JPH02161431A - 感光材料処理装置 - Google Patents

感光材料処理装置

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JPH02161431A
JPH02161431A JP31704988A JP31704988A JPH02161431A JP H02161431 A JPH02161431 A JP H02161431A JP 31704988 A JP31704988 A JP 31704988A JP 31704988 A JP31704988 A JP 31704988A JP H02161431 A JPH02161431 A JP H02161431A
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JP
Japan
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photosensitive material
processing
tank
space
cover
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Pending
Application number
JP31704988A
Other languages
English (en)
Inventor
Eiichi Tadokoro
榮一 田所
Masahito Hirano
雅人 平野
Takashi Nakamura
敬 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、感光材料に湿式処理を施すための感光材料処
理装置に関する。
〈従来の技術〉 感光材料の湿式処理は、処理槽内に貯留されている処理
液(現像液、定着液、洗浄水等)中に感光材料を搬送し
て浸漬することにより行われる。
従来、このような処理を行う感光材料処理装置として第
9図に示す構造のものがある。 同図に示す感光材料処
理装置1eを用いて感光材料を連続的に現像処理する場
合、処理液20.30.40の液面が開放しているため
、処理液が蒸発し、または、空気との接触により液温の
低下や酸化等の変質、劣化を生じるという問題がある。
処理液の蒸発が生じると、液面付近と処理槽底部での処
理液の濃度に差異が生じ、均一な現像を阻害するおそれ
があり、しかも処理液の減少が著しくなるため、処理液
を余分に補給しなければならない。 さらに、蒸発した
処理液が処理装置の各所に付着して汚れの原因となり、
また、処理装置を設置した室内の環境に変化(例えば昇
温、昇温、悪臭放散)を与久るという欠点もある。
また、処理液が変質、劣化を生じれば、現像特性に悪影
響を及ぼすことは明らかである。
特に、大気中の02ガス、CO2ガスの混入により現像
液のpHの変化が生じると、処理された感光材料は、濃
度、階調等の写真性が変化し不安定となる。
また、例えば処理液は適正な現像を行うために20〜6
0℃程度に保持される必要があるが、熱の放散が著しい
と、前記適正温度に保持するために多(の熱量を必要と
する。
そこで、このような処理液の蒸発、劣化等を防止するた
めに、処理槽の処理液液面付近に固定蓋や浮蓋のような
蓋体を設け、液面を覆うことが考えられる。
しかるに、感光材料に搬送経路の設計上から、または搬
送手段の設置に伴い、処理液液面(・1近に蓋体を設け
ることが困難な場合がある。 例えば、製版用感光材料
の現像処理のための自動現像機の場合には、処理体止時
において、ローラの周面を湿潤状態に保つために、搬送
ローラを処理液に対し半没状態で設置する。 従って、
この搬送ローラのある部分には蓋体を設置することがで
きず、または蓋体に搬送ローラを回避する開口を設けね
ばならず、よって、液面の被覆面積が少な(なり、上記
処理液の蒸発、劣化等の防止効果が十分に得られない。
また、液面を被覆する蓋体は、構造が複雑であり、しか
も、着脱が容易ではない。 従って処理槽のメンテナン
スの際には、不便である。
〈発明が解決しようとする課題〉 本発明の目的は、上述した従来技術の欠点を解消し、設
計上の制約等を受けることな(、処理液の蒸発、温度の
低下および変質、劣化を防止することができる感光材料
処理装置を提供することにある。
く課題を解決するための手段〉 このような目的は、以下の本発明により達成される。
即ち、本発明は、少な(とも現像機能を有する処理液が
入った処理槽と、該処理槽内を感光材料を所定経路で搬
送する搬送手段とを有する感光材料処理装置であって、 少なくとも前記処理槽の上部空間を含む空間を実質的に
