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)および(2)の本発明により達成される。
(1)および(2)の本発明により達成される。
【0011】(1) ハロゲン化銀写真感光材料を湿
式で処理する感光材料処理装置であって、処理液が入れ
られた少なくとも1つの処理槽と、前記ハロゲン化銀写
真感光材料を所定経路で搬送する搬送手段と、前記処理
槽の上部空間を囲むカバー部材と、前記処理槽の上部空
間にある気体を外部に排気する排気手段と、前記処理槽
の上部空間の温度および湿度を検出する第1センサと、
前記第1センサでの検出値および外部環境の条件に基い
て前記排気手段の作動・停止を制御する制御手段とを有
することを特徴とする感光材料処理装置。
式で処理する感光材料処理装置であって、処理液が入れ
られた少なくとも1つの処理槽と、前記ハロゲン化銀写
真感光材料を所定経路で搬送する搬送手段と、前記処理
槽の上部空間を囲むカバー部材と、前記処理槽の上部空
間にある気体を外部に排気する排気手段と、前記処理槽
の上部空間の温度および湿度を検出する第1センサと、
前記第1センサでの検出値および外部環境の条件に基い
て前記排気手段の作動・停止を制御する制御手段とを有
することを特徴とする感光材料処理装置。
【0012】(2) ハロゲン化銀写真感光材料を湿
式で処理する感光材料処理装置であって、処理液が入れ
られた少なくとも1つの処理槽と、前記ハロゲン化銀写
真感光材料を所定経路で搬送する搬送手段と、前記処理
槽の上部空間を囲むカバー部材と、前記処理槽の上部空
間にある気体を外部に排気する排気手段と、前記処理槽
の上部空間の温度および湿度を検出する第1センサと、
外部環境の温度および湿度を検出する第2センサと、前
記第1センサおよび第2センサでの検出値に基いて前記
排気手段の作動・停止を制御する制御手段とを有するこ
とを特徴とする感光材料処理装置。
式で処理する感光材料処理装置であって、処理液が入れ
られた少なくとも1つの処理槽と、前記ハロゲン化銀写
真感光材料を所定経路で搬送する搬送手段と、前記処理
槽の上部空間を囲むカバー部材と、前記処理槽の上部空
間にある気体を外部に排気する排気手段と、前記処理槽
の上部空間の温度および湿度を検出する第1センサと、
外部環境の温度および湿度を検出する第2センサと、前
記第1センサおよび第2センサでの検出値に基いて前記
排気手段の作動・停止を制御する制御手段とを有するこ
とを特徴とする感光材料処理装置。
【0013】
【作用】このような構成の感光材料処理装置によれば、
処理液が入った処理槽の上方に設置されたカバー部材に
より、該処理槽の上部空間を外気より隔離するため、処
理液からの水蒸気の蒸散や熱の放散が抑制され、また処
理液の酸化、劣化の原因となる外気中のO2 やCO2
の処理液への混入も抑制される。
処理液が入った処理槽の上方に設置されたカバー部材に
より、該処理槽の上部空間を外気より隔離するため、処
理液からの水蒸気の蒸散や熱の放散が抑制され、また処
理液の酸化、劣化の原因となる外気中のO2 やCO2
の処理液への混入も抑制される。
【0014】また、ファンのような排気手段により、処
理槽の上部空間にある気体を排気するため、カバー部材
の内側等での結露や感光材料処理装置の腐食が防止され
る。
理槽の上部空間にある気体を排気するため、カバー部材
の内側等での結露や感光材料処理装置の腐食が防止され
る。
【0015】この場合、第1センサにより処理槽の上部
空間の温度および湿度を検出し、この検出値と、例えば
、第2センサにより検出された外部環境の条件とに基い
て、前記排気手段の作動・停止を制御するため、処理液
の蒸発や劣化を最小限に抑えつつ、前記結露や腐食を防
止することができる。
空間の温度および湿度を検出し、この検出値と、例えば
、第2センサにより検出された外部環境の条件とに基い
て、前記排気手段の作動・停止を制御するため、処理液
の蒸発や劣化を最小限に抑えつつ、前記結露や腐食を防
止することができる。
【0016】
【実施例】以下、本発明の感光材料処理装置を、添付図
面に示す好適実施例について詳細に説明する。
面に示す好適実施例について詳細に説明する。
【0017】図1は、本発明の感光材料処理装置の構成
例を示す断面側面図、図2は、図1に示す感光材料処理
装置1における各処理槽の上部付近の構成を拡大して示
す断面側面図である。
例を示す断面側面図、図2は、図1に示す感光材料処理
装置1における各処理槽の上部付近の構成を拡大して示
す断面側面図である。
【0018】これらの図に示す感光材料処理装置1は、
例えばシート状の感光材料をローラにより搬送するロー
ラ搬送型の自動現像機である。以下、この感光材料処理
装置1の主要部分の構成について説明する。
例えばシート状の感光材料をローラにより搬送するロー
ラ搬送型の自動現像機である。以下、この感光材料処理
装置1の主要部分の構成について説明する。
【0019】なお、本発明において、処理対象たる感光
材料の種類、形態等は特に限定されないが、例えばX−
レイ感光材料や印刷用感光材料のような黒白用感光材料
の処理に適用するのが好ましく、そのため、図示の装置
は、黒白感光材料を処理するためのものとなっている。
材料の種類、形態等は特に限定されないが、例えばX−
レイ感光材料や印刷用感光材料のような黒白用感光材料
の処理に適用するのが好ましく、そのため、図示の装置
は、黒白感光材料を処理するためのものとなっている。
【0020】図1に示すように、感光材料処理装置1は
、本体ケース1Cを有し、この本体ケース1Cには、感
光材料Sの挿入口100が形成されている。
、本体ケース1Cを有し、この本体ケース1Cには、感
光材料Sの挿入口100が形成されている。
【0021】本体ケース1C内には、現像液、定着液お
よび水洗水がそれぞれ入れられる現像槽2、定着槽3お
よび水洗槽4が、図1中右側からこの順に並設されてい
る。
よび水洗水がそれぞれ入れられる現像槽2、定着槽3お
よび水洗槽4が、図1中右側からこの順に並設されてい
る。
【0022】現像槽2内には、感光材料Sを槽内の所定
の経路で搬送する搬送ローラ5が配置されている。また
、定着槽3および水洗槽4においても、それぞれ同様の
搬送ローラ5が配置されている。