密閉しうるカバーを設置したことを特徴とする感光材料
処理装置である。
また、感光材料の前記処理槽への搬入口に該搬入口を開
閉しうるシャッター手段を設置した感光材料処理装置で
あるのが好ましい。
そして、前記空間の体積を■、その空間と外部とが連通
ずる部分の実質開口面積をSとしたとき、前記空間の密
閉度S (am2)/V (am3)が、S (am”
)/V (cm”)≦0.060となる感光材料処理装
置であるのが好ましい。
また、前記空間の密閉度は、処理体止時における前記空
間の1時間当りの空気交換率が250X 100%以下
である感光材料処理装置であるのが好ましい。
く作用〉 このような構成の感光材料処理装置によれば、現像機能
を有する処理液が入った処理槽の上方に設置されたカバ
ーにより、少なくとも該処理槽の上部空間を含む空間を
外気より実質的に密閉するため、処理液からの水蒸気の
蒸散や熱の放散が抑制され、また処理液の酸化、劣化の
原因となる外気中の02やCO2の処理液への混入も阻
止される。
〈実施例〉 以下、本発明の感光材料処理装置を、添付図面に示す好
適実施例について詳細に説明する。
第1図、第2図、第3図および第4図は、それぞれカバ
ーの構成が異なる本発明の感光材料処理装置の構成例を
模式的に示す断面正面図である。 なお、各図において
、同様の部材は同符号を用い、また同様の事項について
はその説明を省略する。
第1図に示すように、感光材料処理装置1aは、現像槽
2、定着槽(または漂白・定着槽)3および水洗槽4が
この順に並設され、これら各処理槽の内部および外部に
、感光材料Sを所定経路で搬送するための搬送手段5が
設置された構成となっている。
現像槽2内には、現像機能を有する処理液としての現像
液20が、定着槽3内には、定着機能を有する処理液と
しての定着液(または漂白・定着液)30が、水洗槽4
内には、洗浄機能を有する処理液としての洗浄水40が
それぞれ所定の液面レベルまで満たされている。
搬送手段5は、以下に説明する搬送ローラ51、クロス
オーバローラ52、ガイド53および反転ガイド54等
で構成されている。
各処理槽2.3.4内には、それぞれ感光材料をU字状
(1ターン)に搬送するような配置で対をなす搬送ロー
ラ51が設置されており、また、現像槽2と定着槽3と
の上部境界部および定着槽3と水洗槽4との上部境界部
には、それぞれ対をなすクロスオーバローラ52が設置
されている。
また、各ローラS1.52間には、感光材料Sを搬送経
路の下流側にあるローラへ適正に誘導するためのガイド
53.54が設置されている。
このうち、各処理槽2.3.4の底部、搬入口の近傍お
よびクロスオーバローラ52の両側部に設置された反転
ガイド54は、円弧状の湾曲面を有し、該湾曲面に沿っ
て感光材料の進行方向を約90°または180°転換す
るガイドである。
搬送ローラ51およびクロスオーバローラ52は、処理
液に対する耐薬品性を何する材料として、例えば塩化ビ
ニル、フェノール樹脂、ナイロン等のプラスチック、も
、シ<は金属等で構成され、これらの全部または一部が
駆動回転して感光材料を挟持、搬送するようになってい
る。
なお、各ローラ51.52の駆動回転は、モータ、ギア
等で構成される所定の駆動系(図示せず)により行われ
る。
第1図に示すように、現像槽2の上部には、少なくとも
現像槽2の上部空間を含む第1空間6aを囲むカバー6
が設置されている。 このカバー6の図中左側部は現像
槽2の左側槽壁の頂部に接合され、カバー6の図中右端
は、定着槽3の中央部付近まで延長され、その下方へ延
びるカバー側壁61の下端は定着液30の液面下に没入
している。
これにより第1空間6aは、カバー6により実質的に密
閉され、よって、現像液20の蒸発、液温の低下、変質
、劣化等が防止される。
カバー6の図中左側部には、感光材料を処理槽内へ搬入
するための搬入口65が形成され、該搬入口65には、
搬入口を開閉しうるシャッター手段7が設置されている
このシャッター手段の具体的な構成例を第5図〜第8図
に基づいて説明する。
第5図に示すシャッター手段7は、カバー6の搬入口6
5の内側に向って円弧状断面の溝650.650が対向
して形成され、これらの溝650内に円柱状(溝の径よ
り若干小径)の遮蔽部材70が回動可能に収納された構
成のものである。
この遮蔽部材70には感光材料Sが通過するためのスリ
ット71が形成されている。 このスリット71の幅は
、搬入口35の幅にほぼ等しいものとするのが好ましい
遮蔽部材70は、通常はスリット71が搬入口65の感
光材料通過方向に対し所定角度θ傾斜した状態(第5図
中の点線で示す位置)で停止し、よって搬入口65を閉
止した状態となっている。 また、感光材料Sが搬入口
65を通過する際には、遮蔽部材70は、スリット7】
が感光材料通過方向と平行になる状態まで回動しく第5
図中の実線で示す位置)、よって搬入口65が開放した
状態となり、感光材料Sの通過が可能となる。
このような遮蔽部材70の回動は、第6図に示す駆動手
段73により行われる。 遮蔽部材70の回転軸72の
一端は、駆動源であるロータリーソレノイド74のロー
ター回転軸に連結されている。
ロータリーソレノイド74の端子はリレースイッチ75
を介して電源76に接続されている。 また5搬入ロ6
5の近傍には感光材料Sの存在を検出するセンサー(例
えば、タッチリミットスイッチ)77が設置され、該セ
ンサー77はマイクロコンピュータ等を内蔵する制御部
78に接続されている。 この制御部78はリレースイ
ッチ75とも接続されている。
ロータリーソレノイド74は、通電時には内部のロータ
ーが所定角度、即ち前記スリット71の傾斜角θだけ回
動してその状態を維持しつづけ(搬入口65が開放状態
)、切電すると元の位置(搬入口65が閉止状態)に復
帰するよう作動するものである。
センサー77により感光材料Sの存在(搬入口65への
接近)が検出されているときには、制御部78によりリ
レースイッチ75がONとなるように制御し、これによ
りロータリーソレノイド74に通電されて遮蔽部材70
が第5図の実線で示す状態となり、搬入口65が開放す
る。 逆にセンサー77により感光材料Sの存在が検出
されていないときには、制御部78によりリレースイッ
チ75がOFFとなるように制御し、これによりロータ
リーソレノイド74は切電されて遮蔽部材70が第5図
の点線で示す状態となり、搬入口65が閉止する。
このような構成とすることにより、感光材料Sの搬送と
シャッター手段7による搬入口65の開閉を同期的に行
うことができる。
なお、遮蔽部材70を回動させるための駆動手段と前述
した感光材料搬送用の駆動系を共用した構成のものでも
よい。
第7図は、遮蔽部材を回動するための駆動手段73を必
要としないシャッター手段の構成例を示す。
同図に示すシャッター手段8は、カバー6の搬入口65
の内側に向って円弧状断面の溝651が形成されており
、この溝651内には、断面がほぼ半円形(溝の径より
若干小径)の遮蔽部材80が収納された構成のものであ
る。 この遮蔽部材80は、回転軸81を有し、この回
転軸81の両端は、それぞれ軸受(図示せず)を介して
カバー6に軸支され、これにより遮蔽部材80が溝65
1内で回動し得るようになっている。
遮蔽部材80は自由に回動することが可能となっており
、通常(感光材料Sの非通過時)はストッパ一部68に
当接した状態(第7図中の実線で示す位置)で停止し、
よって搬入口65を閉止した状態となっている。
また、図中矢印方向へ進行する感光材料Sが搬入口65
を通過する際には、遮蔽部材80は、その感光材料Sに
押圧されて図中反時計回りに所定角度回動じ(第7図中
の点線で示す位置) よって搬入口65が開放した状態
となり、感光材料Sの通過が可能となる。
なお、カバー6の搬入口65付近には、感光材料Sを導
入し易いようにするためのテーバを設け、または、その
他のガイド等(図示せず)を設けておくのがよい。
遮蔽部材80を回動させる手段、特に感光材料の非通過
時に遮蔽部材80をストッパ一部68に当接した状態に
維持しておく手段としては、遮蔽部材80の回転軸81
の一端部にアーム82を固着し、該アーム82の先端に
重り83を取り付けた構造とし、これにより回転軸81
に図中時計回りのトルクを与久、遮蔽部材80の平坦面
端部をストッパ一部68に当接、密着させる。
感光材料Sが搬入口65を通過する際には、感光材料S
の押圧により回転軸81に付与されたトルクに抗して遮
蔽部材80が図中反時計回りに回動し、搬入口65が開
放する。
感光材料Sが搬入口65を通過した後は、回転軸81に
付与された重り83によるトルクにより、再び遮蔽部材
80が図中時計回りに回動し、ストッパ一部68に当接
して搬入口65が閉止される。
なお、遮蔽部材80を回動させる手段は、上記構成に限
らず、バネ等の付勢手段により回転軸81に回転力を与
えるような構成としてもよい。
第8図は、変形可能な遮蔽部材で構成されたシャッター
手段9を示す。 同図に示すように、カバー6に形成さ
れた搬入口65には、この搬入口の長さ(感光材料Sの
幅方向の長さ)とほぼ等しい長さを有する一対の遮蔽部
材90.90が装着されている。
遮蔽部材90は、実質的に変形しないフランジ部91と
、先端へ向って厚さが漸減し、感光材料Sの進入によっ
て容易に変形可能な薄肉部92とで構成され、遮蔽部材