の経路で搬送する搬送ローラ5が配置されている。また
、定着槽3および水洗槽4においても、それぞれ同様の
搬送ローラ5が配置されている。
【0023】各処理槽2〜4の境界部および水洗槽4と
後述するスクイズ部8との間には、それぞれ、感光材料
Sを次工程へ移送するためのクロスオーバーローラ6が
設置されている。
後述するスクイズ部8との間には、それぞれ、感光材料
Sを次工程へ移送するためのクロスオーバーローラ6が
設置されている。
【0024】また、各処理槽2〜4の底部付近等の搬送
ローラ5間および各処理槽2〜4間のクロスオーバーロ
ーラ6の両側部には、感光材料Sを次のローラへ導くガ
イド7が設置されている。
ローラ5間および各処理槽2〜4間のクロスオーバーロ
ーラ6の両側部には、感光材料Sを次のローラへ導くガ
イド7が設置されている。
【0025】なお、搬送ローラ5およびガイド7は、各
処理槽毎にラックに組み立てられた状態で装填されてい
るのが好ましい。
処理槽毎にラックに組み立てられた状態で装填されてい
るのが好ましい。
【0026】各搬送ローラ5およびクロスオーバーロー
ラ6は、モータのような駆動源、シャフト、ギア、チェ
ーン等の駆動力伝達機構等で構成される駆動系(図示せ
ず)により、所定の方向に駆動回転する。
ラ6は、モータのような駆動源、シャフト、ギア、チェ
ーン等の駆動力伝達機構等で構成される駆動系(図示せ
ず)により、所定の方向に駆動回転する。
【0027】このような搬送ローラ5、クロスオーバー
ローラ6およびその駆動系ならびにガイド7により、感
光材料Sの搬送手段が構成される。
ローラ6およびその駆動系ならびにガイド7により、感
光材料Sの搬送手段が構成される。
【0028】図2に示すように、各処理槽2〜4内には
、それぞれ現像液20、定着液30および水洗水40が
入れられ、これらの処理液20〜40は、図示しないヒ
ータ等により、それぞれ後述するような温度に温調され
ている。
、それぞれ現像液20、定着液30および水洗水40が
入れられ、これらの処理液20〜40は、図示しないヒ
ータ等により、それぞれ後述するような温度に温調され
ている。
【0029】挿入口100から本体ケース1C内に導入
された感光材料Sは、上記各搬送ローラ5およびクロス
オーバーローラ6の回転により現像槽2、定着槽3およ
び水洗槽4内を順次搬送され、その間に各処理液20〜
40に浸漬されて現像、定着および水洗の処理がなされ
る。
された感光材料Sは、上記各搬送ローラ5およびクロス
オーバーローラ6の回転により現像槽2、定着槽3およ
び水洗槽4内を順次搬送され、その間に各処理液20〜
40に浸漬されて現像、定着および水洗の処理がなされ
る。
【0030】各処理槽2〜4の上部には、各処理槽2〜
4の上部空間12を囲むカバー部材13が、好ましくは
各処理槽2〜4に対し着脱自在に設置されている。これ
により、処理液20〜40の蒸散や外気との接触による
変質、劣化が抑制される。
4の上部空間12を囲むカバー部材13が、好ましくは
各処理槽2〜4に対し着脱自在に設置されている。これ
により、処理液20〜40の蒸散や外気との接触による
変質、劣化が抑制される。
【0031】このカバー部材13には、感光材料Sが通
過するためのスリット状の開口14および15が形成さ
れている。
過するためのスリット状の開口14および15が形成さ
れている。
【0032】また、カバー部材13の上部には、上部空
間12と本体ケース1Cの外部とを連通するダクト16
が接続され、このダクト16内には、排気手段である排
気ファン17が設置されている。
間12と本体ケース1Cの外部とを連通するダクト16
が接続され、このダクト16内には、排気手段である排
気ファン17が設置されている。
【0033】排気ファン17の種類、形態は特に限定さ
れず、例えば、プロペラ式ファン、、ターボファン、シ
ロッコファン等が好適に使用される。
れず、例えば、プロペラ式ファン、、ターボファン、シ
ロッコファン等が好適に使用される。
【0034】排気ファン17の排気量(空気交換率)は
特に限定されないが、上部空間12の体積をV(m3)
としたとき、排気ファン17による排気量を、0.1〜
2V(m3)/min 程度とするのが好ましい。
特に限定されないが、上部空間12の体積をV(m3)
としたとき、排気ファン17による排気量を、0.1〜
2V(m3)/min 程度とするのが好ましい。
【0035】なお、排気ファン17の作動については、
後に詳述する。
後に詳述する。
【0036】各処理槽2〜4では、その処理槽に応じた
処理液の補充、排液が行われるのが好ましい。この場合
、現像槽2へは、完成された現像液補充液を補充しても
よいが、濃縮現像液(または複数種のパーツ剤)と、こ
れを希釈して所望濃度の補充液とする水とを、例えばス
タティックミキサーにより混合して、またはそれぞれ別
個に補充することもできる。また、定着槽3への補充に
ついても同様に、濃縮定着液と希釈水とで補充すること
ができる。
処理液の補充、排液が行われるのが好ましい。この場合
、現像槽2へは、完成された現像液補充液を補充しても
よいが、濃縮現像液(または複数種のパーツ剤)と、こ
れを希釈して所望濃度の補充液とする水とを、例えばス
タティックミキサーにより混合して、またはそれぞれ別
個に補充することもできる。また、定着槽3への補充に
ついても同様に、濃縮定着液と希釈水とで補充すること
ができる。
【0037】なお、本発明では、現像液等の処理液の蒸
発や劣化が抑制されるので、これらの補充液の補充量を
より低減することができる。
発や劣化が抑制されるので、これらの補充液の補充量を
より低減することができる。
【0038】また、現像槽2および定着槽3においては
、処理液の循環を行ない、槽内の処理液の攪拌を行なう
のが好ましい。このような処理液の循環は、それぞれ循
環ポンプ10および11により行われる。
、処理液の循環を行ない、槽内の処理液の攪拌を行なう
のが好ましい。このような処理液の循環は、それぞれ循
環ポンプ10および11により行われる。
【0039】水洗槽4への水洗水の供給および前記濃縮
液希釈用の水の供給は、水を貯留したストックタンク1
8よりなされるのが好ましい。このストックタンク18