90は、そのフランジ部91にて例えばボルト93等の
固定具により搬入口65の対向する両縁部69.69に
取り付けられている。
この遮蔽部材90は、例えばNR,lR1SBR% B
R% CR,NBR,NIR。
NBIRのようなジエン系ゴム、IIR1EPM%EP
DM、U、Q、CM等の非ジエン系ゴム等の各種ゴム、
フッソ樹脂、シリコーン樹脂、テフロン等の軟質樹脂等
の弾性材料(エラストマー)、またはこれらのうち2以
上を組み合せたもので構成されており、感光材料Sの非
搬送時には、薄肉部92の先端部同士が密着し、搬入口
65を遮蔽する。 なお、通常、薄肉部92間士の密着
力は、薄肉部の弾性力により与えられているが、薄肉部
92内に磁性材料を配合しく例えば、ゴム磁石のような
もの)。
薄肉部同士を吸引させて密着力を与え、または高めるこ
とも可能である。
第8図に示すように、感光材料Sが搬入口65を通過す
る際には、感光材料Sが遮蔽部材90.90の薄肉部9
2.92間に進入し、密着していた薄肉部92.92が
感光材料Sの厚さ分だけ押し広げられる。 この状態で
感光材料Sは、その両面が薄肉部92.92の内側面に
接触しつつ図中矢印方向へ通過する。 このとき、感光
材料Sは、その両薄肉部の内側面に接触しつつ通過する
ため、感光材料の通過中においても、搬入口65を界い
に第1空間6aと外部とが連通せず、よって、処理液の
蒸発、温度低下および変質、劣化を防止する効果が高い
。 なお、感光材料Sの乳剤面は、薄肉部92との摺動
によるもキズ付き等の悪影響はほとんど生じないが、こ
れが無視できない場合、または、摺動抵抗の減少を図る
場合には、薄肉部92の内側面に平滑化処理を施し、ま
たは内側面にシリコーン、テフロン等の潤滑剤をコーテ
ィングする等の表面処理を施すことで対応すればよい。
感光材料Sが搬入口65を通過した後は、遮蔽部材90
は元の状態に復帰し、薄肉部材92同士が密着して、再
び搬入口65を遮蔽する。
なお、図示の構成例では、搬入口65に対し一対の遮蔽
部材90を装着した構成となっているが、本発明では搬
入口65に対し感光材料Sの進行方向に沿って二対以上
の遮蔽部材を多段に設置することもできる。 この場合
には、搬入口65の遮蔽効果が増す。
なお、第7図および第8図に示すシャッター手段は、第
5図のものと比べ、遮蔽部材を回動するための駆動源や
その制御手段等が不要であるため、装置の構造をより簡
素化することができる。
なお、シャッター手段の構成は、上述したものに限定さ
れないことは言うまでもない。 また、本発明では、シ
ャッター手段の設置は必須ではない。 ただし、シャッ
ター手段を設置しない場合には、処理液の蒸発等を防止
するために、搬入口65を狭幅のスリット状とする等、
搬入口65の開口面積を可能な限り小さくする必要があ
る。
上述のごときシャッター手段7.8または9を設置した
としても、第1空間6aは完全に密閉されるわけではな
い。
そこで、本発明では、第1空間6aの密閉度を次のよう
にするのが好ましい。
カバー6により囲まれる空間(第1空間6a)の体積な
V、その空間と外部とが連通ずる部分(主に搬入口65
)の実質開口面積をSとしたとき、その空間の密閉度S
 (cm”)/V (cm”)は、S (cm”)/V
 (cm’)≦0.060、より好ましくはO≦S (
cm”)/V (cm”)≦0.006とする。
また観点を変えれば、カバー6により囲まれる空間(第
1空間6a)の密閉度は、その空間の処理体止時におけ
る1時間当りの空気交換率が、250X100%以下、
より好ましくは0−10X100%とする。
密閉度を上記いずれかの範囲とすることにより、上記本
発明の作用、効果を十分に得ることができる。
第2図に示す感光材料処理装置1bは、カバー6の図中
右端がさらに水洗槽4の中央部付近まで延長され、その
下方へ延びるカバー側壁62の下端が洗浄水40の液面
下に没入した構成となっている。 これにより、カバー
側壁61と62との間に密閉された第2空間6bが形成
される。
このような構成の感光材料処理装置1bによれば、現像
槽2の上部空間および定着槽3の上部空間を含む空間、
即ち、第1空間6aおよび第2空間6bがカバー6によ
り実質的に密閉されているため、現像液20のみならず
定着液30の蒸発、液温の低下、変質、劣化等も防止さ
れる。
第3図に示す感光材料処理装置1cは、前記感光材料処
理装置1bのカバー6に現像槽2と定着槽3との間の槽
壁の頂部に接合する隔壁63を設けたものである。 こ
れにより、現像槽2の上部空間である第1空間6aと、
定着槽2の上部左半分側の空間(隔壁63とカバー側壁
61との間の空間)である第3空間6Cとに分離される
隔壁63には、感光材料Sが通過するための通過口66
が形成されており、該通過口66には、前記と同様のシ
ャッター手段7が設置されている。 ここで、通過口6
6に設置されるシャッター手段は、第7図または第8図
に示すシャッター手段8または9であってもよい。 特
に、シャッター手段9を設置した場合には、遮蔽部材9
0が感光材料Sの表面に付着した現像液を拭い取るスキ
ージの機能をも果たすため、現像液20の定着液30へ
の持ち込み(キャリーイン)を防止することができ、定
着液30の劣化($j!!能低下)を抑制することがで
きるという利点がある。
なお、本構成例では、シャッタ手段7等の設置のために
、現像槽2と定着槽3との上部境界部にはクロスオーバ
ローラ52゛は設置されていない。
このような構成の感光材料処理装置ICによれば、上記
効果に加え、第1空間6aと第3空間6cとが隔壁63
により分離されているため、現像液20の蒸気と定着液
30の蒸気とが混合せず、よってそれらに含まれる成分
が反応し、析出物を生じることが防止される。
なお、感光材料処理装置ICにおいては、カバー6のカ
バー側壁61を省略した構成としてもよい。
第4図に示す感光材料処理装置1dは、現像槽2の上部
空間(第1空間6a)のみをカバー6で密閉し、定着槽
3および水洗槽4の上部空間は開放した構成のものであ
る。 この構成例においても、通過口66に前記と同様
のシャッター手段7等が設置され、同様に析出物の発生
を防止することができる。
なお、外気との接触による処理液の変質、劣化(酸化)
や、処理液の蒸散による室内環境への悪影響は、特に現
像槽2において顕著に生じるため、現像槽2の上部空間
のみを密閉した感光材料処理装置1dにおいても本発明
の効果を十分に達成することができる。
第1図〜第4図に示す構成例は、現像槽、定着槽および
水洗槽を並設したものであるが、処理槽の構成、配置は
、これに限定されない。
例えば、現像槽単独のもの、または、現像槽に、漂白槽
、定着槽、漂白・定着槽、洗浄槽、安定化槽、反転槽お
よび水洗槽のうち、適宜のものを適宜数組み合せたもの
等が可能である。
従って、使用される処理液は、処理される感光材料に応
じて適宜変更される。
本発明の感光材料処理装置は黒白現像処理にも、またカ
ラー現像処理にも適用される。
黒白現像液としては、ジヒドロキシベンゼン類(例えば
ハイドロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(・
例えばN−メチル−p−アミノフェノール)等の現像主
薬を単独あるいは組合わせて用いることができる。
黒白現像処理の中でも、本発明の処理装置は米国特許第
4,224,401号、同第4゜168.977号、同
第4,166.742号、同第4,311,781号、
同第4,272.606号、同第4..211,857
号、同第4,243,739号等に記載されているヒド
ラジン誘導体を用いて超硬調の画像を得る方法に適用す
るのが特に好適である。
この超硬調画像形成方法においては、現像主薬としてジ
ヒドロキシベンゼン系現像主薬を用い、補助現像主薬と
してp−アミノフェノール系現像主薬または3−ピラゾ
リドン系現像主薬を用いるのが好ましい。
ジヒドロキシベンゼン系現像主薬は、通常0.05〜0
.8モル/12の量で用いられるのが好ましい。 また
、ジヒドロキシベンゼン類と1−フェニル−3−ピラゾ
リドン類またはp−アミノ−フェノール類との組合わせ
を用いる場合には、前者をO;OS〜0.5モル/℃、
後者を0.06モル/β以下の量で用いるのが好ましい
上記超硬調画像形成方法に用いられる現像液の特長の1
つは、従来のリス現像液に比べて多量の亜硫酸塩保恒剤
の添加を許容しうることである。
亜硫酸塩保恒剤としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カ
リウム、亜硫酸リチウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重
亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウム
等がある。 亜硫酸塩は0.3モル/β以上用いられる
が、余りに多量添加すると現像液中で沈殿して液汚染を
引き起こすので、上限は1.2モル/忍とするのが好ま
しい。
また、この現像液には現像促進剤として第三級アミン化
合物、特に米国特許第4,269゜929号に記載の化
合物を含有することができる。
現像液にはその他、ホウ酸、ホウ砂、第三リン酸ナトリ
ウム、第三リン酸カリウムの如きpH緩衝剤、それ以外
に特開昭60−93433号に記載のpH緩衝剤を用い