への水の供給は、水源(水道蛇口)187からの管18
5を通じてなされ、その流量は、バルブ186により調
整される。
液希釈用の水の供給は、水を貯留したストックタンク1
8よりなされるのが好ましい。このストックタンク18
への水の供給は、水源(水道蛇口)187からの管18
5を通じてなされ、その流量は、バルブ186により調
整される。
【0040】水洗槽4の図1中左上方には、スクイズ部
8が設けられている。このスクイズ部8には、複数対の
スクイズローラ81が感光材料Sの搬送経路に沿って設
置され、これらのスクイズローラ81で水洗後の感光材
料Sを挟持、搬送することにより、感光材料Sから水分
を拭いとる。
8が設けられている。このスクイズ部8には、複数対の
スクイズローラ81が感光材料Sの搬送経路に沿って設
置され、これらのスクイズローラ81で水洗後の感光材
料Sを挟持、搬送することにより、感光材料Sから水分
を拭いとる。
【0041】スクイズ部8の図1中下方には、乾燥部9
が設けられている。この乾燥部9は、ケーシング91と
、このケーシング91内に乾燥用の温風を供給する温風
供給手段94とを有し、ケーシング91の内部には、搬
送ローラ92およびガイド93が感光材料Sの搬送経路
に沿って設置されている。
が設けられている。この乾燥部9は、ケーシング91と
、このケーシング91内に乾燥用の温風を供給する温風
供給手段94とを有し、ケーシング91の内部には、搬
送ローラ92およびガイド93が感光材料Sの搬送経路
に沿って設置されている。
【0042】また、温風供給手段94は送風ファン95
およびヒータ96を内蔵し、ケーシング91に連通する
ダクト97を通じて、好ましくは35〜100℃程度(
より好ましくは、40〜80℃程度)に加熱された温風
をケーシング91内へ供給する。ケーシング91内では
、スクイズ部8を経た感光材料Sが搬送ローラ92によ
り搬送され、供給される温風と接触して乾燥がなされる
。
およびヒータ96を内蔵し、ケーシング91に連通する
ダクト97を通じて、好ましくは35〜100℃程度(
より好ましくは、40〜80℃程度)に加熱された温風
をケーシング91内へ供給する。ケーシング91内では
、スクイズ部8を経た感光材料Sが搬送ローラ92によ
り搬送され、供給される温風と接触して乾燥がなされる
。
【0043】このような感光材料処理装置1において、
現像時間、定着時間、水洗時間、スクイズ時間および乾
燥時間、ならびに現像温度、定着温度、水洗温度および
乾燥温度は、以下のような値とするのが好ましい。
現像時間、定着時間、水洗時間、スクイズ時間および乾
燥時間、ならびに現像温度、定着温度、水洗温度および
乾燥温度は、以下のような値とするのが好ましい。
【0044】なお、「現像時間」とは、処理する感光材
料Sの先端が、現像液に浸漬してから次の定着液に浸漬
するまでの時間、「定着時間」とは、感光材料Sの先端
が定着液に浸漬してから次の水洗水に浸漬するまでの時
間、「水洗時間」とは、感光材料Sが水洗水に浸漬して
いる時間をいい、また、「スクイズ時間」とは、感光材
料Sがスクイズ部8に入っている時間、「乾燥時間」と
は、感光材料Sが乾燥部9に入っている時間をいう。
料Sの先端が、現像液に浸漬してから次の定着液に浸漬
するまでの時間、「定着時間」とは、感光材料Sの先端
が定着液に浸漬してから次の水洗水に浸漬するまでの時
間、「水洗時間」とは、感光材料Sが水洗水に浸漬して
いる時間をいい、また、「スクイズ時間」とは、感光材
料Sがスクイズ部8に入っている時間、「乾燥時間」と
は、感光材料Sが乾燥部9に入っている時間をいう。
【0045】現像時間は、5秒〜3分、特に8秒〜2分
が好ましく、現像温度は、18℃〜50℃、特に20℃
〜40℃が好ましい。
が好ましく、現像温度は、18℃〜50℃、特に20℃
〜40℃が好ましい。
【0046】定着時間は、5秒〜3分、特に6秒〜2分
が好ましく、定着温度は、18℃〜50℃、特に20℃
〜40℃が好ましい。
が好ましく、定着温度は、18℃〜50℃、特に20℃
〜40℃が好ましい。
【0047】水洗時間は、6秒〜3分、特に6秒〜2分
が好ましく、水洗温度は、0℃〜50℃、特に10℃〜
40℃が好ましい。
が好ましく、水洗温度は、0℃〜50℃、特に10℃〜
40℃が好ましい。
【0048】スクイズ時間は、1秒〜1分、特に2〜1
0秒が好ましい。
0秒が好ましい。
【0049】乾燥時間は、5秒〜3分、特に6秒〜2分
が好ましく、乾燥温度は、35℃〜100℃、特に40
℃〜80℃が好ましい。
が好ましく、乾燥温度は、35℃〜100℃、特に40
℃〜80℃が好ましい。
【0050】また、感光材料処理装置1において、現像
開始から乾燥終了までの時間(Dryto dry)は
特に限定されず、通常、30〜300秒程度とされるが
、迅速処理を行なう場合には、100秒以下、特に60
秒以下とするのが好ましい。
開始から乾燥終了までの時間(Dryto dry)は
特に限定されず、通常、30〜300秒程度とされるが
、迅速処理を行なう場合には、100秒以下、特に60
秒以下とするのが好ましい。
【0051】図2に示すように、各処理槽2〜4の上部
空間12には、その雰囲気の温度および湿度を検出する
第1センサ23が設置されている。また、本体ケース1
Cの外部には、外気の温度および湿度を検出する第2セ
ンサ24が設置されている。
空間12には、その雰囲気の温度および湿度を検出する
第1センサ23が設置されている。また、本体ケース1
Cの外部には、外気の温度および湿度を検出する第2セ
ンサ24が設置されている。
【0052】この第1センサ23および第2センサ24
としては、例えば、テストターム(株)社製のマルチ環
境計測器(エアプロ・FC−452)を用いることがで
きる。
としては、例えば、テストターム(株)社製のマルチ環
境計測器(エアプロ・FC−452)を用いることがで
きる。
【0053】また、感光材料処理装置1は、例えば、マ
イクロコンピュータよりなる制御手段19を有し、この
制御手段19は、第1センサ23および第2センサ24
と、それぞれライン20および21にて接続されている
。
イクロコンピュータよりなる制御手段19を有し、この
制御手段19は、第1センサ23および第2センサ24