ることができる。
;臭化カリウム、沃化カリウムの如き現像抑制剤;エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ジメチルホルムアミド、メチルセロソルブ
、ヘキシレングリコール、エタノール、メタノールの如
き有機溶剤;5−ニトロインダゾール等のインダゾール
系化合物、2−メルカプトベンツイミダゾール−5−ス
ルホン酸ナトリウム、5−メチルベンツトリアゾールな
どのベンツトリアゾール系化合物等のカブリ防止剤ない
しは黒ボッ(blackpepper)防止剤;を含ん
でもよく、特に5−ニトロインダゾール等の化合物を用
いるときは、ジヒドロキシベンゼン系現像主薬や亜硫酸
塩保恒剤を含む部分とは別の部分にあらかじめ溶解して
おき使用時に画部分を混合して水を加えること等が一般
的である。 さらに、5−ニトロインダゾールの溶解せ
しめる部分をアルカリ性にしておくと黄色(着色し取扱
い等に便利である。
さらに、必要に応じて色調剤、界面活性剤、硬水軟化剤
、硬膜剤などを含んでもよい。 現像液のpHとしては
、好ましくはpH9,5以上の高pHのもの、より好ま
しくは10〜12.3である。
定@液としては、一般に用いられている組成のものを用
いることができる。 定着剤としては、チオ硫酸塩、チ
オシアン酸塩の他、定着剤としての効果が知られている
有機硫黄化合物を用いることができる。 定着液には硬
膜剤として水溶性アルミニウム塩、例えば硫酸アルミニ
ウム、明パンなどを含んでもよい。 ここで水溶性アル
ミニウム塩の量としては通常O〜3、OgAj2/fl
である。 また酸化剤としてエチレンジアミン四酢酸F
e (III) 錯塩を用いてもよい。
カラー現像液は、一般に、発色現像主薬を含むアルカリ
性水溶液から構成される。
発色現像主薬は一級芳香族アミン現像剤、例えばフェニ
レンジアミン類(例えば4−アミノ−N、N−ジエチル
アニリン、3−メチル−4−アミノ−N、N−ジエチル
アニリン、4−アミノ−N−エチル−N−β−ヒドロキ
シエチルアニリン、3−メチル−4−アミノ−N−エチ
ル−N−β−ヒドロキシエチルアニリン、3−メチル−
4−アミノ−N−エチル−N−β−メタンスルホンアミ
ドエチルアニリン、4−アミノ−3−メチル−N−エチ
ル−N−β−メトキシエチルアニリン等)を用いること
ができる。
発色現像液は、そのほかpH緩衝剤、現像抑制剤ないし
・カブリ防止剤等を含むことができる。
また必要に応じて、硬水軟化剤、保恒剤、有機溶剤、現
像促進剤、色素形成カプラー、競争カプラー かぶらせ
剤、補助現像薬、粘性付与剤、ポリカルボン酸系キレー
ト剤、酸化防止剤、アルカリ剤、溶解助剤、界面活性剤
、消泡剤等を含んでいてもよい。
漂白液としては、漂白剤として、ポリカルボン酸の鉄塩
、赤血塩、ブロメート化合物、コバルトへキサミン等を
含むものが挙げられる。  これらのうちフェリシアン
化カリ、エチレンジアミン四酢酸鉄(1)ナトリウムお
よびエチレンジアミン四酢酸鉄(Ill)アンモニウム
は特に有用である。
また、上記漂白剤および定着剤の双方を含む漂白・定着
7夜とすることもできる。
定着液(漂白・定着液)には、定着剤の他に、通常、亜
硫酸ナトリウム等の保恒剤、酸剤、緩衝剤、硬膜剤など
の定着助剤を含有させることができる。
また、漂白液(漂白・定着液)には、米国特許第3,0
42,520号、同第3,241゜966号、特公昭4
5−8506号、特公昭45−8636号などに記載の
漂白促進剤、特開昭53−65732号に記載のチオー
ル化合物の他、種々の添加剤を加えることもできる。
洗浄水としては、水(水道水、蒸留水、イオン交換水等
)またはこの水に必要に応じて添加剤を含有させること
ができる。
この添加剤は、例えば、無機リン酸、アミノポリカルボ
ン酸、有機リン酸等のキレート剤、各種バクテリアや藻
の増殖を防止する殺菌剤、防ばい剤、マグネシウム塩、
アルミニウム塩等の硬膜剤、乾燥負荷、ムラを防止する
た゛めの界面活性剤等が挙げられる。 または、L、E
West、 ”Water Quality Cr1t
eria”Phot、Sci、andEng、、vol
、9 No、6 P341−359(1965)等に記
載の化合物を用いることもできる。
安定液としては、色素画像を安定化する処理液が用いら
れる。 例えば、pH3〜6の緩衝能を有する液、アル
デヒド(例えば、ホルマリン)を含有した液などを用い
ることができる。 安定液には、必要に応じて蛍光増白
剤、キレート剤、殺菌剤、防ばい剤、硬膜剤、界面活性
剤等を用いることができる。
本発明の感光材料処理装置に適用される感光材料の種類
は特に限定されず、例えば、カラーネガフィルム、カラ