と、それぞれライン20および21にて接続されている
。
【0054】また、制御手段19は、排気ファン17の
電源170とライン22にて接続されている。
電源170とライン22にて接続されている。
【0055】次に、排気ファン17の作動・停止の制御
方法について説明する。
方法について説明する。
【0056】第1センサ23により、上部空間12の温
度および湿度を随時検出し、この検出値をライン20を
介して制御手段19に入力する。また、第2センサ24
により、感光材料処理装置1の外部環境の温度および湿
度を随時検出し、この検出値をライン21を介して制御
手段19に入力する。
度および湿度を随時検出し、この検出値をライン20を
介して制御手段19に入力する。また、第2センサ24
により、感光材料処理装置1の外部環境の温度および湿
度を随時検出し、この検出値をライン21を介して制御
手段19に入力する。
【0057】制御手段19においては、両センサ23、
24からの検出値に基いて、カバー部材13内に結露が
生じるか否かを判断する。例えば、上部空間12の雰囲
気が露点に到達または接近した場合には、制御手段19
は、ライン20を介して電源170をONとする信号を
出力し、排気ファン17を作動する。これにより、上部
空間12にある高湿の気体は、ダクト16を通って感光
材料処理装置1の外部に排出される。また、この排気に
伴って、例えば、開口14、15等から上部空間12内
に外気が導入され、上部空間12の湿度は低下する。
24からの検出値に基いて、カバー部材13内に結露が
生じるか否かを判断する。例えば、上部空間12の雰囲
気が露点に到達または接近した場合には、制御手段19
は、ライン20を介して電源170をONとする信号を
出力し、排気ファン17を作動する。これにより、上部
空間12にある高湿の気体は、ダクト16を通って感光
材料処理装置1の外部に排出される。また、この排気に
伴って、例えば、開口14、15等から上部空間12内
に外気が導入され、上部空間12の湿度は低下する。
【0058】このような排気ファン17の作動により、
上部空間12の雰囲気の相対湿度が下がるので、制御手
段19は、その旨を判断し、ライン20を介して電源1
70をOFFとする信号を出力し、排気ファン17の作
動を停止する。例えば、上部空間12の相対湿度が80
%RH以下となったら、排気ファン17の作動を停止す
る。
上部空間12の雰囲気の相対湿度が下がるので、制御手
段19は、その旨を判断し、ライン20を介して電源1
70をOFFとする信号を出力し、排気ファン17の作
動を停止する。例えば、上部空間12の相対湿度が80
%RH以下となったら、排気ファン17の作動を停止す
る。
【0059】なお、排気ファン17の停止は、上記方法
に限られず、例えば、制御手段19に内蔵されたタイマ
ーにより、予め設定された時間排気ファン17を作動す
るような構成としてもよい。
に限られず、例えば、制御手段19に内蔵されたタイマ
ーにより、予め設定された時間排気ファン17を作動す
るような構成としてもよい。
【0060】以上のような制御を継続して行なうことに
より、上部空間12の雰囲気の相対湿度を一定の範囲(
好ましくは、60〜95%RH程度、より好ましくは、
70〜85%RH程度)内に保つことができ、よって、
処理液20〜40の蒸発や劣化を最小限に抑えつつ、カ
バー部材13の内面、排気ファン17または装置1の付
属機器、周辺機器等への結露や腐食を防止することがで
きる。
より、上部空間12の雰囲気の相対湿度を一定の範囲(
好ましくは、60〜95%RH程度、より好ましくは、
70〜85%RH程度)内に保つことができ、よって、
処理液20〜40の蒸発や劣化を最小限に抑えつつ、カ
バー部材13の内面、排気ファン17または装置1の付
属機器、周辺機器等への結露や腐食を防止することがで
きる。
【0061】特に、上部空間12の雰囲気に処理液中か
ら発生した亜硫酸ガス、硫化水素ガス、アンモニアガス
等が含まれていると、付属機器、周辺機器の腐食が促進
されるが、このようなガスを排気し、その濃度を低くす
ることにより、腐食を有効に防止することができる。従
って、上部空間12に、このようなガスの濃度を検出す
るガスセンサ(図示せず)を設け、このガスセンサの検
出値に基いて排気ファン17のON・OFF制御を行な
うような構成としてもよい。
ら発生した亜硫酸ガス、硫化水素ガス、アンモニアガス
等が含まれていると、付属機器、周辺機器の腐食が促進
されるが、このようなガスを排気し、その濃度を低くす
ることにより、腐食を有効に防止することができる。従
って、上部空間12に、このようなガスの濃度を検出す
るガスセンサ(図示せず)を設け、このガスセンサの検
出値に基いて排気ファン17のON・OFF制御を行な
うような構成としてもよい。
【0062】また、図示されていないが、ダクト16の
途中に、このようなガスの分子を吸着する吸着手段(例
えば、活性炭、高分子フィルター等)を設置してもよい
。この場合には、装置1の設置環境への臭気の放散が防
止されるという利点がある。
途中に、このようなガスの分子を吸着する吸着手段(例
えば、活性炭、高分子フィルター等)を設置してもよい
。この場合には、装置1の設置環境への臭気の放散が防
止されるという利点がある。
【0063】なお、上述したような排気ファン17のO
N・OFF制御は、感光材料Sの処理中のみならず、非
処理時においても行なうのが好ましい。
N・OFF制御は、感光材料Sの処理中のみならず、非
処理時においても行なうのが好ましい。
【0064】本構成例では、上部空間12の温度および
湿度と外部環境の温度および湿度の双方を検出すること
により、状況の変化に対応した適正な制御を行なうこと
ができる。すなわち、例えば、上部空間12と外部環境
との温度差および/または湿度差を求め、これに対応し
た排気ファン17作動の限界点を、それぞれ設定するこ
とができるので、季節の相違や装置設置地域の相違等に
対しても適正な制御を行なうことができる。
湿度と外部環境の温度および湿度の双方を検出すること
により、状況の変化に対応した適正な制御を行なうこと
ができる。すなわち、例えば、上部空間12と外部環境
との温度差および/または湿度差を求め、これに対応し
た排気ファン17作動の限界点を、それぞれ設定するこ