ー反転フィルム、カラー印画紙、カラーポジフィルム、
カラー反転印画紙、製版用写真感光材料、X線写真感光
材料、黒白ネガフィルム、黒白印画紙、マイクロ用感光
材料等、各種感光材料が挙げられる。
なお、本発明の感光材料処理装置は、例えば、湿式の複
写機、自動現像機、プリンタープロセッサー、ビデオプ
リンタープロセッサー写真プリント作成コインマシーン
、検版用カラーペーパー処理機等の各種感光材料処理装
置に適用することができる。
以上、本発明の構成例を挙げて説明したが、本発明は、
これらに限定されるものではないことは言うまでもない
〈実験例〉 以下、本発明の実験例について説明する。
(本発明例1〜4) 各々第1図〜第4図に示す構造のカバーを装着した自動
現像機を用い、感光材料を処理した。 その条件は次の
通りである。
〈自動現像機仕様〉 ■)現像槽、定着槽および水洗槽の3槽構造2)処理液
液量は、各種ともに12.5423)装置稼動時の空気
接触液面積は、各種ともに2000 cm’ 4)シャッター手段は、第6図、第7図および第8図に
示す構造 5)処理液温度 現像液=34℃ 定着液=32〜33℃ 洗浄液;14〜18℃ 6)カバーの密閉性は、カバーの内外の空気の流通が実
質的にない状態 く稼動モード〉 1)24時間連続テストランニング 2)テスト環境は常温、常温 3)大金サイズの感光材料を1枚処理 4)感光材料搬送速度は22 、5 mm/secく感
光材料〉 2.5モル%の沃化物を含有する0、3−の立方体沃臭
化銀乳剤に、アンヒドロ−5,5−ジクロロ−9−エチ
ル−3,3°−ビス(3−スルホプロピル)オキサカル
ボシアニンヒドロキシド・ナトリウム塩(増感色素)を
230mg/銀1モル、ヒドラジン誘導体を1.3g/
銀1モルおよびポリエチレングリコール(分子量的10
00)を300 mg/銀1モル加え、さらに5−メチ
ルベンツトリアゾール、4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a、7−テトラザインデン、ポリエチルアク
リレートの分散物および2−ヒドロキシ−1,3,5−
1−リアジンナトリウム塩を加えた。
このようにして調製した塗布液をポリエチレンテレフタ
レートフィルム支持体上に銀塗布量が4.0g/m”、
ゼラチン塗布量が2.5g/m2になるように塗布し、
乾燥してフィルムを得た。
このフィルムに150線マゼンタコンタクトスクリーン
を用いてセンシトメトリー用露光ウェッジを通して露光
した。
く処理液処方〉 ■現像液組成  (現像液1℃当りの添加量)ハイドロ
キノン         50.0gN−メチル−p−
アミノフェ ノール1/2H,So、      0.3g水酸化ナ
トリウム        18.0g5−スルホサリチ
ル酸      55.0g亜硫酸カリウム     
    110.0gエチレンジアミン四酢酸二 ナトリウム           1.0g臭化カリウ
ム          10.0g5−メチルベンツト
リアゾール  0.4g2−メルカプトベンツイミダ ゾール−5−スルホン酸    0.2g3−(5−メ
ルカプトテトラ ゾール)ベンゼンスルホン酸 ナトリウム  ゛        0.2gC,H。
\ トルエンスルホ〕/酸ナトリウム 水を加えて 1℃ 水酸化カリウムを加えてpHをl 調製 ■定着液 チオ硫酸アンモニウム ヂオ硫酸ナトリウム・5水塩 亜硫酸ナトリウム ニトリロトリ酢酸 酒石酸 氷酢酸 硫酸アルミニウム 水を加えて II2 アンモニアを加えてpuを4゜ ■洗浄水 水道水 7に調製 8.0g 1.8に 80g 5g 8g 0.4g g 0g g (本発明5〜7) 第4図に示す構造のカバーを装着した同型の自動現像機
を用い、上記と同様の条件で感光材料の処理を行った。
カバーで囲まれる空間の密閉度、即ち、感材入側および
出側のシャッター手段におけるカバー内外での空気の出
入量を変化させた。
第4図中の第1空間6aの体積v0、感材入側および出
側のシャッター手段における実質上の開口面積(合計)
Soおよび密閉度S o  (cm” ) / V o
  (cm’ )を下記表1に示す。
また、処理体止時における第1空間6aの1時間当りの
空気交換率Xについても併せて表1に示す6 表      1 (比較例1) カバーを設けない同型の自動現像機(第9図)を用い、
上記と同様の条件で感光材料の処理を行った。
(比較例2) 各処理槽の上部に密閉性のない防塵用のカバーを設けた
同型の自動現像機を用い、上記と同様の条件で感光材料
の処理を行った。
カバーには、カバー内側の空気を排気する排気ファンを
設け、実効排気量20m”7時間で排気を行った。
上記各本発明側1〜7、比較例1.2について、処理液
の空気酸化1.農縮度および析出の有無を調べた。 そ
の結果を表2に示す。
なお、各項目の評価は次の通りである。
[空気酸化] 処理液の酸化の度合を示す。 表2中の数値は、スター
ト時のpHと24時間経過後のpHO差分ΔpHを示す
。 ΔpHが小であるほど酸化が少ない。
[濃縮度] 処理液中の水分の蒸発量の原処方に対する重量比で示す
。 この値が小であるほど処理液は濃縮されていないこ
ととなる。
[析出の有無] 処理後、カバー、ガイド、ローラ、槽壁等に発生する析
出物の有無を目視により判別した結果を示す。
上記表2に示すように、本発明例1〜7は、いずれも処
理液、特に現像液の酸化および濃縮がほとんどない。 
また、現像槽の上部空間と定着槽の上部空間を区画した
本発明例3〜7では、析出の発生も防止されている。
これに対し、比較例1および2では、現像液の酸化およ
び濃縮があり、特に排気を行っている比較例2では、析
出はないものの、処理液の酸化および濃縮が著しい。
〈発明の効果〉 本発明の感光材料処理装置によれば、感光材料の搬送手
段を構成するローラ、ガイド等の配置上から制約を受け
ることなく、処理液、特に現像機能を有する処理液の蒸
発、温度低下および変質、劣化を防止することができる
従って、処理液の酸化、濃縮等による処理性の低下防止
、処理液加温のためのエネルギー節減、処理液の補充量
の減少および外部環境への悪影響防止等が図れる。
また、処理液液面付近に液面被覆用の蓋体を設ける場合
に比べ、カバーの着脱が容易であるため、処理槽のメイ
ンテナンスを行う等の際の作業性が向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第4図は、それぞれ本発明の感光材料処理装置
の構成例を模式的に示す断面正面図である。 第5図および第6図は、それぞれ本発明の感光材料処理
装置に用いられるシャッター手段の構成例を示す断面側
面図および正面図である。 第7図および第8図は、それぞれシャッター手段の他の
構成例を示す断面側面図である。 第9図は、従来の感光材料処理装置の構成例を模式的に
示す断面正面図である。 符号の説明 1a〜1e・・・感光材料処理装置 2・・・現像槽 20・・・現像液 3・・・定着槽 30・・・定着液 4・・・水洗槽 40・・・洗浄水 5・・・搬送手段 51・・・搬送ローラ 52・・・クロスオーバローラ 53・・・ガイド 54・・・反転ガイド 6・・・カバー 6a・・・第1空間 6b・・・第2空間 6c・・・第3空間 61.62・・・カバー側壁 63・・・隔壁 65・・・搬入口 650.651・・・溝 66・・・通過口 68・・・ストッパ一部 69・・・縁部 7.8.9・・・シャッター手段 70.80.90・・・遮蔽部材 71・・・スリット 72・・・回転軸 73・・・駆動手段 74・・・ロータリーソレノイド 75・・・リレースイッチ 76・・・電源 77・・・センサー 78・・・制御部 81・・・回転軸 82・・・アーム 83・・・重り 91・・・フランジ部 92・・・薄肉部 93・・・ボルト FIG。 FIG、2 S・・・感光材料 FIG、3 FfG、4 FIG、5 FIG、7 FIG、8

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)少なくとも現像機能を有する処理液が入った処理
    槽と、該処理槽内を感光材料を所定経路で搬送する搬送
    手段とを有する感光材料処理装置であって、 少なくとも前記処理槽の上部空間を含む空間を実質的に
    密閉しうるカバーを設置したことを特徴とする感光材料
    処理装置。
JP31704988A 1988-12-15 1988-12-15 感光材料処理装置 Pending JPH02161431A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03231245A (ja) * 1990-02-06 1991-10-15 Konica Corp 感光材料処理装置
JPH04308845A (ja) * 1991-04-05 1992-10-30 Fuji Photo Film Co Ltd 感光材料処理装置
US5422698A (en) * 1992-09-30 1995-06-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive material processing apparatus

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