とができるので、季節の相違や装置設置地域の相違等に
対しても適正な制御を行なうことができる。
【0065】これをさらに詳しく説明する。上部空間1
2に結露を生じるか否かは、■上部空間12の湿度(水
分量)、および■外部環境から導入される空気の温度・
湿度(水分量)のバランスで決定される。
2に結露を生じるか否かは、■上部空間12の湿度(水
分量)、および■外部環境から導入される空気の温度・
湿度(水分量)のバランスで決定される。
【0066】もし外部の温度が低いと、この空気を上部
空間に導入したとき、上部空間12の温度が低くなり、
一般的に結露が発生し易くなる。逆に、外部の温度が高
いと、一般的に結露は発生しにくくなる。
空間に導入したとき、上部空間12の温度が低くなり、
一般的に結露が発生し易くなる。逆に、外部の温度が高
いと、一般的に結露は発生しにくくなる。
【0067】これらの細部については、例えば、湿り空
気線図を用いて、外気の温度・湿度および上部空間12
の温度・湿度をモニターしてコントロールする。
気線図を用いて、外気の温度・湿度および上部空間12
の温度・湿度をモニターしてコントロールする。
【0068】なお、本発明では、第2センサ24は必ず
しも設置しなくてもよい。この場合でも、外部環境の条
件、すなわち外部環境の温度および/または湿度は、制
御手段19に入力するのが好ましい。この入力方法とし
ては、例えば、感光材料処理装置1に設けられたキーボ
ード等の外部入力手段(図示せず)により、人為的に入
力する方法が挙げられる。
しも設置しなくてもよい。この場合でも、外部環境の条
件、すなわち外部環境の温度および/または湿度は、制
御手段19に入力するのが好ましい。この入力方法とし
ては、例えば、感光材料処理装置1に設けられたキーボ
ード等の外部入力手段(図示せず)により、人為的に入
力する方法が挙げられる。
【0069】次に、本発明において代表的に使用される
処理液として、現像液、定着液および水洗水(安定液)
について説明する。
処理液として、現像液、定着液および水洗水(安定液)
について説明する。
【0070】本発明において、現像液に用いる現像主薬
には、良好な性能を得やすいという点で、ジヒドロキシ
ベンゼン類と1−フェニル−3−ピラゾリドン類の組合
せ、またはジヒドロキシベンゼン類とp−アミノフェノ
ール類の組合せが好ましい。
には、良好な性能を得やすいという点で、ジヒドロキシ
ベンゼン類と1−フェニル−3−ピラゾリドン類の組合
せ、またはジヒドロキシベンゼン類とp−アミノフェノ
ール類の組合せが好ましい。
【0071】また、アスコルビン酸類をハイドロキノン
類の代替として用いてもよい。
類の代替として用いてもよい。
【0072】本発明に用いるジヒドロキシベンゼン現像
主薬としては、ハイドロキノン、クロロハイドロキノン
、ブロムハイドロキノン、イソプロピルハイドロキノン
、メチルハイドロキノン、2,3−ジクロロハイドロキ
ノン、2,5−ジクロロハイドロキノン、2,3−ジプ
ロムハイドロキノン、2,5−ジメチルハイドロキノン
などがあるが、特にハイドロキノンが好ましい。
主薬としては、ハイドロキノン、クロロハイドロキノン
、ブロムハイドロキノン、イソプロピルハイドロキノン
、メチルハイドロキノン、2,3−ジクロロハイドロキ
ノン、2,5−ジクロロハイドロキノン、2,3−ジプ
ロムハイドロキノン、2,5−ジメチルハイドロキノン
などがあるが、特にハイドロキノンが好ましい。
【0073】本発明に用いるp−アミノフェノール系現
像主薬としては、N−メチル−p−アミノフェノール、
p−アミノフェノール、N−(β−ヒドロキシエチル)
−p−アミノフェノール、N−(4−ヒドロキシフェニ
ル)グリシン、2−メチル−p−アミノフェノール、p
−ベンジルアミノフェノール等があるが、なかでもN−
メチル−p−アミノフェノールが好ましい。
像主薬としては、N−メチル−p−アミノフェノール、
p−アミノフェノール、N−(β−ヒドロキシエチル)
−p−アミノフェノール、N−(4−ヒドロキシフェニ
ル)グリシン、2−メチル−p−アミノフェノール、p
−ベンジルアミノフェノール等があるが、なかでもN−
メチル−p−アミノフェノールが好ましい。
【0074】本発明に用いる3−ピラゾリドン系現像主
薬としては、1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フ
ェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フ
ェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラ
ゾリドン、1−フェニル−4,4−ジヒドロキシメチル
−3−ピラゾリドン、1−フェニル−5−メチル−3−
ピラゾリドン、1−p−アミノフェニル−4,4−ジメ
チル−3−ピラゾリドン、1−p−トリル−4,4−ジ
メチル−3−ピラジリドン、1−p−トリル−4−メチ
ル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドンなどがあ
る。
薬としては、1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フ
ェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フ
ェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラ
ゾリドン、1−フェニル−4,4−ジヒドロキシメチル
−3−ピラゾリドン、1−フェニル−5−メチル−3−
ピラゾリドン、1−p−アミノフェニル−4,4−ジメ
チル−3−ピラゾリドン、1−p−トリル−4,4−ジ
メチル−3−ピラジリドン、1−p−トリル−4−メチ
ル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドンなどがあ
る。
【0075】現像主薬は、通常0.001〜1.2モル
/リットルの量で用いられるのが好ましい。
/リットルの量で用いられるのが好ましい。
【0076】現像で用いる亜硫酸塩の保恒剤としては、
亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、
亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫
酸カリウムなどがある。亜硫酸塩は、0.2モル/リッ
トル以上、特に0.4モル/リットル以上が好ましい。 また、上限は2.5モル/リットルとするのが好ましい
。
亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、
亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫
酸カリウムなどがある。亜硫酸塩は、0.2モル/リッ
トル以上、特に0.4モル/リットル以上が好ましい。 また、上限は2.5モル/リットルとするのが好ましい
。
【0077】現像液のpHは、8.5〜13の範囲のも
のが好ましく、さらに好ましくはpH9〜12の範囲で
ある。
のが好ましく、さらに好ましくはpH9〜12の範囲で
ある。
【0078】現像液のpHの設定のために用いるアルカ
リ剤には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、第三リン酸ナトリウム、第三
リン酸カリウム如きpH調整剤を含む。
リ剤には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、第三リン酸ナトリウム、第三
リン酸カリウム如きpH調整剤を含む。
【0079】また、特開昭62−186259号(ホウ
酸塩)、特開昭60−93433号(例えば、サッカロ
ース、アセトオキシム、5−スルホサルチル酸)、リン
酸塩、炭酸塩などの緩衝剤を用いてもよい。
酸塩)、特開昭60−93433号(例えば、サッカロ
ース、アセトオキシム、5−スルホサルチル酸)、リン
酸塩、炭酸塩などの緩衝剤を用いてもよい。
【0080】また、現像液には硬膜剤を添加してもよい
。硬膜剤としては、ジアルデヒド系硬膜剤またはその重
亜硫酸塩付加物が好ましく用いられるが、その具体例を
挙げれば、グルタルアルデヒド、またはこの重亜硫酸塩
付加物等がある。
。硬膜剤としては、ジアルデヒド系硬膜剤またはその重
亜硫酸塩付加物が好ましく用いられるが、その具体例を
挙げれば、グルタルアルデヒド、またはこの重亜硫酸塩
付加物等がある。
【0081】上記成分以外の添加剤としては、臭化ナト
リウム、臭化カリウム、沃化カリウムの如き現像抑制剤
:エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ジメチルホルムアミド、メチルセロ
ソルブ、ヘキシレングリコール、エタノール、メタノー
ルの如き有機溶剤:1−フェニル−5−メルカプトテト
ラゾール、2−メルカプトベンツイミダゾール−5−ス
ルホン酸ナトリウム塩等のメルカプト系化合物、5−ニ
トロインダゾール等のインダゾール系化合物、5−メチ
ルベンツトリアゾール等のベンツトリアゾール系化合物
等のカブリ防止剤を含んでもよく、Research
Disclosure 第176巻、No.17643
、第XXI 頁(12月号、1978年)に記載された
現像促進剤や、さらに必要に応じて色調剤、界面活性剤
、消泡剤、硬水軟化剤、特開昭56−106244号記
載のアミノ化合物等が挙げられる。
リウム、臭化カリウム、沃化カリウムの如き現像抑制剤
:エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ジメチルホルムアミド、メチルセロ
ソルブ、ヘキシレングリコール、エタノール、メタノー
ルの如き有機溶剤:1−フェニル−5−メルカプトテト
ラゾール、2−メルカプトベンツイミダゾール−5−ス
ルホン酸ナトリウム塩等のメルカプト系化合物、5−ニ
トロインダゾール等のインダゾール系化合物、5−メチ
ルベンツトリアゾール等のベンツトリアゾール系化合物
等のカブリ防止剤を含んでもよく、Research
Disclosure 第176巻、No.17643
、第XXI 頁(12月号、1978年)に記載された
現像促進剤や、さらに必要に応じて色調剤、界面活性剤
、消泡剤、硬水軟化剤、特開昭56−106244号記
載のアミノ化合物等が挙げられる。
【0082】本発明においては、現像液に銀汚れ防止剤
、例えば特開昭56−24347号に記載の化合物を用
いることができる。
、例えば特開昭56−24347号に記載の化合物を用
いることができる。
【0083】また、現像液には、特開昭56−1062
44号、ヨーロッパ公開特許0136582号に記載の
アルカノールアミン等のアミノ化合物を用いることがで
きる。
44号、ヨーロッパ公開特許0136582号に記載の
アルカノールアミン等のアミノ化合物を用いることがで
きる。
【0084】定着液は、定着剤としてチオ硫酸塩を含む
水溶液であり、pH3.8以上、好ましくはpH4.0
〜7.0であり、さらに好ましくはpH4.2〜5.5
である。
水溶液であり、pH3.8以上、好ましくはpH4.0
〜7.0であり、さらに好ましくはpH4.2〜5.5
である。
【0085】定着剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チ
オ硫酸アンモニウム等があるが、定着速度の点からチオ
硫酸アンモニウムが特に好ましい。定着剤の使用量は適
宜変えることができ、一般には、約0.1〜3.0モル
/リットルである。
オ硫酸アンモニウム等があるが、定着速度の点からチオ
硫酸アンモニウムが特に好ましい。定着剤の使用量は適
宜変えることができ、一般には、約0.1〜3.0モル
/リットルである。
【0086】定着剤には、硬膜剤として作用する水溶性
アルミニウム塩を含んでもよく、それらには、例えば塩
化アルミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明ばん等があ
る。
アルミニウム塩を含んでもよく、それらには、例えば塩
化アルミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明ばん等があ
る。
【0087】定着液には、酒石酸、クエン酸、グルコン
酸またはそれらの誘導体を単独で、あるいは2種以上添
加することができる。これらの化合物は定着液中に0.
005モル/リットル以上含むものが有効であり、0.
01〜0.03モル/リットルが特に有効である。
酸またはそれらの誘導体を単独で、あるいは2種以上添
加することができる。これらの化合物は定着液中に0.
005モル/リットル以上含むものが有効であり、0.
01〜0.03モル/リットルが特に有効である。
【0088】定着液には、所望により保恒剤(例えば、
亜硫酸塩、重亜硫酸)、pH緩衝剤(例えば、酢酸、硼
酸)、pH調整剤(例えば、硫酸)、硬水軟化能のある
キレート剤や特開昭62−78551号記載の化合物を
含むことができる。
亜硫酸塩、重亜硫酸)、pH緩衝剤(例えば、酢酸、硼
酸)、pH調整剤(例えば、硫酸)、硬水軟化能のある
キレート剤や特開昭62−78551号記載の化合物を
含むことができる。
【0089】なお、本発明における水洗水は、狭義の水
洗水のみではなく、いわゆる安定化液も含む概念である
。
洗水のみではなく、いわゆる安定化液も含む概念である
。
【0090】水洗水としては、水道水、イオン交換水、
蒸留水等が用いられる。また、水洗水には、次のような
防ばい手段を施すこともできる。
蒸留水等が用いられる。また、水洗水には、次のような
防ばい手段を施すこともできる。
【0091】防ばい手段としては、特開昭60−263
939号に記された紫外線照射法、同60−26394
0号に記された磁場を用いる方法、同61−13163
2号に記されたイオン交換樹脂を用いて純水にする方法
、特開昭62−115154号、同62−153952
号、同62−220951号、同62−209532号
に記載の防菌剤を用いる方法等が適用可能である。
939号に記された紫外線照射法、同60−26394
0号に記された磁場を用いる方法、同61−13163
2号に記されたイオン交換樹脂を用いて純水にする方法
、特開昭62−115154号、同62−153952
号、同62−220951号、同62−209532号
に記載の防菌剤を用いる方法等が適用可能である。
【0092】さらには、L.F.West. ”Wat
er Quality Criteria” Ph
oto. Sci. & Eng. Vol.9 No
.6(1965)、 M.W.Beach, ”Mic
robiological Growths in M
otion−picture Processing”
SMPTE Journal Vol.85, (1
976)、 R.O.Deegan, ”Photo
Processing WashWater Bioc
ides ”J. Imaging Tech 10,
No.6(1984) 等の文献や、特開昭57−8
542号、同57−58143号、同58−10514
5号、同57−132146号、同58−18631号
、同57−97530号、同57−157244号等に
記載されている防菌剤、防ばい剤、界面活性剤等を必要
に応じ併用することもできる。
er Quality Criteria” Ph
oto. Sci. & Eng. Vol.9 No
.6(1965)、 M.W.Beach, ”Mic
robiological Growths in M
otion−picture Processing”
SMPTE Journal Vol.85, (1
976)、 R.O.Deegan, ”Photo
Processing WashWater Bioc
ides ”J. Imaging Tech 10,
No.6(1984) 等の文献や、特開昭57−8
542号、同57−58143号、同58−10514
5号、同57−132146号、同58−18631号
、同57−97530号、同57−157244号等に
記載されている防菌剤、防ばい剤、界面活性剤等を必要
に応じ併用することもできる。
【0093】さらに、水洗槽4やストックタンク180
には、必要に応じ、R.T.Kreiman 著、J.
Image.Tech 10,(6)242頁(198
4)に記載されたイソチアゾリン系化合物、Resea
rch Disclosure 第205巻、No.
20526 (1981年、5月号)に記載されたイソ
チアゾリン系化合物、同第228巻、No. 2284
5 (1983年、4月号) に記載されたイソチアゾ
リン系化合物、特開昭62−209532号に記載され
た化合物等を、防菌剤(Microbiocide)と
して併用することもできる。
には、必要に応じ、R.T.Kreiman 著、J.
Image.Tech 10,(6)242頁(198
4)に記載されたイソチアゾリン系化合物、Resea
rch Disclosure 第205巻、No.
20526 (1981年、5月号)に記載されたイソ
チアゾリン系化合物、同第228巻、No. 2284
5 (1983年、4月号) に記載されたイソチアゾ
リン系化合物、特開昭62−209532号に記載され
た化合物等を、防菌剤(Microbiocide)と
して併用することもできる。
【0094】その他、「防菌防ばいの化学」堀口博著、
三共出版(昭和57)、「防菌防ばい技術ハンドブック
」日本防菌防ばい学会・博報堂(昭和61)に記載され
ているような化合物を含んでもよい。
三共出版(昭和57)、「防菌防ばい技術ハンドブック
」日本防菌防ばい学会・博報堂(昭和61)に記載され
ているような化合物を含んでもよい。
【0095】本発明に適用可能な感光材料Sとしては、
特に限定はなく、一般の黒白またはカラー感光材料に適
用できるが、そのなかでも黒白感光材料が好ましい。
特に限定はなく、一般の黒白またはカラー感光材料に適
用できるが、そのなかでも黒白感光材料が好ましい。
【0096】特に、医療用直接撮影X−レイ感光材料、
医療用間接撮影X−レイ感光材料のようなX−レイ感光
材料、医療画像のレーザープリンター用写真感光材料、
CRT画像記録用感光材料、印刷用感光材料の処理に適
用するのが好ましい。
医療用間接撮影X−レイ感光材料のようなX−レイ感光
材料、医療画像のレーザープリンター用写真感光材料、
CRT画像記録用感光材料、印刷用感光材料の処理に適
用するのが好ましい。
【0097】本発明の感光材料処理装置1は、自動現像
機の他、例えば、湿式の複写機、プリンタープロセッサ
ー、ビデオプリンタープロセッサー、写真プリント作成
コインマシーン、検版用カラーペーパー処理機等にも適
用することができる。
機の他、例えば、湿式の複写機、プリンタープロセッサ
ー、ビデオプリンタープロセッサー、写真プリント作成
コインマシーン、検版用カラーペーパー処理機等にも適
用することができる。
【0098】以上、本発明の感光材料処理装置を図示の
構成例について説明したが、本発明はこれに限定される
ものではない。
構成例について説明したが、本発明はこれに限定される
ものではない。
【0099】例えば、処理槽の構成、配置は、図示のよ
うな現像槽、定着槽および水洗槽を並設したものに限ら
ず、例えば、現像槽、漂白槽、定着槽、漂白定着槽、反
転槽、調整槽、水洗槽、安定化槽のうち、適宜のものを
適宜数組み合せたもの等が可能である。
うな現像槽、定着槽および水洗槽を並設したものに限ら
ず、例えば、現像槽、漂白槽、定着槽、漂白定着槽、反
転槽、調整槽、水洗槽、安定化槽のうち、適宜のものを
適宜数組み合せたもの等が可能である。
【0100】また、処理槽の上部空間を囲むカバー部材
は、各処理槽毎に設置されていてもよく、また一部の処
理槽に対してのみ設置されていてもよい。
は、各処理槽毎に設置されていてもよく、また一部の処
理槽に対してのみ設置されていてもよい。
【0101】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、過
度の排気をしないので、処理液の蒸発や劣化が最小限に
抑えられ、かつカバー部材の内側等での結露や感光材料
処理装置の付属機器、周辺機器等の腐食を防止すること
ができる。
度の排気をしないので、処理液の蒸発や劣化が最小限に
抑えられ、かつカバー部材の内側等での結露や感光材料
処理装置の付属機器、周辺機器等の腐食を防止すること
ができる。
【図1】本発明の感光材料処理装置の構成例を示す断面
側面図である。
側面図である。
【図2】図1に示す感光材料処理装置における各処理槽
の上部付近の構成を拡大して示す断面側面図である。
の上部付近の構成を拡大して示す断面側面図である。
1 感光材料処理装置1C
本体ケース 100 挿入口 2 現像槽 20 現像液 3 定着槽 30 定着液 4 水洗槽 40 水洗水 5 搬送ローラ6
クロスオーバーローラ7
ガイド 8 スクイズ部81
スクイズローラ9
乾燥部 91 ケーシング 92 搬送ローラ 93 ガイド 94 温風供給手 95 送風ファン 96 ヒータ 97 ダクト 10、11 循環ポンプ 12 上部空間 13 カバー部材 14、15 開口 16 ダクト 17 排気ファン 170 電源 18 ストックタンク185
管 186 バルブ 187 水源 19 制御手段 20、21、22 ライン 23 第1センサ 24 第2センサ S 感光材料
本体ケース 100 挿入口 2 現像槽 20 現像液 3 定着槽 30 定着液 4 水洗槽 40 水洗水 5 搬送ローラ6
クロスオーバーローラ7
ガイド 8 スクイズ部81
スクイズローラ9
乾燥部 91 ケーシング 92 搬送ローラ 93 ガイド 94 温風供給手 95 送風ファン 96 ヒータ 97 ダクト 10、11 循環ポンプ 12 上部空間 13 カバー部材 14、15 開口 16 ダクト 17 排気ファン 170 電源 18 ストックタンク185
管 186 バルブ 187 水源 19 制御手段 20、21、22 ライン 23 第1センサ 24 第2センサ S 感光材料
Claims (2)
- 【請求項1】 ハロゲン化銀写真感光材料を湿式で処
理する感光材料処理装置であって、処理液が入れられた
少なくとも1つの処理槽と、前記ハロゲン化銀写真感光
材料を所定経路で搬送する搬送手段と、前記処理槽の上
部空間を囲むカバー部材と、前記処理槽の上部空間にあ
る気体を外部に排気する排気手段と、前記処理槽の上部
空間の温度および湿度を検出する第1センサと、前記第
1センサでの検出値および外部環境の条件に基いて前記
排気手段の作動・停止を制御する制御手段とを有するこ
とを特徴とする感光材料処理装置。 - 【請求項2】 ハロゲン化銀写真感光材料を湿式で処
理する感光材料処理装置であって、処理液が入れられた
少なくとも1つの処理槽と、前記ハロゲン化銀写真感光
材料を所定経路で搬送する搬送手段と、前記処理槽の上
部空間を囲むカバー部材と、前記処理槽の上部空間にあ
る気体を外部に排気する排気手段と、前記処理槽の上部
空間の温度および湿度を検出する第1センサと、外部環
境の温度および湿度を検出する第2センサと、前記第1
センサおよび第2センサでの検出値に基いて前記排気手
段の作動・停止を制御する制御手段とを有することを特
徴とする感光材料処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16498091A JPH04362639A (ja) | 1991-06-10 | 1991-06-10 | 感光材料処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16498091A JPH04362639A (ja) | 1991-06-10 | 1991-06-10 | 感光材料処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04362639A true JPH04362639A (ja) | 1992-12-15 |
Family
ID=15803547
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16498091A Pending JPH04362639A (ja) | 1991-06-10 | 1991-06-10 | 感光材料処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04362639A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001044872A1 (de) * | 1999-12-18 | 2001-06-21 | Agfa-Gevaert Aktiengesellschaft | Nassbehandlungsvorrichtung |
JP2008119670A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 重亜硫酸ナトリウムの貯蔵装置 |
-
1991
- 1991-06-10 JP JP16498091A patent/JPH04362639A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001044872A1 (de) * | 1999-12-18 | 2001-06-21 | Agfa-Gevaert Aktiengesellschaft | Nassbehandlungsvorrichtung |
JP2008119670A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 重亜硫酸ナトリウムの貯蔵装置 |
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